显示设备制造技术

公开了一种显示设备，所述显示设备包括：基底；像素层，位于基底上，包括多个显示器件；封装构件，封装像素层；光调制层，位于封装构件上；功能层，位于光调制层上；以及结合层，定位在光调制层与功能层之间以结合光调制层和功能层，其中，光调制层具有与多个显示器件对应的开口，并且其中，结合层填充开口且具有比光调制层的折射率大的折射率。

【技术实现步骤摘要】
显示设备本申请要求于2019年12月10日在韩国知识产权局(KIPO)提交的第10-2019-0163976号韩国专利申请的优先权和权益，该韩国专利申请的全部内容通过引用包含于此。
一个或更多个实施例涉及一种显示设备。
技术介绍
随着对显示设备的需求已经增长，对能够用于各种目的的显示设备的需求也已经增加。与该趋势一致，显示设备已经变得更大且更薄，并且对提供精确和生动的颜色同时具有大尺寸和小厚度的显示设备的需求也已经增加。
技术实现思路
一个或更多个实施例的方面涉及一种具有改善的光提取效率的显示设备。另外的方面将在以下描述中部分地阐述，并且部分地通过该描述将是明显的，或者可以通过公开的给出的实施例的实践来获知。根据一个或更多个实施例，显示设备包括：基底；像素层，位于基底上方，包括多个显示器件；封装构件，封装像素层；光调制层，位于封装构件上方；功能层，位于光调制层上方；以及结合层，定位在光调制层与功能层之间以结合光调制层和功能层，其中，光调制层具有与多个显示器件对应的开口，并且其中，结合层填充开口且具有比光调制层的折射率大的折射率。结合层可以包括结合膜和分布在结合膜中的多个高折射颗粒，并且其中，结合层的折射率可以等于或大于约1.6。结合层可以包括约30wt％至约60wt％的多个高折射颗粒，并且其中，结合层的折射率可以是约1.6至约1.8。结合层还可以包括分布在结合膜中的散射颗粒，并且其中，散射颗粒的平均颗粒直径可以比多个高折射颗粒的平均颗粒直径大。>开口中的每个的内壁可以包括倾斜的表面，并且其中，光调制层的厚度可以是约1.5μm至约2.5μm。内壁的下端可以具有凹进的形状。显示设备还可以包括位于封装构件与光调制层之间且包含感测电极的输入感测层。感测电极可以包括形成网格结构的网格线，并且其中，网格线可以定位为与光调制层叠置。多个显示器件中的每个可以包括像素电极、位于像素电极上的包含发射层的中间层以及位于中间层上的对电极，并且其中，从发射层发射的光的一部分可以从开口之中的对应的开口的内壁与结合层的界面全内反射。功能层可以包括偏振层。根据一个或更多个实施例，显示设备包括：显示器件，用于发射光；光调制层，位于显示器件上且具有与显示器件对应的开口；结合层，填充开口且定位在光调制层上方；以及功能层，定位在结合层上方且经由结合层结合到光调制层，其中，光调制层具有第一折射率，并且结合层具有比第一折射率大的第二折射率，并且其中，从显示器件发射的光的一部分可以从开口的内壁与结合层之间的界面全内反射。显示器件可以包括像素电极、布置在像素电极上的包含发射层的中间层以及位于中间层上的对电极，并且光调制层可以位于覆盖像素电极的边缘的绝缘层上。显示设备还可以包括位于显示器件与光调制层之间的封装构件。显示设备还可以包括位于封装构件与光调制层之间且包含感测电极的输入感测层。结合层可以包括结合膜和分布在结合膜中的多个高折射颗粒。结合层可以包括约30wt％至约60wt％的多个高折射颗粒。结合层的第二折射率可以是约1.6至约1.8。结合层还可以包括分布在结合膜中的散射颗粒，并且其中，散射颗粒的平均颗粒直径可以比多个高折射颗粒的平均颗粒直径大。开口的内壁可以包括倾斜的表面，并且光调制层的厚度是约1.5μm至约2.5μm。内壁的下端可以具有凹进的形状。附图说明通过以下结合附图的描述，公开的示例实施例的以上和其他方面、特征及优点将更加明显，在附图中：图1是根据实施例的显示设备的示意性透视图；图2是沿着图1的线I-I’截取的示意性剖视图的示例；图3是图1的显示设备的一部分的示意性平面图；图4A和图4B是各自示出了图1的显示设备的像素的示例的电路图；图5是示意性地示出了图1的显示设备的像素布置的示例的局部平面图；图6是沿着图5的线II-II’截取的示意性剖视图的示例；图7是示意性地示出了图1的显示设备的光调制层的示例的局部平面图；图8是沿着图7的线III-III’截取的示意性剖视图的示例；图9是图8的一部分的示意性剖视图；图10是图9的区域A的放大示意图；图11是沿着图1的线I-I’截取的示意性剖视图的另一示例；图12是图11的输入感测层的示例的示意性平面图；图13是沿着图12的线IV-IV’截取的示意性剖视图的示例；图14A是图13的第一导电层的平面图，图14B是图13的第二导电层的平面图；以及图15是沿着图14B的线V-V’截取的示意性剖视图的示例。具体实施方式现在将更详细地参照实施例，实施例的示例在附图中示出，其中，同样的附图标记始终表示同样的元件。在这方面，本实施例可以具有不同的形式，并且不应被解释为限于在此所阐述的描述。因此，下面通过参照附图描述实施例仅用于解释本说明书的方面。如在此所使用的，术语“和/或”包括相关所列项中的一个或更多个的任何组合和所有组合。在整个公开中，表述“a、b和c中的至少一个(种/者)”指仅a、仅b、仅c、a和b两者、a和c两者、b和c两者、a、b和c中的全部或它们的变型。将理解的是，尽管可以在此使用术语“第一”、“第二”等来描述各种组件，但是这些组件不应受到这些术语限制。这些术语仅用于将一个组件与另一组件区分开。如在此所使用的，除非上下文另外明确地指出，否则单数形式的“一”、“一个(种/者)”和“该(所述)”也旨在包括复数形式。还将理解的是，术语“包括”、“包含”和/或其变型用在本说明书中时，说明存在所陈述的特征、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组，但是不排除存在或附加一个或更多个其他特征、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。此外，当描述本公开的实施例时，“可以”的使用表示“本公开的一个或更多个实施例”。如在此所使用的，诸如“平面图”的短语可以表示从顶部或从与显示设备的显示区域正交的方向的视图。还将理解的是，在此所使用的术语“包括”、“包含”和/或其变型说明存在所陈述的特征或组件，但是不排除存在或附加一个或更多个其他特征或组件。为了易于描述，可以在此使用诸如“在……之下”、“在……下方”、“下”、“在……上方”、“上”、“底部”、“顶部”等的空间相对术语来描述如附图中所示的一个元件或特征与另一(另一些)元件或特征的关系。将理解的是，空间相对术语旨在涵盖装置在使用或操作中的除附图中描绘的方位以外的不同方位。例如，如果附图中的装置被翻转，则被描述为“在”其他元件或特征“下方”或“之下”的元件随后将被定位为“在”所述其他元件或特征“上方”或“之上”。因此，术语“在……下方”可以涵盖上方和下方两个方位。装置可以被另外定位(旋转90度或处于其他方位)，应该相应地解释在此所使用的空间相对描述语。如在此所使用的，术语“基本上”、“约”和类似术语用作近似术语而本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示设备，所述显示设备包括：/n基底；/n像素层，位于所述基底上，包括多个显示器件；/n封装构件，封装所述像素层；/n光调制层，位于所述封装构件上；/n功能层，位于所述光调制层上；以及/n结合层，定位在所述光调制层与所述功能层之间以结合所述光调制层和所述功能层，/n其中，所述光调制层具有与所述多个显示器件对应的开口，并且/n其中，所述结合层填充所述开口且具有比所述光调制层的折射率大的折射率。/n

