【技术实现步骤摘要】
废气入口结构、等离子反应模块以及废气处理设备
本技术涉及废气处理
,特别是涉及一种废气入口结构、等离子反应模块以及废气处理设备。
技术介绍
在半导体、面板显示器、LED、太阳能等领域中,化学气相沉积、刻蚀、离子注入、扩散等生产工序过程中都会产生工艺废气。以半导体制造为例,其设备在生产时排放的气体可以分为如下三类:第一类是易燃易爆气体,如氢气、甲烷、硅烷等;第二类是有毒腐蚀性气体,如砷化氢、磷化氢、三氟化硼、三氟化氮、四氟化硅、氯气、氟化氢、氟气、氨气等;第三类是温室效应气体,如氢氟碳化合物、全氟碳化合物、甲烷、一氧化二氮、六氟化硫等。这些气体不仅污染环境,还会对人直接造成伤害,因此这些气体在排放到周围环境之前必须得到有效处理。目前,常用的废气处理方式包括“电加热分解液淋式”、“燃气燃烧液淋式”、和“等离子水洗式”等,都是先将废气处理成稳定的副生物,然后在液淋区进行液淋冲洗。如图1所示,等离子水洗式的废气处理装置包括点火装置100和反应腔200,点火装置100安装于反应腔200的顶部,点火装置100中央的喷火口1 ...
【技术保护点】
1.一种废气入口结构,其特征在于,包括:/n耐火块体(1),所述耐火块体(1)内部设有中空通道(11),所述中空通道(11)与所述耐火块体(1)的上表面和所述耐火块体(1)的下表面连通;/n至少两个进气管道(2),所有的所述进气管道(2)穿入所述耐火块体(1),每个所述进气管道(2)的出气口(21)与所述中空通道(11)的侧面连通;每个所述进气管道(2)的出气口(21)向下设置;/n所述耐火块体(1)的上表面设有上安装部(3),所述耐火块体(1)的下表面设有下安装部(4)。/n
【技术特征摘要】
1.一种废气入口结构,其特征在于,包括:
耐火块体(1),所述耐火块体(1)内部设有中空通道(11),所述中空通道(11)与所述耐火块体(1)的上表面和所述耐火块体(1)的下表面连通;
至少两个进气管道(2),所有的所述进气管道(2)穿入所述耐火块体(1),每个所述进气管道(2)的出气口(21)与所述中空通道(11)的侧面连通;每个所述进气管道(2)的出气口(21)向下设置;
所述耐火块体(1)的上表面设有上安装部(3),所述耐火块体(1)的下表面设有下安装部(4)。
2.根据权利要求1所述废气入口结构,其特征在于,每个所述进气管道(2)的出气口(21)的轴向与水平面之间的夹角的取值范围为45°-90°。
3.根据权利要求1所述废气入口结构,其特征在于,沿着所述耐火块体(1)的外侧面的周向设置有隔热部(5)。
4.根据权利要求3所述废气入口结构,其特征在于:所述隔热部(5)为冷却水腔。
5.根据权利要求4所述废气入口结构,其特征在于:每个所述进气管道(2)与所述隔热部(5)之间设有保温分隔件(6)。
6.根据权利要求5所述废气入口结构,其特征在于:所述保温分隔件...
【专利技术属性】
技术研发人员:张伟明,乔宗尧,
申请(专利权)人:上海盛剑环境系统科技股份有限公司,
类型:新型
国别省市:上海;31
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