一种高溶解性催化剂用三氧化钼及其生产工艺制造技术

本发明专利技术提供了一种高溶解性催化剂用三氧化钼的生产工艺，包括如下步骤：S1、选择指定粒径范围的单晶二钼酸铵，S2、将步骤S1所得单晶二钼酸铵放入至回转煅烧炉中进行煅烧，回转煅烧炉内分为低温区和高温区，最后取出冷却即得，其中，单晶二钼酸铵的粒径范围为x微米‑y微米，80≤x≤160，120≤y≤200，且y‑x≤40；本发明专利技术所提供的高溶解性催化剂用三氧化钼的生产工艺，通过选择窄粒度分布范围的原料，使得材料在高温段长晶过程容易控制，所得到的三氧化钼的晶体形貌好，且溶解性佳；并且将脱氨脱水过程与三氧化钼结晶过程均放在回转煅烧炉中进行反应，简化了工艺流程，精简了反应设备，降低了设备维护成本的同时节约了产品的生产成本。

【技术实现步骤摘要】
一种高溶解性催化剂用三氧化钼及其生产工艺
本专利技术涉及金属材料
，具体而言，涉及一种高溶解性催化剂用三氧化钼及其生产工艺。
技术介绍
在石油催化剂行业，高溶三氧化钼是各种系列催化剂的主要原料，其在溶于水后，粘附在多孔介质的孔隙内壁上发挥催化作用，其生产工艺一般是通过焙烧分解钼酸铵制备，钼酸铵原料类型、原料粒度、焙烧设备和焙烧工艺直接影响到三氧化钼的纯度、粒度分布、晶形晶貌及溶解性能。目前的三氧化钼产品主要存在三个问题：1、产品稳定性较差，主要是由于原料钼酸铵稳定性差且生产工艺较为落后；2、产品种类单一，只能客户适应原料，基本无法根据客户需求生产个性化产品；3、产品溶解性能差，主要体现在溶解速度慢及溶解后溶液成份复杂，有不溶物主要原因：1)原料钼酸铵存在团聚及粒度分布宽等问题，从而导致煅烧出的三氧化钼部分过烧，而部分欠烧；2)各厂家溶解工艺不一致，未开发出对应的煅烧工艺及制定对应的钼酸铵物理化学要求。申请内容本专利技术的目的在于提供一种高溶解性催化剂用三氧化钼及其生产工艺，有效解决了上述技术问题。本专利技术的实施例通过以下技术方案实现：本专利技术第一方面提供了一种高溶解性催化剂用三氧化钼的生产工艺，包括如下步骤：S1、选择指定粒径范围的单晶二钼酸铵；S2、将步骤S1所得单晶二钼酸铵放入至回转煅烧炉中进行煅烧，回转煅烧炉内分为低温区和高温区，最后取出冷却即得；其中，单晶二钼酸铵的粒径范围为x微米-y微米；其中，80≤x≤160，120≤y≤200，且y-x≤40。本专利技术第二方面提供了由上述生产工艺制得的高溶解性催化剂用三氧化钼。本专利技术实施例的技术方案至少具有如下优点和有益效果：本专利技术所提供的高溶解性催化剂用三氧化钼的生产工艺，第一方面通过选择窄粒度分布范围的原料，然后针对不同粒径的原料调整回转炉内的温度及其他参数，使得加热过程容易控制，并且使得材料在高温段长晶过程容易控制，所得到的三氧化钼的晶体形貌好，且溶解性佳；第二方面，本专利技术所提供的生产工艺将脱氨脱水过程与三氧化钼结晶过程均放在回转煅烧炉中进行反应，简化了工艺流程，精简了反应设备，降低了设备维护成本的同时节约了产品的生产成本；第三方面，本专利技术所提供的生产工艺还能够根据客户的具体需求生产出多类型的高溶三氧化钼产品，提高了产品的适应性。具体实施方式为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。实施例中未注明具体条件者，按照常规条件或制造商建议的条件进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市售购买获得的常规产品。本具体实施方式提供了一种高溶解性催化剂用三氧化钼的生产工艺，用于制备高溶解性催化剂用三氧化钼，包括如下两个步骤(S1和S2)：S1、选择指定粒径范围的单晶二钼酸铵；其中，单晶二钼酸铵的粒径范围为x微米-y微米；其中，80≤x≤160，120≤y≤200，且y-x≤40。如此设置使得作为原料的二钼酸铵的粒度分布较为集中，在煅烧时不会产生一部分二钼酸铵过烧另一部分二钼酸铵欠烧从而造成所得产品溶解性差的情况，另外，合理的粒径大小一方面能够避免原料由于粒径过小，造成流动性差，进而在给料时发生断料等情况，另一方面能够避免原料由于粒径过大，在煅烧时造成颗粒的外部过烧和内部欠烧的情况。