等离子体射流装置及杀菌方法制造方法及图纸

技术编号:28773682 阅读:20 留言:0更新日期:2021-06-09 11:02
本申请提供了一种等离子体射流装置及杀菌方法,该射流装置包括:支架、第一驱动组件和安装座,所述支架包括相对设置的第一侧和第二侧,所述第一侧用于放置待灭菌物体,所述第一驱动组件设置于所述第二侧,并驱动所述安装座旋转,所述安装座的旋转平面朝向所述待灭菌物体;所述安装座上设有第二驱动组件和喷射机构,所述第二驱动组件驱动所述喷射机构旋转,且在旋转过程中所述喷射机构的喷射端均朝向所述待灭菌物体,所述喷射机构的旋转平面与所述安装座的旋转平面相交。该射流装置无需设置多个喷射机构,利用可调节角度的单个喷射机构对待灭菌物体进行灭菌,灭菌面积大,均匀覆盖待灭菌区域,无需对待灭菌物体进行反复灭菌,降低了生产成本。降低了生产成本。降低了生产成本。

【技术实现步骤摘要】
等离子体射流装置及杀菌方法


[0001]本申请属于等离子体
,更具体地说,是涉及一种等离子体射流装置及杀菌方法。

技术介绍

[0002]随着等离子体医学的兴起,等离子体射流的应用越来越广泛,受到更多人的关注。低温等离子体射流主要用于对培养皿等医疗器械进行灭菌,一般安装在射流管内,通过射流管喷射等离子体对培养皿进行喷射灭菌。为了扩大单次的喷射面积,提高灭菌效率,目前的等离子体射流装置通过增加射流管的数量,来扩大单次的喷射面积,提高灭菌效率。可是这样设置在实际使用时,会经常导致培养皿表面喷射不均匀,因而需要对培养皿进行反复喷射。

技术实现思路

[0003]本申请实施例的目的在于提供一种等离子体射流装置及杀菌方法,以解决现有技术中喷射装置需要对培养皿反复喷射的技术问题。
[0004]为实现上述目的,本申请采用的技术方案是:提供了一种等离子体射流装置,包括:支架、第一驱动组件和安装座,所述支架包括相对设置的第一侧和第二侧,所述第一侧用于放置待灭菌物体,所述第一驱动组件设置于所述第二侧,并驱动所述安装座旋转,所述安装座的旋转平面朝向所述待灭菌物体;
[0005]所述安装座上设有第二驱动组件和喷射机构,所述第二驱动组件驱动所述喷射机构旋转,且在旋转过程中所述喷射机构的喷射端均朝向所述待灭菌物体,所述喷射机构的旋转平面与所述安装座的旋转平面相交。
[0006]可选地,所述第二驱动组件的转动轴贯穿所述安装座,并与一放置部相连,所述喷射机构设置于所述放置部;
[0007]所述安装座设有控制开关,所述控制开关与所述第二驱动组件电性连接。
[0008]可选地,所述控制开关为微动开关,所述放置部朝向所述微动开关的一侧在旋转过程中,与所述微动开关在接触和分离状态之间切换。
[0009]可选地,第一驱动组件的转动轴通过联轴器与传动座相连,所述传动座远离所述联轴器的端部与所述安装座相连。
[0010]可选地,所述第一驱动组件还包括导电滑环,所述导电滑环套设在所述传动座上。
[0011]可选地,所述第一侧设有放置所述待灭菌物体的旋转座。
[0012]可选地,所述第一驱动组件的动力源为第一步进电机;所述第二驱动组件的动力源为第二步进电机。
[0013]可选地,所述安装座的旋转平面与所述待灭菌物体所在平面平行,所述喷射机构的旋转平面与所述待灭菌物体所在平面垂直。
[0014]此外,本申请还提供了一种杀菌方法,采用上述的等离子体射流装置,包括以下步
骤:
[0015]通过第二驱动组件调节所述喷射机构的喷射端相对待灭菌物体的喷射角度;通过第一驱动组件控制所述喷射端在各喷射角度下绕所述待灭菌物体旋转进行杀菌。
[0016]可选地,当所述第二驱动组件调节所述喷射机构的喷射角度时,所述第一驱动组件根据所述喷射角度的调节量,控制所述喷射机构的旋转速度和/或旋转时间跟随所述调节量发生变化。
[0017]本申请提供的有益效果在于:通过第二驱动组件调节喷射机构的喷射端相对于待灭菌物体的喷射角度,再通过第一驱动组件控制上述喷射端在各种喷射角度下绕待灭菌物体旋转,从而实现了对待灭菌物体进行多方位的灭菌,扩大了灭菌面积,无需对待灭菌物体进行反复灭菌,提高了灭菌效率,并使待灭菌物体的表面能均匀的覆盖等离子体,而且该装置结构简单,降低了生产成本。
附图说明
[0018]为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0019]图1为本申请实施例提供的等离子体射流装置的结构示意图;
[0020]图2为本申请实施例提供的等离子体射流装置喷射时形成的灭菌区域的示意图;
[0021]图3为本申请实施例提供的喷射机构喷射时形成的部分灭菌区域的示意图。
[0022]其中,图中各附图标记:
[0023]1‑
支架;11

