【技术实现步骤摘要】
一种近红外光谱仪快速温控方法
本专利技术涉及近红外光谱仪
,具体为一种近红外光谱仪快速温控方法。
技术介绍
近红外光谱仪一般都采用InGAs检测器,该检测器具有高探测率和低暗电流的特点,能在室温下稳定工作,通常组件内集成一只热电制冷器(TE)为芯片提供适宜的温度。InGaAs检测器达到室温需要的时间,一般都是靠仪器提前开机预热的方法解决,一般都是预热30-60min。但是对于室外低温工作的近红外光谱仪,InGaAs检测器却没有很好的加热措施,导致近红外光谱仪预热时间延长至3个小时。甚至长时间不能达到InGiaAs检测器的适宜温度。
技术实现思路
(一)解决的技术问题针对现有技术的不足,本专利技术提供了一种近红外光谱仪快速温控方法,解决了室外低温工作的近红外光谱仪,InGaAs检测器却没有很好的加热措施,导致近红外光谱仪预热时间长的问题。(二)技术方案为实现以上目的,本专利技术通过以下技术方案予以实现:一种近红外光谱仪快速温控方法,包括近红外光谱仪,所述近红外光谱仪内设 ...
【技术保护点】
1.一种近红外光谱仪快速温控方法,包括近红外光谱仪,其特征在于:所述近红外光谱仪内设置有升温模块、温控模块、定时模块,所述升温模块采用高温纳米陶瓷技术,所述温控模块包括数字温控芯片,所述定时模块包括脉冲定时器。/n
【技术特征摘要】
1.一种近红外光谱仪快速温控方法,包括近红外光谱仪,其特征在于:所述近红外光谱仪内设置有升温模块、温控模块、定时模块,所述升温模块采用高温纳米陶瓷技术,所述温控模块包括数字温控芯片,所述定时模块包括脉冲定时器。
2.根据权利要求1所述的一种近红外光谱仪快速温控方法,其特征在于:所述高温纳米陶瓷技术即在电热元件喷涂0.05-0.1mm高温纳米陶瓷涂层,升温后与元件形成一体,对元件起到热保护(如氧化、腐蚀),降低导热热阻;工作时吸收不同波长热量,再以近红外线至远红外线波长区域内热量辐射出去,提高发热元件的表面发射率相当于提高点热效率,温度在60-1500摄氏度范围内,高温纳米陶瓷涂层稳定发射率为0.95,而普通发热元件表面发射率介于0.5-0.8之间。
3.根据权利要求1所述的一种近红外光谱仪快速温控方法,其特征在于:所述数字...
【专利技术属性】
技术研发人员:仇士磊,董海平,沈玉柱,付衍宁,
申请(专利权)人:济南弗莱德科学仪器有限公司,
类型:发明
国别省市:山东;37
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