一种量子点彩色滤光片的制作方法及显示面板技术

技术编号:28627526 阅读:15 留言:0更新日期:2021-05-28 16:24
本申请公开了一种量子点彩色滤光片的制作方法及显示面板,量子点彩色滤光片的制作方法包括以下步骤:制作第一基板;其中,第一基板包括第一衬底以及依次设置在第一衬底上的表面处理膜和量子点膜;制作第二基板;其中,第二基板包括第二衬底以及设置在第二衬底上的色阻层;将第一基板与第二基板相对设置,以使量子点膜与色阻层接触;以及将第二基板从第一基板上剥离,以使与色阻层接触的量子点膜转印至色阻层上;其中,量子点膜与色阻层之间的剥离力大于量子点膜与表面处理膜之间的剥离力。本申请可以获得高能效、高分辨率和高对比度的量子点彩色滤光片,有利于实现含量子点彩色滤光片的显示面板的量产。

【技术实现步骤摘要】
一种量子点彩色滤光片的制作方法及显示面板
本申请涉及显示
,具体涉及一种量子点彩色滤光片的制作方法及显示面板。
技术介绍
量子点彩色滤光片(QuantumDotColourFilter,QDCF)具有高色域、宽视角的技术特点,搭配MiniLED(Light-EmittingDiode,发光二极管)、MicroLED、OLED(OrganicLight-EmittingDiode,有机发光二极管)背光技术能够表现出优异的画质,是未来显示技术中最具竞争力的产品。目前应用QDCF的显示技术尚无量产品,主要原因之一是现有的QDCF的制作工艺存在缺陷。例如,采用QDPR(QuantumDotPhotoresist,量子点光刻胶)光刻技术制作QDCF会受到QD材料光效下降、信赖性较差的影响;而采用QDIJP(QuantumDotInkJetPrinting,量子点喷墨打印)技术制作QDCF会受到大尺寸、高分辨率技术的限制。因此,急需一种新的QDCF的制作方法来解决上述技术问题,以实现QDCF显示产品量产化。
技术实现思路
本申请提供一种量子点彩色滤光片的制作方法及显示面板,可以获得高能效、高分辨率和高对比度的量子点彩色滤光片,有利于实现含量子点彩色滤光片的显示面板的量产。本申请提供一种量子点彩色滤光片的制作方法,包括以下步骤:制作第一基板;其中,所述第一基板包括第一衬底以及依次设置在所述第一衬底上的表面处理膜和量子点膜;制作第二基板;其中,所述第二基板包括第二衬底以及设置在所述第二衬底上的色阻层;将所述第一基板与所述第二基板相对设置,以使所述量子点膜与所述色阻层接触;以及将所述第二基板从所述第一基板上剥离,以使与所述色阻层接触的所述量子点膜转印至所述色阻层上;其中,所述量子点膜与所述色阻层之间的剥离力大于所述量子点膜与所述表面处理膜之间的剥离力。可选的,所述将所述第二基板从所述第一基板上剥离,包括以下步骤:将相对设置的所述第一基板和所述第二基板先进行热处理再进行冷却;以及将冷却后的所述第二基板从所述第一基板上剥离。可选的,所述将相对设置的所述第一基板和所述第二基板先进行热处理再进行冷却,包括以下步骤:将相对设置的所述第一基板和所述第二基板加热至预设温度,并保持所述预设温度至预设时间;其中,所述预设温度的范围为50℃至100℃,所述预设时间的范围为10分钟至60分钟;以及将所述预设温度下的所述第一基板和所述第二基板冷却至室温。可选的,所述制作第一基板,包括以下步骤:在第一衬底上涂布形成表面处理膜;其中,所述第一衬底的材料包括硅,所述表面处理膜的材料包括十八烷基三氯硅烷或者十八烷基三氯硅烷的衍生物;以及将量子点分散于分散介质中,并将分散有所述量子点的所述分散介质覆盖在所述表面处理膜上,以形成量子点膜;其中,所述分散介质的材料包括正己烷、正戊烷和正辛烷中的至少一种。可选的,所述制作第二基板,包括以下步骤:在第二衬底上形成图案化的多个色阻单元;其中,所述多个色阻单元构成色阻层,所述第二衬底的材料包括聚二甲基硅氧烷或者聚二甲基硅氧烷的衍生物。可选的,每个所述色阻单元包括红色色阻单元、绿色色阻单元和蓝色色阻单元中的任意一种。可选的,所述将所述第二基板从所述第二基板上剥离之后,所述制作方法还包括以下步骤:在所述第二基板形成有量子点膜的一侧形成水氧阻隔层,以使所述水氧阻隔层覆盖在所述第二衬底、所述色阻层的侧壁以及位于所述色阻层上的量子点膜的表面上;其中,所述水氧阻隔层的材料包括氧化硅或氮化硅。可选的,形成所述水氧阻隔层之后,所述制作方法还包括以下步骤:在所述水氧阻隔层的表面形成表面等离子体增强层;所述表面等离子体增强层的材料包括纳米Ag、Ag@SiO2纳米材料或者Ag@TiO2纳米材料。本申请还提供一种显示面板,包括第三基板以及根据以上所述的量子点彩色滤光片的制作方法制作得到的量子点彩色滤光片;所述量子点彩色滤光片与所述第三基板相对设置;所述第三基板包括第三衬底以及设置在所述第三衬底上的发光层;所述量子点彩色滤光片上的量子点膜靠近所述第三基板上的所述发光层设置。可选的,所述发光层包括多个LED单元;所述第三基板还包括设置在所述第三衬底上的多个挡墙,所述多个挡墙在所述第三衬底上定义出多个开口;每个所述开口中至少设有一个所述LED单元;所述色阻层包括与所述多个开口一一对应设置的色阻单元,所述色阻单元至少部分位于对应的所述开口中。本申请提供的量子点彩色滤光片的制作方法及显示面板中,根据不同界面的分子作用力不同使各界面的剥离力产生差异,并通过调整剥离制程条件(热处理和剥离速率控制)将量子点膜-表面处理膜的界面分离,实现了将量子点膜转印到光阻层上,使得量子膜不受黄光制程(光刻胶光刻技术)影响,可保持较量子点的高能效;且光阻层的图案化精度可以由光刻胶光刻技术决定,可满足高分辨率的要求;另外,量子膜出光侧的光阻层可以阻挡环境光避免环境光激发量子膜中的量子点,有利于提高产品的对比度;另外,与喷墨打印技术形成量子点膜相比,本申请不限于大尺寸技术的影响;除此之外,本申请制得的量子点彩色滤光片可应用于柔性显示产品;因此,本申请可以获得高能效、高分辨率和高对比度的量子点彩色滤光片,有利于实现含量子点彩色滤光片的显示面板的量产。附图说明下面结合附图,通过对本申请的具体实施方式详细描述,将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。图1为本申请实施例提供的一种量子点彩色滤光片的制作方法的流程示意图。图2为本申请实施例提供的一种量子点彩色滤光片的制作方法中制作第一基板的结构示意图。图3为本申请实施例提供的一种量子点彩色滤光片的制作方法中制作第二基板的结构示意图。图4为本申请实施例提供的一种量子点彩色滤光片的制作方法中第一基板和第二基板相对设置的结构示意图。图5为本申请实施例提供的一种量子点彩色滤光片的制作方法中第二基板从第二基板上剥离的结构示意图。图6为本申请实施例提供的一种量子点彩色滤光片的制作方法制作得到的量子点彩色滤光片的结构示意图。图7为本申请实施例提供的另一种量子点彩色滤光片的制作方法中制作水氧阻隔层的结构示意图。图8为本申请实施例提供的另一种量子点彩色滤光片的制作方法中制作表面等离子体增强层的结构示意图。图9为本申请实施例提供的一种显示面板结构示意图。图10为本申请实施例提供的另一种显示面板结构示意图。图11为本申请实施例提供的另一种显示面板结构示意图。具体实施方式下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例,本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。在本申请本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种量子点彩色滤光片的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:/n制作第一基板;其中,所述第一基板包括第一衬底以及依次设置在所述第一衬底上的表面处理膜和量子点膜;/n制作第二基板;其中,所述第二基板包括第二衬底以及设置在所述第二衬底上的色阻层;/n将所述第一基板与所述第二基板相对设置,以使所述量子点膜与所述色阻层接触;以及/n将所述第二基板从所述第一基板上剥离,以使与所述色阻层接触的所述量子点膜转印至所述色阻层上;其中,所述量子点膜与所述色阻层之间的剥离力大于所述量子点膜与所述表面处理膜之间的剥离力。/n