【技术特征摘要】
20191210 KR 10-2019-01639761.一种显示设备，所述显示设备包括：
基底；
像素层，位于所述基底上，包括多个显示器件；
封装构件，封装所述像素层；
光调制层，位于所述封装构件上；
功能层，位于所述光调制层上；以及
结合层，定位在所述光调制层与所述功能层之间以结合所述光调制层和所述功能层，
其中，所述光调制层具有与所述多个显示器件对应的开口，并且
其中，所述结合层填充所述开口且具有比所述光调制层的折射率大的折射率。


2.根据权利要求1所述的显示设备，其中，所述结合层包括结合膜和分布在所述结合膜中的多个高折射率颗粒，并且
其中，所述结合层的所述折射率等于或大于1.6。


3.根据权利要求2所述的显示设备，其中，所述结合层包括30wt％至60wt％的所述多个高折射率颗粒，并且
其中，所述结合层的所述折射率是1.6至1.8。


4.根据权利要求2所述的显示设备，其中，所述结合层还包括分布在所述结合膜中的散射颗粒，并且
其中，所述散射颗粒的平均颗粒直径比所述多个高折射率颗粒的平均颗粒直径大。


5.根据权利要求1所述的显示设备，其中，所述开口中的每个的内壁包括倾斜的表面，并且
其中，所述光调制层的厚度是1.5μm至2.5μm。


6.根据权利要求5所述的显示设备，其中，所述内壁的下端具有凹进的形状。


7.根据权利要求1所述的显示设备，所述显示设备还包括位于所述封装构件与所述光调制层之间且包含感测电极的输入感测层。


8.根据权利要求7所述的显示设备，其中，所述感测电极包括形成网格结构的网格线，并且
其中，所述网格线与所述光调制层叠置。


9.根据权利要求1所述的显示设备，其中，所述多个显示器件中的每个包括像素电极、位于所述像素电极上的包含发射层的中间层以及位于所述中间层上的对电极，并且
其中，从所述发射层发射的光的一部分被所述结合层与所述开口之中的对应的开口的内壁...

【专利技术属性】
技术研发人员：金彰穆，李宽熙，郑智元，崔永瑞，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR