一种玉上珐琅彩制作工艺制造技术

本发明专利技术公开了一种玉上珐琅彩制作工艺，包括以下步骤：S1、预处理：用95％的医用酒精进行清洗，去除玉石表面的余蜡；S2、预绘制：用油性针管笔在纹裂处设计图案；S3、基底处理：对图案设计处进行抛光处理，用清水或酒精轻擦基底处的玉粉，静置风干；S4、绘制：依照步骤S2预绘制图案绘制珐琅彩图案，并进行封釉；S5、真空处理：对步骤S4绘制的液态珐琅彩进行抽真空处理，排除气泡；S6、加温烧制：将液态珐琅彩放入烘烤箱中进行烘烤得到粗胚；S7、修胚：将烧制好的粗胚进行修边，去除多余的釉料，得到玉上珐琅彩制品。

【技术实现步骤摘要】
一种玉上珐琅彩制作工艺
本专利技术涉及珐琅
，具体涉及一种玉上珐琅彩制作工艺。
技术介绍
玉器因其珍贵，所以对于其保养必须小心谨慎。然而，百密一疏，心爱的玉器难免遭到损坏，这时，就不可以避免的要接触玉器的修复了。传统的玉器修复方法或效果不太理想，又或者成本过高，珐琅彩的特点是瓷质细润，彩料凝重，色泽鲜艳靓丽，画工精致。现将珐琅彩应用于玉器上的裂纹修复，其修复效果好，成本较低。
技术实现思路
本专利技术提出一种玉上珐琅彩制作工艺，有效遮挡裂纹，视觉效果好；有效的稳定加固玉器上的裂纹，防止玉器进一步开裂，原料投入成本低，操作方便安全，能节省玉器修复制造成本。为实现上述目的，本专利技术采用以下技术方案：一种玉上珐琅彩制作工艺，包括以下步骤：S1、预处理：用95％的医用酒精进行清洗，去除玉石表面的余蜡；S2、预绘制：用油性针管笔在纹裂处设计图案；S3、基底处理：对图案设计处进行抛光处理，用清水或酒精轻擦基底处的玉粉，静置风干；S4、绘制：依照步骤S2预绘制图案绘制珐琅彩图案，并进行封釉；S5、真空处理：对步骤S4绘制的液态珐琅彩进行抽真空处理，排除气泡；S6、加温烧制：将液态珐琅彩放入烘烤箱中进行烘烤得到粗胚；S7、修胚：将烧制好的粗胚进行修边，去除多余的釉料，得到玉上珐琅彩制品。优选地，步骤S4的珐琅彩绘制步骤具体包括：S41、用面相笔沾取蛤粉底妆液绘制白色部分底妆，静置风干；S42、用勾线笔沾取珐琅原液，覆盖在彻底风干的蛤粉白图案之上；S43、将珐琅彩原液和岩彩颗粒混合制成上色液，用勾线笔沾取上色液为图案上渐变色，并且全部封釉。优选地，步骤S41中所述蛤粉底妆液包括以下重量分数的组分：45～50份的蛤壳细粉，40～50份的水和4～6份的鹿胶。优选地，步骤S43中所述上色液包括以下重量分数的组分：90～95份的珐琅彩原液和3～8份的岩彩。优选地，所述珐琅彩原液为AB树脂。优选地，所述岩彩为朱砂红、天然石绿、石青、赭石、岩彩金五彩中的其中一种或几种的组合物。优选地，步骤S6中烘烤箱的烘烤温度为90-110℃，烘烤时间为2h。采用上述技术方案后，本专利技术与
技术介绍
相比，具有如下优点：本专利技术提供一种玉上珐琅彩制作工艺，将珐琅彩与玉器有机的结合在一起，用于修饰玉器上的裂纹，本工艺方法绘制的珐琅彩其五彩斑斓的颜色，莹润光泽的质感，画面过渡自然，能够有效遮挡裂纹，视觉效果好。且在制备时裂纹上绘制的液态珐琅彩需要经过烘烤箱烧制，有效的稳定加固玉器上的裂纹，防止玉器进一步开裂，原料投入成本低，操作方便安全，能节省玉器修复制造成本。具体实施方式实施例1本专利技术公开了一种玉上珐琅彩制作工艺，包括以下步骤：S1、预处理：用95％的医用酒精进行清洗，去除玉石表面的余蜡；S2、预绘制：用油性针管笔在纹裂处设计图案；S3、基底处理：对图案设计处进行抛光处理，用清水或酒精轻擦基底处的玉粉，静置风干，抛光工具采用金刚砂，抛光时注意不要吃肉太深造成底板凹凸不平；S4、绘制：依照步骤S2预绘制图案绘制珐琅彩图案，并进行封釉；S5、真空处理：对步骤S4绘制的液态珐琅彩进行抽真空处理，排除气泡；S6、加温烧制：将液态珐琅彩放入烘烤箱中进行烘烤得到粗胚；S7、修胚：将烧制好的粗胚进行修边，去除多余的釉料，得到玉上珐琅彩制品。步骤S4的珐琅彩绘制步骤具体包括：S41、用面相笔沾取蛤粉底妆液绘制白色部分底妆，静置风干；S42、用勾线笔沾取珐琅原液，覆盖在彻底风干的蛤粉白图案之上；S43、将珐琅彩原液和岩彩颗粒混合制成上色液，用勾线笔沾取上色液为图案上渐变色，并且全部封釉。步骤S41中蛤粉底妆液包括以下重量分数的组分：45份的蛤壳细粉，50份的水和5份的鹿胶。蛤壳细粉选用纳米级蛤壳细粉，鹿胶选用天然鹿皮水提取液。步骤S43中上色液包括以下重量分数的组分：95份的珐琅彩原液和5份的岩彩。珐琅彩原液为AB树脂。岩彩为朱砂红、天然石绿、石青、赭石、岩彩金五彩中的其中一种或几种的组合物。朱砂红、天然石绿、石青、赭石、岩彩金均为镜面级。步骤S6中烘烤箱的烘烤温度为100℃，烘烤时间为2h。实施例2本专利技术公开了一种玉上珐琅彩制作工艺，包括以下步骤：S1、预处理：用95％的医用酒精进行清洗，去除玉石表面的余蜡；S2、预绘制：用油性针管笔在纹裂处设计图案；S3、基底处理：对图案设计处进行抛光处理，用清水或酒精轻擦基底处的玉粉，静置风干，抛光工具采用金刚砂，抛光时注意不要吃肉太深造成底板凹凸不平；S4、绘制：依照步骤S2预绘制图案绘制珐琅彩图案，并进行封釉；S5、真空处理：对步骤S4绘制的液态珐琅彩进行抽真空处理，排除气泡；S6、加温烧制：将液态珐琅彩放入烘烤箱中进行烘烤得到粗胚；S7、修胚：将烧制好的粗胚进行修边，去除多余的釉料，得到玉上珐琅彩制品。步骤S4的珐琅彩绘制步骤具体包括：S41、用面相笔沾取蛤粉底妆液绘制白色部分底妆，静置风干；S42、用勾线笔沾取珐琅原液，覆盖在彻底风干的蛤粉白图案之上；S43、将珐琅彩原液和岩彩颗粒混合制成上色液，用勾线笔沾取上色液为图案上渐变色，并且全部封釉。步骤S41中蛤粉底妆液包括以下重量分数的组分：47份的蛤壳细粉，47份的水和6份的鹿胶。蛤壳细粉选用纳米级蛤壳细粉，鹿胶选用天然鹿皮水提取液。步骤S43中上色液包括以下重量分数的组分：94份的珐琅彩原液和6份的岩彩。珐琅彩原液为AB树脂。岩彩为朱砂红、天然石绿、石青、赭石、岩彩金五彩中的其中一种或几种的组合物。朱砂红、天然石绿、石青、赭石、岩彩金均为镜面级。步骤S6中烘烤箱的烘烤温度为110℃，烘烤时间为2h。实施例3本专利技术公开了一种玉上珐琅彩制作工艺，包括以下步骤：S1、预处理：用95％的医用酒精进行清洗，去除玉石表面的余蜡；S2、预绘制：用油性针管笔在纹裂处设计图案；S3、基底处理：对图案设计处进行抛光处理，用清水或酒精轻擦基底处的玉粉，静置风干，抛光工具采用金刚砂，抛光时注意不要吃肉太深造成底板凹凸不平；S4、绘制：依照步骤S2预绘制图案绘制珐琅彩图案，并进行封釉；S5、真空处理：对步骤S4绘制的液态珐琅彩进行抽真空处理，排除气泡；S6、加温烧制：将液态珐琅彩放入烘烤箱中进行烘烤得到粗胚；S7、修胚：将烧制好的粗胚进行修边，去除多余的釉料，得到玉上珐琅彩制品。步骤S4的珐琅彩绘制步骤具体包括：S41、用面相笔沾取蛤粉底妆液绘制白色部分底妆，静置风干；S42、用勾线笔沾取珐琅原液，覆盖在彻底风干的蛤粉白图案之上；S43、将珐琅彩原液和岩彩颗粒混合制成上色液，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种玉上珐琅彩制作工艺，其特征在于，包括以下步骤：/nS1、预处理：用95％的医用酒精进行清洗，去除玉石表面的余蜡；/nS2、预绘制：用油性针管笔在纹裂处设计图案；/nS3、基底处理：对图案设计处进行抛光处理，用清水或酒精轻擦基底处的玉粉，静置风干；/nS4、绘制：依照步骤S2预绘制图案绘制珐琅彩图案，并进行封釉；/nS5、真空处理：对步骤S4绘制的液态珐琅彩进行抽真空处理，排除气泡；/nS6、加温烧制：将液态珐琅彩放入烘烤箱中进行烘烤得到粗胚；/nS7、修胚：将烧制好的粗胚进行修边，去除多余的釉料，得到玉上珐琅彩制品。/n