【技术特征摘要】
1.一种量子点彩色滤光片的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:
制作第一基板;其中,所述第一基板包括第一衬底以及依次设置在所述第一衬底上的表面处理膜和量子点膜;
制作第二基板;其中,所述第二基板包括第二衬底以及设置在所述第二衬底上的色阻层;
将所述第一基板与所述第二基板相对设置,以使所述量子点膜与所述色阻层接触;以及
将所述第二基板从所述第一基板上剥离,以使与所述色阻层接触的所述量子点膜转印至所述色阻层上;其中,所述量子点膜与所述色阻层之间的剥离力大于所述量子点膜与所述表面处理膜之间的剥离力。


2.根据权利要求1所述的量子点彩色滤光片的制作方法,其特征在于,所述将所述第二基板从所述第一基板上剥离,包括以下步骤:
将相对设置的所述第一基板和所述第二基板先进行热处理再进行冷却;以及
将冷却后的所述第二基板从所述第一基板上剥离。


3.根据权利要求2所述的量子点彩色滤光片的制作方法,其特征在于,所述将相对设置的所述第一基板和所述第二基板先进行热处理再进行冷却,包括以下步骤:
将相对设置的所述第一基板和所述第二基板加热至预设温度,并保持所述预设温度至预设时间;其中,所述预设温度的范围为50℃至100℃,所述预设时间的范围为10分钟至60分钟;以及
将所述预设温度下的所述第一基板和所述第二基板冷却至室温。


4.根据权利要求1所述的量子点彩色滤光片的制作方法,其特征在于,所述制作第一基板,包括以下步骤:
在第一衬底上涂布形成表面处理膜;其中,所述第一衬底的材料包括硅,所述表面处理膜的材料包括十八烷基三氯硅烷或者十八烷基三氯硅烷的衍生物;以及
将量子点分散于分散介质中,并将分散有所述量子点的所述分散介质覆盖在所述表面处理膜上,以形成量子点膜;其中,所述分散介质的材料包括正己烷、正戊烷和正辛烷中的至少一种。


5.根据权利要求1所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:周淼陈珍霞
申请(专利权)人:深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
类型:发明
国别省市:广东;44

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