进一步地，单晶二钼酸铵的粒径范围为：80微米-120微米、120微米-160微米和160微米-200微米中的一种。S2、将步骤S1所得单晶二钼酸铵放入至回转煅烧炉中进行煅烧，回转煅烧炉内分为低温区和高温区，最后取出冷却即得。回转煅烧炉内设置6个加热带，每个加热带长度为700毫米，沿物料的传输方向分为一带、二带、三带、四带、五带和六带，其中，一带和二带为低温区，该低温区的作用在于维持二钼酸铵的脱水脱氨过程，在该低温区内二钼酸铵分解产生水汽和氨气，由于温度较低，氨气不会分解产生具有还原性的气体，进而可以有效避免三氧化钼发生自还原生成二氧化钼等副产物，三带至六带为高温区，该高温区的作用在于，通过设置具体的温度，控制三氧化钼的颗粒成长大小(三氧化钼颗粒的成长程度影响其溶解性能)，通过调节不同的温度参数，可以获得不同成长程度，不同溶解性能的三氧化钼产品。回转煅烧炉的炉体倾斜斜度为10°-20°，通过调节炉管转速，调节钼酸铵分解焙烧三氧化钼的反应时间，保证各个粒度的原料完全生成三氧化钼，相成分单一。通过调节给料速度，使得炉内料层厚度适中，以确保三氧化钼反应均匀。炉门密闭，炉头风管配置风机对炉内进行抽风，通过风机频率调节炉内为微负压，煅烧二钼酸铵时，维持抽风风量为500～1500m3/h，以保证产生的水汽和氨气及时抽走，避免残留在炉内分解成氢气导致三氧化钼的自还原生成二氧化钼，同时又可以避免炉内物料被抽走，造成直收率降低。上述温度控制、炉管转速、进料速度、风机频率等均由PLC系统监控、调节，人工干预少。进一步地，回转煅烧炉内低温区的温度为400℃-460℃，回转煅烧炉内高温区的温度为440℃-530℃，回转煅烧炉的转炉转速为3r/min-6r/min，回转煅烧炉的给料速度为70kg/h-120kg/h。若单晶二钼酸铵的粒径范围为80微米-120微米，则回转煅烧炉内低温区的温度为400℃-460℃，回转煅烧炉内高温区的温度为440℃-520℃，回转煅烧炉的转炉转速为5r/min-6r/min，回转煅烧炉的给料速度为100kg/h-120kg/h；其中，当回转煅烧炉内低温区的温度为400℃，回转煅烧炉内高温区的温度为440℃，回转煅烧炉的转炉转速为5r/min-6r/min，回转煅烧炉的给料速度为100kg/h-120kg/h，制得深灰色的三氧化钼；其中，当回转煅烧炉内低温区的温度为440℃，回转煅烧炉内高温区的温度为470℃，回转煅烧炉的转炉转速为5r/min-6r/min，回转煅烧炉的给料速度为100kg/h-120kg/h，制得浅灰色的三氧化钼；其中，当回转煅烧炉内低温区的温度为460℃，回转煅烧炉内高温区的温度为520℃，回转煅烧炉的转炉转速为5r/min-6r/min，回转煅烧炉的给料速度为100kg/h-120kg/h，制得白色的三氧化钼。若单晶二钼酸铵的粒径范围为120微米-160微米，则回转煅烧炉内低温区的温度为400℃-460℃，回转煅烧炉内高温区的温度为445℃-525℃，回转煅烧炉的转炉转速为4r/min-5r/min，回转煅烧炉的给料速度为90kg/h-110kg/h；其中，当回转煅烧炉内低温区的温度为400℃，回转煅烧炉内高温区的温度为445℃，回转煅烧炉的转炉转速为4r/min-5r/min，回转煅烧炉的给料速度为90kg/h-110kg/h，制得深灰色的三氧化钼；其中，当回转煅烧炉内低温区的温度为440℃，回转煅烧炉内高温区的温度为475℃，回转煅烧炉的转炉本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高溶解性催化剂用三氧化钼的生产工艺，其特征在于，包括如下步骤：/nS1、选择指定粒径范围的单晶二钼酸铵；/nS2、将步骤S1所得单晶二钼酸铵放入至回转煅烧炉中进行煅烧，回转煅烧炉内分为低温区和高温区，最后取出冷却即得；/n其中，单晶二钼酸铵的粒径范围为x微米-y微米；/n其中，80≤x≤160，120≤y≤200，且y-x≤40。/n

