一种具有旋转挂架机构的真空镀膜机制造技术

技术编号:28527346 阅读:39 留言:0更新日期:2021-05-20 00:12
本实用新型专利技术公开了一种具有旋转挂架机构的真空镀膜机,包括镀膜腔、左膜腔、右膜腔和支架装置,所述镀膜腔为半圆柱形,所述镀膜腔中心开设有正面中心开设有半圆柱形凹槽,所述镀膜腔一侧通过铰链转动连接有左膜腔,所述镀膜腔另一侧通过铰链转动连接有右膜腔,所述左膜腔和所述右膜腔内部中心开设有半圆柱形凹槽,所述左膜腔和所述右膜腔内部中心凹槽与所述镀膜腔内部中心凹槽相匹配,且组合成圆柱体,所述镀膜腔底端表面固定焊接有底座;该装置在使用时,通过设置有支架体,旋转过程中,由于离心力的作用会向两侧进行拉伸,保持一个扩张状态,提高靶材之间的间隔,提高镀膜速率,提高镀膜的品质,不会使得靶材相互拥挤,影响镀膜效果。果。果。

【技术实现步骤摘要】
一种具有旋转挂架机构的真空镀膜机


[0001]本技术涉及一种潜水搅拌装置,特别涉及一种具有旋转挂架机构的真空镀膜机,属于污水处理技术


技术介绍

[0002]真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种;然而,现有的真空镀膜机旋转挂架在使用时对靶材的固定不够紧密,而且不能根据靶材的形状和体积进行伸缩变化,使得靶材镀膜不够均匀,镀膜效果不好。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于提供一种具有旋转挂架机构的真空镀膜机,以解决上述
技术介绍
提出的目前市场上的现有的真空镀膜机旋转挂架在使用时对靶材的固定不够紧密,而且不能根据靶材的形状和体积进行伸缩变化,使得靶材镀膜不够均匀,镀膜效果不好的问题。
[0004]为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:包括镀膜腔、左膜腔、右膜腔和支架装置,所述镀膜腔为半圆柱形,所述镀膜腔中心开设有正面中心开设有半圆柱形凹槽,所述镀膜腔一侧通过铰链转动连接有左膜腔,所述镀膜腔另一侧通过铰链转动连接有本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种具有旋转挂架机构的真空镀膜机,包括镀膜腔(1)、左膜腔(2)、右膜腔(3)和支架装置(4),其特征在于:所述镀膜腔(1)为半圆柱形,所述镀膜腔(1)中心开设有正面中心开设有半圆柱形凹槽,所述镀膜腔(1)一侧通过铰链转动连接有左膜腔(2),所述镀膜腔(1)另一侧通过铰链转动连接有右膜腔(3),所述左膜腔(2)和所述右膜腔(3)内部中心开设有半圆柱形凹槽,所述左膜腔(2)和所述右膜腔(3)内部中心凹槽与所述镀膜腔(1)内部中心凹槽相匹配,且组合成圆柱体,所述左膜腔(2)和所述右膜腔(3)内部中心转动连接有支架装置(4),所述镀膜腔(1)底端表面固定焊接有底座(5)。2.根据权利要求1所述的一种具有旋转挂架机构的真空镀膜机,其特征在于:所述支架装置(4)包括支架体(401)、第一固定盘(402)和第二固定盘(404),所述支架体(401)为矩形框架,所述支架体(401)在所述第一固定盘(402)两侧对称固定焊接有两个,所述第一固定盘(402)呈三边形柱体,且顶面开设有转动轴连接孔,所述第一固定盘(402)和所述第二固定盘(404)之间固定焊接有两根支撑柱(403),所述支撑柱(403)设置有两根,且相较于所述第二固定盘(404)中心对称,所述第二固定盘(404)呈圆盘型,底部表面连接有转动装置。3.根...

【专利技术属性】
技术研发人员:李龙辉
申请(专利权)人:佛山市百思特电子材料有限公司
类型:新型
国别省市:

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