一种新型定位支撑光罩盒制造技术

本实用新型专利技术涉及光罩盒使用的技术领域，尤其涉及一种新型定位支撑光罩盒；光罩盒主体，为盒体结构，分为上盖体和下盒体两部分；所述上盖体和所述下盒体之间设置有放置腔；掩膜版，设置在所述放置腔内；定位支撑机构，对所述掩膜版进行定位和支撑；所述定位支撑机构包括定位脚和支撑顶；若干所述定位脚一端固定在所述光罩盒主体内；所述支撑顶的顶部设置有相互连接的支撑面和限位面；所述支撑面和所述限位面均为弧形结构；所述限位面与所述支撑面连接处存在高度差；所述托槽结构对所述掩膜版的棱边进行支撑。本实用新型专利技术的目的就是针对现有技术中存在的缺陷提供一种新型定位支撑光罩盒，更好的保护掩膜版不受摩擦带来的静电及颗粒的影响。

【技术实现步骤摘要】
一种新型定位支撑光罩盒
本技术涉及光罩盒使用的
，尤其涉及一种新型定位支撑光罩盒。
技术介绍
近年来电子产品不断朝向轻薄短小、高频、高效能等特性发展，而欲满足这个产品发展的方向，用于电子产品中的核心半导体元件或液晶显示元件的芯片就需微小化与具有高效能，而欲使芯片微小化与具高效能，则需使芯片上的集成电路线径微细化。芯片上集成电路线径的微细化的成败主要在于半导体工艺中的黄光微影工艺技术，其关键设备是在于光罩（photomask）。在半导体应用中，将设计好的线路制作成具有特定形状可透光的的光罩，然后利用曝光原理，则光源通过光罩投影至硅圆即可曝光显示特定图案。由于光罩在作业环境中，存在有不少的微粒、水气、气体、化学溶剂分子等有害物质，这些有害物质会附着于光罩表面，且在经长时间储存或晶圆曝光工艺的加热后，会于光罩表面产生微粒附着、结晶、又或雾化等现象，而直接影响到光罩在黄光微影工艺中的透光率，进而使光罩上的图形失真，其会造成半导体元件或液晶显示元件良率降低，且增加清理与改善的时间，造成生产量降低，相对上也会提高营运的成本。因此在光罩存储及运本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种新型定位支撑光罩盒，其特征在于，包括：/n光罩盒主体（1），为盒体结构，分为上盖体和下盒体两部分；所述上盖体和所述下盒体之间设置有放置腔（11）；/n掩膜版（2），设置在所述放置腔（11）内；/n定位支撑机构（3），设置在所述放置腔（11）内的各个角落处，与所述掩膜版（2）相配合，对所述掩膜版（2）进行定位和支撑；/n所述定位支撑机构（3）包括定位脚（31）和支撑顶（32）；若干所述定位脚（31）一端固定在所述光罩盒主体（1）内，一端与所述支撑顶（32）连接；所述支撑顶（32）的顶部设置有相互连接的支撑面（321）和限位面（323）；所述支撑面（321）和所述限位面（323）均为弧形结...

【技术特征摘要】
1.一种新型定位支撑光罩盒，其特征在于，包括：
光罩盒主体（1），为盒体结构，分为上盖体和下盒体两部分；所述上盖体和所述下盒体之间设置有放置腔（11）；
掩膜版（2），设置在所述放置腔（11）内；
定位支撑机构（3），设置在所述放置腔（11）内的各个角落处，与所述掩膜版（2）相配合，对所述掩膜版（2）进行定位和支撑；
所述定位支撑机构（3）包括定位脚（31）和支撑顶（32）；若干所述定位脚（31）一端固定在所述光罩盒主体（1）内，一端与所述支撑顶（32）连接；所述支撑顶（32）的顶部设置有相互连接的支撑面（321）和限位面（323）；所述支撑面（321）和所述限位面（323）均为弧形结构；所述限位面（323）与所述支撑面（321）连接处存在高度差，由所述支撑面（321）的顶部和所述限位面（323）的底部形成托槽结构；所述托槽结构对所述掩膜版（2）的棱边进行支撑，用于防止与所述掩膜版（2）的下表面接触。


2.根据权利要求1所述的新型定位支撑光罩盒，其特征在于，所述支撑顶（32）上设置有若...

【专利技术属性】
技术研发人员：潘国军，
申请(专利权)人：常州兰利电器科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32