【技术特征摘要】
1.一种高溶解性催化剂用三氧化钼的生产工艺，其特征在于，包括如下步骤：
S1、选择指定粒径范围的单晶二钼酸铵；
S2、将步骤S1所得单晶二钼酸铵放入至回转煅烧炉中进行煅烧，回转煅烧炉内分为低温区和高温区，最后取出冷却即得；
其中，单晶二钼酸铵的粒径范围为x微米-y微米；
其中，80≤x≤160，120≤y≤200，且y-x≤40。


2.根据权利要求1所述的高溶解性催化剂用三氧化钼的生产工艺，其特征在于，单晶二钼酸铵的粒径范围为：80微米-120微米、120微米-160微米和160微米-200微米中的一种。


3.根据权利要求2所述的高溶解性催化剂用三氧化钼的生产工艺，其特征在于，回转煅烧炉内低温区的温度为400℃-460℃，回转煅烧炉内高温区的温度为440℃-530℃，回转煅烧炉的转炉转速为3r/min-6r/min，回转煅烧炉的给料速度为70kg/h-120kg/h。


4.根据权利要求3所述的高溶解性催化剂用三氧化钼的生产工艺，其特征在于：
若单晶二钼酸铵的粒径范围为80微米-120微米，则回转煅烧炉内低温区的温度为400℃-460℃，回转煅烧炉内高温区的温度为440℃-520℃，回转煅烧炉的转炉转速为5r/min-6r/min，回转煅烧炉的给料速度为100kg/h-120kg/h；
若单晶二钼酸铵的粒径范围为120微米-160微米，则回转煅烧炉内低温区的温度为400℃-460℃，回转煅烧炉内高温区的温度为445℃-525℃，回转煅烧炉的转炉转速为4r/min-5r/min，回转煅烧炉的给料速度为90kg/h-110kg/h；
若单晶二钼酸铵的粒径范围为160微米-200微米，则回转煅烧炉内低温区的温度为400℃-460℃，回转煅烧炉内高温区的温度为460℃-530℃，回转煅烧炉的转炉转速为3r/min-4r/min，回转煅烧炉的给料速度为70kg/h-90kg/h。


5.根据权利要求4所述的高溶解性催化剂用三氧化钼的生产工艺，其特征在于，若单晶二钼酸铵的粒径范围为80微米-120微米：
当回转煅烧炉内低温区的温度为400℃，回转煅烧炉内高温区的温度为440℃，回转煅烧炉的转炉转速为5r/min-6r/min，回转煅烧炉的给料速度为100kg/h-120kg/h，制得深灰色的三氧化钼；
当回转煅烧炉内低温区的温度为440℃，回转煅烧炉内高温区的温度为470℃，回转煅烧炉的转炉转速为5r/min-6r/min，回转煅烧炉的给料速度为10...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘锦锐，易建，杨伟，高志强，加明，
申请(专利权)人：成都虹波钼业有限责任公司，成都鼎泰新材料有限责任公司，
类型：发明
国别省市：四川;51