用于监测光谱辐射计的方法和设备技术

本发明专利技术涉及一种用于监测光谱辐射计(4)的方法，尤其用于测量发光测试对象(1)的方法，其中，借助光学系统检测测试对象(1)的光谱数据，其中，由所述光谱数据求取测试对象(1)的辐射度参量、光度参量和/或色度参量。本发明专利技术的任务是说明一种用于监测光谱辐射计(4)的方法，其中，首要的不是对光谱辐射计(4)持续地进行再校准，而是监测何时需要校准。本发明专利技术通过如下方式解决该问题：通过测量集成到该光学系统中的、具有所定义的光谱的参考光源(5)，根据该参考光谱来探测光谱辐射计(4)在波长刻度方面、在光吞吐量方面和/或在光谱灵敏度方面的改变。可选地，至少一个集成到该光学系统中的探测器可以附加地监测该参考光源(5)的稳定性。此外，本发明专利技术涉及一种用于执行该方法的设备。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于监测光谱辐射计的方法和设备
本专利技术涉及一种用于监测光谱辐射计的方法，其中，借助光学系统检测例如发光测试对象的光谱数据。由所述光谱数据能够求取测试对象的辐射度参量、光度参量和/或色度参量。此外，本专利技术涉及一种用于执行该方法的设备。
技术介绍
在电磁波谱的可见光范围和不可见光范围内，光测量技术中的许多任务在实践中都是借助光谱仪实现的，以便例如在简单光电二极管探测器的情况下不仅检测功率值，而且检测根据波长所解析的功率分布(光谱)。这种光谱仪例如用于(例如在LED生产中)测量发光测试对象。借助光学测量系统检测测试对象的光谱数据。由所述光谱数据则能够求取测试对象的辐射度参量、光度参量和/或色度参量。使用光谱辐射计的一个问题是，由于其复杂的光学器件，在其灵敏度方面相对于其他更简单的探测器可能变化得更快。对于经校准的测量系统，这表示在一定时间后，其测量会超出规范。导致无效校准(“失校”)的最重要的影响变量是温度和老化引起的改变。重要的改变可以划分为三个类别：波长刻度中的改变、光吞吐量中的改变和光谱灵敏度中的改变(例本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于监测光谱辐射计(4)、尤其用于测量发光的测试对象(1)的方法，在所述方法中，借助光学系统检测所述测试对象(1)的光谱数据，其中，由所述光谱数据求取所述测试对象(1)的辐射度参量、光度参量和/或色度参量，/n其特征在于，/n通过被集成到所述光学系统中的参考光源(5)来探测所述光谱辐射计(4)在波长刻度方面、在光吞吐量方面和/或在光谱灵敏度方面的改变。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180816 DE 102018120006.41.一种用于监测光谱辐射计(4)、尤其用于测量发光的测试对象(1)的方法，在所述方法中，借助光学系统检测所述测试对象(1)的光谱数据，其中，由所述光谱数据求取所述测试对象(1)的辐射度参量、光度参量和/或色度参量，
其特征在于，
通过被集成到所述光学系统中的参考光源(5)来探测所述光谱辐射计(4)在波长刻度方面、在光吞吐量方面和/或在光谱灵敏度方面的改变。


2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，借助附加地集成到所述光学系统中的探测器(7)来监测所述参考光源(5)的稳定性。


3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，在所述光学系统中设置用于光通量的测量头(3)作为耦合输入光学器件。


4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，在所述测量头(3)中使用积分球。


5.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，在所述光学系统中设置光密度测量头作为耦合输入光学器件。


6.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，在所述光学系统中设置辐射强度测量头作为耦合输入光学器件。


7.根据权利要求1至6中任一项所述的方法，其特征在于，所述参考光源(5)是具有精密电流源(6)的LED。


8.根据权利要求1至7中任一项所述的方法，其特征在于，如此运行所述参考光源(5)，使得所述参考光源稳定在热力学平衡状态中。


9.根据权利要求1至8中任一项所述的方法，其特征在于，以脉冲的方式...

【专利技术属性】
技术研发人员：M·赫，R·黑林，F·舍韦，M·曼格斯特尔，T·科普，
申请(专利权)人：仪器系统光学测量技术有限责任公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE