【技术实现步骤摘要】
一种多晶硅生产工艺中氢气纯化用吸附塔
本技术涉及多晶硅生产
,具体涉及一种多晶硅生产工艺中氢气纯化用吸附塔。
技术介绍
多晶硅材料是以硅为原料经一系列物理化学反应提纯后达到一定纯度的电子材料,是硅产品产业链中一个极为重要的中间产品,是制造硅抛光片、太阳能电池及高纯硅制品的主要原料,是半导体、电子信息业、太阳能光伏电池业最基础的功能性材料。多晶硅生产多采用改良西门子技术,改良西门子工艺尾气回收工段,H2采用活性炭吸附塔进行净化,获得高纯度产品H2用于还原SiHCl3制备多晶硅。目前吸附塔主要存在以下几个问题:(1)采用热流体加热,再生温度不高,再生不彻底。(2)盘管处于冷热交变的环境,其焊缝容易泄露。(3)冷热流体外部输送管道长,冷热损失较大。(4)主要依靠热传导的方式对活性炭进行冷却和加热,而活性炭导热系数低,而盘管也不能密布热传递效率低,加热和冷却所需要的时间长。(5)由于放大效应,活性炭装填量不能太多,导致处理量不高。
技术实现思路
本技术旨在解决现有技术中存在的问题,提供一种多晶硅生产工艺 ...
【技术保护点】
1.一种多晶硅生产工艺中氢气纯化用吸附塔,其特征在于:包括吸附塔主体(1),所述吸附塔主体(1)上方设置有第一气体进出口(2),所述吸附塔主体(1)下方设置有第二进出气口(3),所述吸附塔主体(1)竖直方向设置有多个加热管(5),所述加热管(5)为下端封口的中空管,所述加热管(5)内设置有绝缘导热层( 6.1)和电加热丝(6.2),所述吸附塔主体(1)内填充有活性炭(7)。/n
【技术特征摘要】
1.一种多晶硅生产工艺中氢气纯化用吸附塔,其特征在于:包括吸附塔主体(1),所述吸附塔主体(1)上方设置有第一气体进出口(2),所述吸附塔主体(1)下方设置有第二进出气口(3),所述吸附塔主体(1)竖直方向设置有多个加热管(5),所述加热管(5)为下端封口的中空管,所述加热管(5)内设置有绝缘导热层(6.1)和电加热丝(6.2),所述吸附塔主体(1)内填充有活性炭(7)。
2.根据权利要求1所述的一种多晶硅生产工艺中氢气纯化用吸附塔,其特征在于:所述电加热丝(6.2)、绝缘导热层(6.1)和加热管(5)从内到外依次设置。
3.根据权利要求1所述的一种多晶硅生产工艺中氢气纯化用吸附塔,其特征在于:所述加热管(5)均匀设置在吸附塔主体(1)内...
【专利技术属性】
技术研发人员:杨楠,李寿琴,贾琳蔚,陈绍林,
申请(专利权)人:云南通威高纯晶硅有限公司,
类型:新型
国别省市:云南;53
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