硅片校正机构制造技术

本实用新型专利技术涉及一种硅片校正机构，包括：底座；两个推片件，均可滑动地设在所述底座上，两个所述推片件相对设置；运动件，可滑动地设在所述底座上，所述运动件上开设有两个运动滑轨，两个所述推片件分别滑动与两个所述运动滑轨滑动连接，所述运动件在第一方向上运动时，带动两个所述推片件朝相互靠近或相互远离；两个所述推片件用于在相互靠近时对硅片夹持校正；驱动装置，连接所述运动件，用于带动所述运动件在所述第一方向上运动。现有技术中需要两个气缸连接两个推片件，本实施方式中通过运动件的设置，使得单个气缸可以带动两个推片件相互靠近或相互远离，节省了硅片校正机构的成本。

【技术实现步骤摘要】
硅片校正机构
本技术涉及硅片校正
，特别是涉及硅片校正机构。
技术介绍
随着经济的发展，社会的进步，光伏产业在国内如火如荼。其中生产硅片的设备需求量也在增加，同时对设备的日产能提出更高的要求。国内的设备厂家越来越朝向节省成本、使用方便、提高产能等特点的方向发展。在硅片的制绒、刻蚀、PECVD和印刷等工艺环节中，对于硅片的校正是每道工序的基本需求。通常的硅片校正机构是由2个气缸组成，在硅片的两侧进行推片，达到校正的目的。现有技术中的硅片校正机构存在以下缺点：气缸伸出然后缩回才可以完成一个校正过程，效率过低。
技术实现思路
基于此，有必要针对上述问题，提供一种硅片校正机构，可以大幅度提升校正效率。一种硅片校正机构，包括：底座；两个推片件，均可滑动地设在所述底座上，两个所述推片件相对设置；运动件，可滑动地设在所述底座上，所述运动件上开设有两个运动滑轨，两个所述推片件分别滑动与两个所述运动滑轨滑动连接，所述运动件在第一方向上运动时，带动两个所述推片件在第二方向上相互靠近或相互远离；两个所述推片件用于本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种硅片校正机构，其特征在于，包括：/n底座；/n两个推片件，均可滑动地设在所述底座上，两个所述推片件相对设置；/n运动件，可滑动地设在所述底座上，所述运动件上开设有两个运动滑轨，两个所述推片件分别滑动与两个所述运动滑轨滑动连接，所述运动件在第一方向上运动时，带动两个所述推片件在第二方向上相互靠近或相互远离；两个所述推片件用于在相互靠近时对硅片夹持校正；/n驱动装置，连接所述运动件，用于带动所述运动件在所述第一方向上运动。/n

【技术特征摘要】
1.一种硅片校正机构，其特征在于，包括：
底座；
两个推片件，均可滑动地设在所述底座上，两个所述推片件相对设置；
运动件，可滑动地设在所述底座上，所述运动件上开设有两个运动滑轨，两个所述推片件分别滑动与两个所述运动滑轨滑动连接，所述运动件在第一方向上运动时，带动两个所述推片件在第二方向上相互靠近或相互远离；两个所述推片件用于在相互靠近时对硅片夹持校正；
驱动装置，连接所述运动件，用于带动所述运动件在所述第一方向上运动。


2.根据权利要求1所述的硅片校正机构，其特征在于，所述推片件包括：
移动部，滑动设在所述底座上，并与所述运动件的一所述运动滑轨滑动连接；
推片部，设在所述移动部上背离所述运动件的一侧，并高于所述移动部，所述推片部用于校正硅片。


3.根据权利要求2所述的硅片校正机构，其特征在于，所述推片部包括横杆部、设在所述横杆部上的若干校正轮、连接在所述横杆部与所述移动部之间的连接部，两个所述推片部的横杆部平行设置，各所述校正轮沿所述横杆部的长度方向排列。


4.根据权利要求3所述的硅片校正机构，其特征在于，所述移动部上设有滑动柱，通过所述滑动柱与所述运动滑轨滑动连接。


5.根据权利要求3所述的硅片校正机构，其特征在于，所述移动部上具有多个连接位，所述连接部连接在任意一个所述连接位上。

【专利技术属性】
技术研发人员：孙松，
申请(专利权)人：苏州迈为科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32