用来分析图像马赛克的人机接口、方法及装置制造方法及图纸

从半导体集成电路的依次分解的图像马赛克提取设计和布局信息的装置包括：视觉显示器、系统指针和多个锁定步骤光标。视觉显示器显示所关注的各个图像马赛克的视图区。如由系统指针的位置决定的，各视图在适当时显示一个锁定步骤光标。当系统指针处在视图内时，对应的锁定步骤光标被显示为主光标，而其它视图显示具有和主光标不同大小和形状的锁定步骤光标。所有锁定步骤光标在主光标的控制下一致移动。从图像马赛克提取设计和布局信息的方法使用锁定步骤光标来迅速匹配跨越图像马赛克的特征，且在从一个图像马赛克到另一个图像马赛克跟踪特征时避免换位错误。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术总的涉及半导体集成电路的分析，特别涉及操作代表分解的半导体集成电路(IC)的表面的多个图像以从其中提取设计和布局信息的人机接口。IC是在其上已制造大量晶体管和其它电子元件且互相连接来形成有用电路的单晶硅管芯。在制造期间，各管芯是易于操作和同时处理多个IC的较大的硅晶片衬底的一部份。IC制造过程包括掺杂硅衬底来改变其导电特性和使用不同的技术把一序列的膜层建立在硅衬底上。使用离子注入产生掺杂层。通过把杂质淀积在衬底的上面且加热晶片产生扩散层。利用各淀积层，淀积不同的材料且根据预定图型通过选择蚀刻而选择地去除淀积的材料。制造在硅晶片上的元件跨越多层。氧化层用来绝缘。淀积的金属层用来互连如此形成的元件的各个端子。这些元件的识别和由金属层提供的互连提供可从其中提取和验证IC的设计和/或布局的基本信息。在反向工程样本IC中，管芯被分解。IC样本管芯利用如酸性蚀刻剂的严格系列处理进行依次的层去除序列，特别选择每个在这时去除的单层。其它分解处理包括干式蚀刻、抛光等等。使用这样的处理，互连的金属层、多晶硅层、氧化层等等一步一步地去除。在各分解步骤中检查部份分解的IC的表面。检查技术包括使用光学显微镜、扫描电子显微镜以及其它表面检查设备。一般地，扫描电子显微镜准确但是它本身的造价和操作昂贵。光学显微镜可使用在照明的亮域、对比干扰和暗域模式。在亮域或对比干扰模式中，管芯上的元件的实际限度受边缘效应所扭曲。这些边缘效应可由有经验分析家来解释、但需要大量计算由计算机分析。“检查微电路图型的方法”已在1986年11月18日授予Suszko的美国专利第4,623,255号中描述。此方法涉及在分解步骤之间拍摄IC管芯。胶片透明度被印出并且由工程分析者用来从所拍摄的IC提取设计和布局信息。虽然Suszko的教导有优点，但是设计和布局提取受大块透明度的处理和交叉相关阻碍。另一个“从集成电路提取设计和布局信息的自动化系统”由Yu等人在1992年2月4日发布的美国专利第5,086,477号中描述。数码照相机和受控制阶段在各分解步骤后用来捕捉以重叠花样的图像。所捕捉数字图像储存在计算机存储器中，且根据在各覆盖图像的边界处的重叠来重新组合为图像马赛克。Yu等人描述在分解步骤的图像马赛克上实施的图型匹配并且指出在从覆盖图像提取布局信息中涉及的困难。Yu等人的自动化系统似乎适于从对反向工程有困难的复杂IC提取设计信息。为了完成它，建立“单元”(cell)资料库。单元资料库包括已知用来实施特定功能的元件的特定配置的图像。单元资料库用于自动的图型匹配以帮助例如应用特定集成电路(ASIC)的反向工程。然而，Yu等人没有描述如何操作代表在分解IC中的不同步骤的多个图像马赛克，以便同时从中提取设计和布局信息。因制造在硅晶片上的各个元件可能跨越多膜层，因此期望同时分析图像马赛克。因此对人机接口需要使IC的多个图像的操作能够帮助从中同时提取设计和布局信息。专利技术目的本专利技术的一个目的是提供人机接口，使IC的多个图像的操作能够帮助从中同时提取设计和布局信息。本专利技术的另一个目的是提供人机接口，适于帮助跨越代表半导体集成电路(IC)的一个或多个表面的多个图像的特征识别和分析。本专利技术的另一目的是提供支持多个视图的人机接口，各视图显示图像马赛克的一部份和多个的多锁定步骤光标之一。本专利技术的另一个目的是提供帮助分析员使用IC的照相图像确定IC的结构的装置。本专利技术的另一目的是提供帮助分析员定义在一个或多个图像的所关注的区域以生成所关注的区域的多个马赛克视图的装置。本专利技术的又另一个目的是帮助分析员使用马赛克视图之一中的主光标和锁定步骤光标关联各个马赛克视图的特征的装置，该装置自动地跟踪每个其它马赛克视图中的主光标的相对位置。