第一侧;12

第二侧;2

第一驱动组件;21

导电滑环;3

安装座;31

控制开关;4

第二驱动组件;5

喷射机构;51

喷射区域;52

灭菌区域;6

待灭菌物体;7

放置部;8

联轴器;9

传动座。
具体实施方式
[0024]为了使本申请所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本申请进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本申请,并不用于限定本申请。
[0025]需要说明的是,当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件,它可以直接在另一个元件上或者间接在该另一个元件上。当一个元件被称为是“连接于”另一个元件,它可以是直接连接到另一个元件或间接连接至该另一个元件上。
[0026]需要理解的是,术语“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本申请和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。
[0027]此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本申请的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,
除非另有明确具体的限定。
[0028]申请人在注意到现有射流装置是设置了多个喷射机构5,并将这些喷射机构5并联起来,以阵列的形式安装在射流装置上。这样相对于利用单个喷射机构5对待灭菌物体6进行喷射灭菌,扩大了单次喷射的范围,即喷射机构5每次喷射等离子体时,能够覆盖更多的面积。但是上述喷射机构5是固定安装的,角度无法进行调节,而且相邻设置两个喷射机构5之间存在间隙,使得每次喷射时,待灭菌物体6上有一部分是没有被喷射出来的等离子体覆盖的,所以需要反复喷射,才能使待灭菌物体6的表面被等离子体全部覆盖,完成对待灭菌物体6的灭菌。
[0029]基于申请人发现的上述问题,申请人对等离子体射流装置的结构进行改进,下面对本申请实施例进行进一步描述。
[0030]如图1至图3所示,本申请提供了一种等离子体射流装置,包括:支架1、第一驱动组件2和安装座3,支架1包括相对设置的第一侧11和第二侧12,第一侧11用于放置待灭菌物体6,第一驱动组件2设置于第二侧12,并驱动安本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种等离子体射流装置,其特征在于,包括:支架、第一驱动组件和安装座,所述支架包括相对设置的第一侧和第二侧,所述第一侧用于放置待灭菌物体,所述第一驱动组件设置于所述第二侧,并驱动所述安装座旋转,所述安装座的旋转平面朝向所述待灭菌物体;所述安装座上设有第二驱动组件和喷射机构,所述第二驱动组件驱动所述喷射机构旋转,且在旋转过程中所述喷射机构的喷射端均朝向所述待灭菌物体,所述喷射机构的旋转平面与所述安装座的旋转平面相交。2.如权利要求1所述的等离子体射流装置,其特征在于,所述第二驱动组件的转动轴贯穿所述安装座,并与一放置部相连,所述喷射机构设置于所述放置部;所述安装座设有控制开关,所述控制开关与所述第二驱动组件电性连接。3.如权利要求2所述的等离子体射流装置,其特征在于,所述控制开关为微动开关,所述放置部朝向所述微动开关的一侧在旋转过程中,与所述微动开关在接触和分离状态之间切换。4.如权利要求1所述的等离子体射流装置,其特征在于,第一驱动组件的转动轴通过联轴器与传动座相连,所述传动座远离所述联轴器的端部与所述安装座相连。5.如权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员:李华李明磊贤跃飞杨象添朱鸿成张雨晗
申请(专利权)人:桂林电子科技大学
类型:发明
国别省市:

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