内置偏光片的制备方法及偏光片技术

本发明专利技术提供内置偏光片的制备方法及偏光片，采用负性光阻搭配接触式曝光图案化制备出光阻柱，再采用钢材料作为金属掩膜板，沉积第二金属材料后，利用选择性腐蚀剂去除金属掩膜板，制备出200nm线宽的金属线栅层作为内置偏光。相较于现有技术中的纳米压印等方式制备方法，本发明专利技术通过现有工艺即可制备得到，有效地降低内置偏光制备成本，有利于量产。

【技术实现步骤摘要】
内置偏光片的制备方法及偏光片
本专利技术涉及显示
，具体涉及一种内置偏光片的制备方法及偏光片。
技术介绍
液晶显示器(LiquidCrystalDisplay，LCD)显示需要偏光片作为起偏收偏器，在量子点(QD)应用在彩色滤光片(Colorfilter，CF)技术中，可以提升色域及视角，但由于量子点材料具有改变偏光状态的作用，光线偏光经过量子点偏光状态改变，再经过面板外的收偏器无法达成预设的明暗效果，所以必须搭配将偏光片由面板外移至面板内，让线偏光先经过收偏器，达到预设的明暗程度，再让透过的光激发量子点，但目前内置偏光的技术尚不成熟，采用纳米压印等方式制备内置偏光，无法大型化，制备成本高，良率低。因此急需提供一种内置偏光片的制备方法，降低生产成本。
技术实现思路
本专利技术提供一种内置偏光片的制备方法，以现有工艺制备出内置偏光片，降低内置偏光制备成本。为了达到上述目的，本专利技术提供一种内置偏光片的制备方法，包括：提供一基板；涂覆一层光阻材料并接触式曝光图案化形成光阻柱于所述基板上；溅射一第一金属材料本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种内置偏光片的制备方法，其特征在于，包括：/n提供一基板；/n涂覆一层光阻材料并接触式曝光图案化形成光阻柱于所述基板上；/n溅射一第一金属材料于所述光阻柱以及所述基板上；/n浸泡于有机溶剂中，超声波震动分解所述光阻柱以及覆盖在所述光阻柱上的第一金属材料得到金属掩膜板；/n沉积一第二金属材料与所述基板以及所述金属掩膜板上；/n去除掩膜板形成一金属线栅层与所述基板上。/n

【技术特征摘要】
1.一种内置偏光片的制备方法，其特征在于，包括：
提供一基板；
涂覆一层光阻材料并接触式曝光图案化形成光阻柱于所述基板上；
溅射一第一金属材料于所述光阻柱以及所述基板上；
浸泡于有机溶剂中，超声波震动分解所述光阻柱以及覆盖在所述光阻柱上的第一金属材料得到金属掩膜板；
沉积一第二金属材料与所述基板以及所述金属掩膜板上；
去除掩膜板形成一金属线栅层与所述基板上。


2.如权利要求1所述的内置偏光片的制备方法，其特征在于，
在所述涂覆一层光阻于并并接触式曝光图案化形成光阻柱于所述基板上的步骤中，具体包括：
涂覆一层光阻材料于所述基板上形成光阻层；
将掩膜板设于所述光阻的上，所述掩膜板包括交替设置的遮挡片以及开口；
使用接触式曝光机发出光线照射所述光阻层；
滴加显影液于所述光阻层上，形成所述光阻柱。


3.如权利要求2所述的内置偏光片的制备方法，其特征在于，
所述光阻材料为负性光阻，则所述光阻柱为对应所述开口处的光阻层。


4.如权利要求2所述的内置偏光片的制备方法，其特征在于，
所述光阻材料为正性光阻，则所述光阻柱为对应所述遮挡片处的光阻层。


5.如权利要求2所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：邵冬梅，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44