一种针对沾染毒害化学物质的环保无损敏感设备消毒剂制造技术

本发明专利技术涉及一种针对沾染毒害化学物质的环保无损敏感设备消毒剂，属于新型材料开发和应用领域.该消毒剂以氢氟醚为主剂，低级醇为助剂，表面活性剂和烷烃助剂为性能调节剂，其能够对沾染毒害化学物质的敏感设备如光学、通讯、电子等设备进行消毒，具有与材料相容性好、低毒性、不燃烧、不破坏臭氧层等特点。同时使用该消毒剂，通过擦洗、浸渍、冲洗等手段，可以消除敏感设备表面沾染的毒害化学物质农药、毒害工业化学品等。

【技术实现步骤摘要】
一种针对沾染毒害化学物质的环保无损敏感设备消毒剂
本专利技术涉及一种针对沾染毒害化学物质的环保无损敏感设备消毒剂的配方和制备方法，属于新型材料开发和应用领域，用于消除敏感设备表面沾染的毒害化学物质农药、毒害工业化学品等。
技术介绍
由于管理不善、意外事故、突发自然灾害等原因造成的毒害化学物质(如：农药和毒害工业化学品等)的泄露，已成为公共安全领域的重大威胁之一。而随着这些化学品的泄漏，会造成车辆设施、仪器设备等内部和表面染毒。必须对这些染毒物品进行有效消毒后，才能避免其继续造成危害。但一些电子、光学、通讯、数字化设备如智能手机、数码照相机/摄像机、掌上电脑，各种通讯设备等，对于水非常敏感，只要少量水进入设备，即可导致设备内的电路元件，短路、烧毁，从而导致存储数据和信息丢失、设备无法使用、损坏等问题，因而这类设备也被称为敏感设备。对于敏感设备沾染的毒害化学物质，如果采用通常的强碱、强氧化类水基洗消液对设备进行消毒，必将导致电路发生短路，表面涂层及内部零件被氧化腐蚀等问题，严重影响敏感设备的性能和寿命，即传统的水基消毒方法并不适合用本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种针对沾染毒害化学物质的环保无损敏感设备消毒剂，其特征在于该消毒剂的原料质量百分组成如下：/n氢氟醚主剂：79～95％/n低级醇助剂：0.1～7％/n烷烃助剂：0.1～7％/n表面活性剂：0.1～7％/n以上各组份之和为100％；/n其中：氢氟醚主剂为C

【技术特征摘要】
1.一种针对沾染毒害化学物质的环保无损敏感设备消毒剂，其特征在于该消毒剂的原料质量百分组成如下：
氢氟醚主剂：79～95％
低级醇助剂：0.1～7％
烷烃助剂：0.1～7％
表面活性剂：0.1～7％
以上各组份之和为100％；
其中：氢氟醚主剂为C4F9OCH3、C4F9OC2H5和CHF2CF2OCH2CF3的一种以上，低级醇类助剂为乙醇、丙醇、异丙醇、正丁醇中的一种以上，烷烃类助剂为溴丙烷、溴丁烷、溴己烷中的一种以上，表面活性剂为三烷基氯化铵、三十六烷基甲基氯化铵、溴化十六烷基三甲胺中的一种以上。


2.根据权利要求1所述的一种针对沾染毒害化学物质的环保无损敏感设备消毒剂，其特征在于该消毒剂的物化性质如下：
密度：1.35～1.65kg/l，
25℃对水的溶解度：≤0.1g/100g，
沸点：55-70℃，
半致死剂量LD50：＞1000mg/kg，
臭...

【专利技术属性】
技术研发人员：习海玲，韩世同，许文彩，李战国，赵三平，
申请(专利权)人：中国人民解放军军事科学院防化研究院，
类型：发明
国别省市：北京;11