【技术实现步骤摘要】
一种二氧化硅粉体填料的制备方法、由此得到的粉体填料及其应用
[0001]本专利技术涉及电路板和天线封装,更具体地涉及一种二氧化硅粉体填料的制备方法、由此得到的粉体填料及其应用。
技术介绍
[0002]在5G通讯领域,需要用到射频器件等组装成设备,高密度互连板(high density interconnect,HDI)、高频高速板和母板等电路板。这些电路板一般主要由环氧树脂,芳香族聚醚,氟树脂等有机高分子和填料所构成,其中的填料主要是角形或球形二氧化硅,其主要功能是降低有机高分子的热膨胀系数。现有的填料选用球形或角形二氧化硅进行紧密充填级配。
[0003]随着技术的进步,通信设备也越来越小。通信设备中不可缺少的天线也变的越来越小,最终将采用封装天线AIP。由于设计原因,将天线做小时的基板及封装材料必须具有高介电常数和低介电损失,但是现有的已知填料无法满足该要求。
技术实现思路
[0004]为了解决上述现有技术中的已知填料的介电常数无法满足小尺寸通信设备的要求等问题,本专利技术提供一种二氧化硅粉体填料的制备方法、由此得到的粉体填料及其应用。
[0005]根据本专利技术的二氧化硅粉体填料的制备方法,其包括如下步骤:S1,将高介电常数粉体分散于含水溶液中,向含水溶液中加入R1SiX3使其水解缩合以提供聚硅氧烷粉体,该聚硅氧烷粉体为内含高介电常数粉体的包括T单位的聚硅氧烷,其中,R1为氢原子或可独立选择的碳原子1至18的有机基,X为加水可分解基团,T单位为R1SiO3‑
,高介电常数粉 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种二氧化硅粉体填料的制备方法,其特征在于,该制备方法包括如下步骤:S1,将高介电常数粉体分散于含水溶液中,向含水溶液中加入R1SiX3使其水解缩合以提供聚硅氧烷粉体,该聚硅氧烷粉体为内含高介电常数粉体的包括T单位的聚硅氧烷,其中,R1为氢原子或可独立选择的碳原子1至18的有机基,X为加水可分解基团,T单位为R1SiO3‑
,高介电常数粉体的粒径小于聚硅氧烷的粒径;S2,在含有氧气的氛围中煅烧聚硅氧烷粉体,煅烧温度介于850度
‑
1200度之间,得到内部含有高介电常数粉体的二氧化硅粉体填料。2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,高介电常数粉体的粒径≦聚硅氧烷的粒径的三分之一。3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,高介电常数粉体选自由氧化钛,氧化锌,氧化锆,钛酸盐,锌酸盐,锆酸盐组成的组中的至少一种。4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,煅烧温度介于850度
‑
1100度之间,煅烧时间介于6小时
‑
12小时之间。5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,聚硅氧烷还包括Q单位、D单位、和/或M单位,其中,Q单位=SiO4‑
,D单位=R2R3SiO2‑
,M单位=R4R5R6SiO2‑
,R2,R3,R4,R5,R6分别为氢原子或可独立选择的碳原子1至18的有机基。6.根据权利要求5所述的制备方法,其特征在于,聚硅氧烷的T单位原料R1SiX3选自由甲基三甲氧基硅烷,烃基三烃氧基硅烷,甲基三氯硅烷和烃基三氯硅烷组成的组中的至少一种,Q单位原料选自由四烃氧基硅烷,四氯化硅和二氧化硅组成的组中的至少一种,D单位原料选自由二烃基二烃氧基硅烷和二烃基二氯硅烷组成的组中的至少一种,M单位原料选自由三烃基烃氧基硅烷,三烃基氯硅烷和六烃基二硅氮烷组成的组中的至少一种。7.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,该制备方法还包括加入处理剂对二氧化硅粉体填料进行表面处理,该处理剂包括硅烷偶联剂和...
【专利技术属性】
技术研发人员:李文,黄江波,王珂,张大伟,
申请(专利权)人:浙江三时纪新材科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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