【技术特征摘要】
1.一种玉上珐琅彩制作工艺，其特征在于，包括以下步骤：
S1、预处理：用95％的医用酒精进行清洗，去除玉石表面的余蜡；
S2、预绘制：用油性针管笔在纹裂处设计图案；
S3、基底处理：对图案设计处进行抛光处理，用清水或酒精轻擦基底处的玉粉，静置风干；
S4、绘制：依照步骤S2预绘制图案绘制珐琅彩图案，并进行封釉；
S5、真空处理：对步骤S4绘制的液态珐琅彩进行抽真空处理，排除气泡；
S6、加温烧制：将液态珐琅彩放入烘烤箱中进行烘烤得到粗胚；
S7、修胚：将烧制好的粗胚进行修边，去除多余的釉料，得到玉上珐琅彩制品。


2.如权利要求1所述的一种玉上珐琅彩制作工艺，其特征在于，步骤S4的珐琅彩绘制步骤具体包括：
S41、用面相笔沾取蛤粉底妆液绘制白色部分底妆，静置风干；
S42、用勾线笔沾取珐琅原液，覆盖在彻底风干的蛤粉白图案之上；
S43、将珐琅彩原液和...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈鸣，
申请(专利权)人：陈鸣，
类型：发明
国别省市：福建;35