【技术实现步骤摘要】
一种4-取代基环己酮类液晶材料的合成方法
本专利技术涉及有机合成的
,尤其涉及一种4-取代基环己酮类液晶材料的合成方法。
技术介绍
近年来,随着液晶材料研究技术的不断发展,以及人们对液晶材料性质要求的不断提高,同时也为了满足液晶显示器越来越高的品质要求,开发具有高清亮点、低粘度、低阈值的液晶化合物已成为合成化学家的一个重点关注方向。含环己烷结构的液晶化合物因其具有高清亮点、较低粘度和较宽的向列相温区,在液晶材料领域有着广泛的应用,已逐渐成为中高档混合液晶材料不可或缺的组成部分。环己烷类液晶化合物主要分为环己烷酸类、环己烷醇类、多环环己基类以及其他环己基类,各个类别均有研究者对其进行大量的研究开发。其中,4-取代基环己酮类化合物是合成液晶材料重要的中间体及单体,具有重要的应用价值。目前生产环己酮类液晶中间体的现有技术方法中,多使用价格昂贵且有毒的氧化剂,如铬试剂、锰试剂及其他过渡金属氧化物、高价碘试剂等,且氧化剂的用量大多过量,从而产生大量废弃污染物,对环保造成了巨大的压力。
技术实现思路
基 ...
【技术保护点】
1.一种4-取代基环己酮类液晶材料的合成方法,其特征在于:将4-取代基环己醇类化合物,在以哌啶氮氧自由基作为催化剂,氮氧化合物和酸性化合物作为助催化剂的条件下,与氧化剂进行氧化反应,得到4-取代基环己酮类液晶材料。/n
【技术特征摘要】
1.一种4-取代基环己酮类液晶材料的合成方法,其特征在于:将4-取代基环己醇类化合物,在以哌啶氮氧自由基作为催化剂,氮氧化合物和酸性化合物作为助催化剂的条件下,与氧化剂进行氧化反应,得到4-取代基环己酮类液晶材料。
2.根据权利要求1所述4-取代基环己酮类液晶材料的合成方法,其特征在于,所述合成方法的合成路线如下所示:
R为如下所示结构式的一种:
其中,X为亚烷基,R1为C1-C5的烷基。
3.根据权利要求1或2所述4-取代基环己酮类液晶材料的合成方法,其特征在于,所述哌啶氮氧自由基为如下结构式所示的至少一种:
4.根据权利要求1-3任一项所述4-取代基环己酮类液晶材料的合成方法,其特征在于,所述氮氧化合物为一氧化氮、二氧化氮、亚硝酸钠、亚硝酸钾、亚硝酸酯中的一种或者多种的组合;
所述酸性化合物为盐酸、硫酸、硝酸、磷酸、醋酸、氢溴酸、氢氟酸、氢碘酸、甲磺酸、三氟乙酸、对甲苯磺酸、硫酸氢钠、硫酸氢钾、磷酸二氢钠中的一种或者多种的组合。
5.根据权利要求1-4任一项所述4-取代基环己酮类液晶材料的合成方法,其特征在于,所述氧化剂为氧气或者空气。
6.根据权利要求1-5任一项所述4-取代基环己酮类液晶材料的合成方法,其特征在于,所述哌啶氮氧自由基的用量为4-取代基环己醇类化合物的物质的量的1-10%;所述氮氧化合物的用量为4-取代基环...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘显伟,马青松,魏力璟,陈芳,王晓莹,马心旺,苏建,
申请(专利权)人:惠泽化学科技濮阳有限公司,
类型:发明
国别省市:河南;41
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。