静电喷射喷头阵列的电场分布控制装置、方法、设备及计算机存储介质制造方法及图纸

本发明专利技术提出一种静电喷射喷头阵列的电场分布控制装置、方法、设备及计算机存储介质，该装置包括移动平台及平台上的喷射基底、高压直流电源、射流观察成像系统、液体存储和输送装置、静电喷射喷头阵列、电场分布调节金属环和调节环外加高压电源。本发明专利技术利用高度、位置、形状可以调节的电场分布调节金属环来调节得到所需要得到的电场分布，一般是使得每个喷头周围的电场分布都基本均匀一致，从而得到高度一致的多路阵列的静电喷射，尤其是可以控制边缘喷头的喷射射流的方向使之克服中间喷头电场和射流的排斥力得到垂直向下的静电喷射。本发明专利技术控制系统具有实用性高、控制精准、简单易行的优点，在工业化生产中具有很大的应用潜力。

【技术实现步骤摘要】
静电喷射喷头阵列的电场分布控制装置、方法、设备及计算机存储介质
本专利技术涉及静电喷射
，具体涉及静电喷射喷头阵列的电场分布控制装置、方法、设备及计算机存储介质。
技术介绍
静电喷射本质上是利用静电力控制液体的聚集或者弥散从而产生带有静电的液柱（称为射流）或者细小液滴的技术。静电喷射的物理原理已经在20世纪60年代由G.Taylor和J.R.Melcher等人提出的泄漏介质模型得到解释，其利用静电场诱导液体产生变形形成泰勒锥，进而得到细小的射流或液滴（其直径比喷口直径小一到两个数量级）。静电喷射技术设备简单、制造成本低，常温、常压下可在多种基底上实现微纳结构的快速、高精度制造，更能满足柔性电子器件的大批量连续生产要求。静电喷射技术以其独特的优点，已经在众多领域显示出了巨大的发展潜力和市场前景。要实现大批量生产，单个喷头的效率往往是不够的，要求使用多个喷头组成静电喷射喷头阵列。通常要求这些喷头工作在完全相同的条件下，使用同一个高压电源供电，其液体流量等也尽量控制到一样，以得到尽量相同的均匀的射流或液滴。<br>但是，因为各个本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.静电喷射喷头阵列的电场分布控制装置，其特征是包括：/n设置于移动平台及平台上的喷射基底，与所述喷射基底电性连接的高压直流电源，与所述高压直流电源电性连接的静电喷射喷头阵列，与所述静电喷射喷头阵列通过管路连接的液体存储和输送装置，以及与所述基底和静电喷射喷头阵列电性连接的调节环组件。/n

【技术特征摘要】
1.静电喷射喷头阵列的电场分布控制装置，其特征是包括：
设置于移动平台及平台上的喷射基底，与所述喷射基底电性连接的高压直流电源，与所述高压直流电源电性连接的静电喷射喷头阵列，与所述静电喷射喷头阵列通过管路连接的液体存储和输送装置，以及与所述基底和静电喷射喷头阵列电性连接的调节环组件。


2.根据权利要求1所述的静电喷射喷头阵列的电场分布控制装置，其特征在于：所述高压直流电源的接地端与移动平台及平台上的喷射基底相连；所述高压直流电源的高压端与静电喷射喷头阵列中的每个喷头相连，同时液体存储和输送装置给静电喷射喷头阵列提供静电喷射用的液体；所述电场分布调节环围绕静电喷射喷头阵列的各个喷头放置。


3.根据权利要求1所述的静电喷射喷头阵列的电场分布控制装置，其特征在于：所述调节环组件包括与所述高压直流电源共地的调节环外加高压电源，以及与所述调节环外加高压电源的高压端相连的电场分布调节环。


4.根据权利要求3所述的静电喷射喷头阵列的电场分布控制装置，其特征在于：所述电场分布调节环上设有用于自由调节其相对于喷头开口处高度的高度调节装置。


5.根据权利要求3所述的静电喷射喷头阵列的电场分布控制装置，...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄玉娟，陈雪，
申请(专利权)人：南京微毫科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32