本专利技术的另一个目的是提供使用主光标和多个锁定步骤光标分析IC的方法，帮助分析员分析相关IC的图像马赛克的不同的图像马赛克的特征。本专利技术的另外目的是提供生成IC样本的低放大倍数图像的切片的方法，该切片定义由分析员分析1C使用的多个图像马赛克。本专利技术还提供分析图像马赛克的方法，该图像马赛克划定尺寸和与样本坐标空间对准，该方法包括步骤在用于分析该图像马赛克的人机接口的显示坐标空间上显示的相应的马赛克视图内显示多个图像马赛克的相应的图像马赛克的感所关注的区域；和使用在马赛克视图的一个马赛克视图中的主光标和在其它马赛克视图中的锁定步骤光标跟踪跨越至少两个马赛克视图的IC的特征，该主光标控制光标事件而锁定步骤光标显示在相对于样本坐标空间的主光标的相对位置的其它马赛克视图内，如果该相对位置是在相应的其它马赛克视图的相应的显示坐标空间内。本专利技术还提供分析图像马赛克的装置，该图像马赛克划定尺寸和与样本坐标空间对准，该装置包括工作站，具有限定显示坐标空间的显示区；指示设备，控制可能在该显示坐标空间内移动的系统指针；当在显示坐标空间中显示时，存储具有各自的视图边界的多个马赛克视图的存储器，每个马赛克视图显示一个图像马赛克的至少一部分，和在每个马赛克视图内显示锁定步骤光标的装置，该锁定步骤光标共享相对于样本坐标空间的位置坐标；当通过指示设备的操作该系统指针移动跨越视图边界进入多个马赛克视图中的一个马赛克视图时，该系统指针显示为控制光标事件的主光标，而该锁定步骤光标显示在相对于样本坐标空间的主光标的相对位置的其它马赛克视图内， 如果该相对位置是在其它马赛克视图的相应的马赛克视图的相应的显示坐标空间内。根据本专利技术，该人机接口包括显示区，系统指针，多个马赛克视图和相应的多个锁定步骤光标。该图像马赛克对准样本坐标空间。显示区定义显示坐标空间和系统指针具有相对于显示坐标空间的位置。多个马赛克视图的每个马赛克视图具有在显示坐标空间中的视图边界并且显示多个马赛克视图的一个图像马赛克。每个锁定步骤光标具有在显示坐标空间中的位置和与全部其它锁定步骤光标共享样本坐标空间中的位置坐标。当系统指针定位在至少一个视图边界内时，该系统指针采用控制光标事件的主光标表示。锁定步骤光标在该主光标位置的其它视图中以样本坐标空间显示。图像马赛克例如是分解半导体集成电路(IC)样本的表示。根据本专利技术的一个方案，该人机接口还包括导航窗口，它具有在显示坐标空间中的视图边界，并且，显示IC样本的低放大倍数图像表示。导航窗口还允许选择多个马赛克视图中可显示的至少一个感所关注的区域。本专利技术还提供分析划定尺寸和与样本坐标空间对准的图像马赛克的方法。该方法包括在用于分析该图像马赛克的人机接口的显示坐标空间上显示的各个马赛克视图内所关注的区域的步骤。该方法还包括使用在马赛克视图的一个马赛克视图中的主光标和在其它马赛克视图中的锁定步骤光标跟踪跨越至少两个马赛克视图的1C的特征，该主光标控制光标事件而锁定步骤光标显示在相对于样本坐标空间的主光标的相对位置的其它马赛克视图内，如果该相对位置是在其它马赛克视图的相应的显示坐标空间内。生成图像马赛克，例如，通过分解半导体集成电路(IC)样本。使用切片工具，定义在样本坐标空间的坐标生成图像马赛克的所关注的区域。该切片最好通过拖曳系统指针沿着对角线路径定义在IC样本的低分辩率管芯照片上的所关注的矩形的区域生成。在生成切片之后，选择显示在该区域或者所关注区域的马赛克视图中的图像本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用来分析图像马赛克的人机接口，该图像马赛克划定尺寸和与样本坐标空间对准，该人机接口包括： ａ）显示区，定义显示坐标空间； ｂ）系统指针，具有在该显示坐标空间中的位置； ｃ）在该显示坐标空间中具有相应的视图边界的多个马赛克视图，每个马赛克视图显示这些图像马赛克之一的至少一部份；和 ｄ）多个锁定步骤光标，共享相对于该样本坐标空间的位置坐标； 其中，该系统指针在视图边界跨越进入多个马赛克视图之一内时，如果该相对位置是在其它马赛克视图的相应视图的相应显示坐标空间内，该系统指针显示为控制光标事件的主光标，且该锁定步骤光标显示在该主光标相对于该样本坐标空间的相对位置的其它马赛克视图内。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：戴维F斯科，
申请(专利权)人：吉普沃克斯公司，
类型：发明
国别省市：CA[加拿大]