一种适用于多层镀膜的镀膜工艺制造技术

本发明专利技术涉及真空镀膜技术领域，具体涉及一种适用于多层镀膜的镀膜工艺，主要包括卷绕上料、采用磁控溅射法进行基层镀膜、采用蒸发法进行功能层镀膜、采用磁控法进行保护层镀膜等步骤，从而通过一种复合工艺实现了塑料基材的三层镀膜，大大提高了工作效率，避免了膜中掺有氧、水汽等杂质的可能性，提高了镀膜速度。提高了镀膜速度。提高了镀膜速度。

【技术实现步骤摘要】
一种适用于多层镀膜的镀膜工艺


[0001]本专利技术涉及真空镀膜
，具体涉及一种适用于多层镀膜的镀膜工艺。

技术介绍

[0002]对于膜层比较厚且结合力要求比较高，表面又需要镀保护层的薄膜，现有工艺受制于设备闲置，只能现在磁控镀膜机上使用磁控镀膜方法镀基层膜，以达到如增强结合力的目的，然后将基材转移至蒸发镀膜机上使用蒸发方法镀一层较厚的功能层，镀完后再转移至磁控镀膜及上镀制保护层，以达到如防止氧化等目的，效率很低，在不同机器间转移膜时会暴露在空气环境中，使膜中掺有氧、水汽等杂质，对于中间膜层是非导电材料的薄膜，一种方法是使用上述方法，另一种是使用中频或者射频方法镀膜，但该镀膜方法速度很慢，

技术实现思路

[0003]针对现有技术中存在的不足，本专利技术提供了一种适用于多层镀膜的镀膜工艺，所要解决的技术问题是如何设计一种新的多层镀膜的镀膜工艺，以保证镀膜质量，提高镀膜速度。
[0004]为解决上述技术问题，本专利技术提供的技术方案是：一种适用于多层镀膜的镀膜工艺，工艺步骤如下：
[0005]S1：将塑料基材卷本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种适用于多层镀膜的镀膜工艺，其特征在于：工艺步骤如下：S1：将塑料基材卷绕在收放卷辊上；S2：将卷绕在收放卷辊上的基材卷绕到第一镀膜辊上，并采用磁控溅射方法进行基层镀膜，工作源为若干个磁控靶；S3：将完成基层镀膜的基材卷绕到第二镀膜辊上，并采用蒸发法进行功能层镀膜；S4：将完成功能层镀膜的基材卷绕到第三镀膜辊上，并采用磁控法进行保护层的镀膜，工作源为若干个磁控靶；S5：将完成保护层镀膜的基材卷绕出料。2.根据权利要求1所述的一种适用于多层镀膜的镀膜工艺，其特征在于：在步骤S1中，所述收放卷辊至少有两个。3.根据权利要求1所述的一种适用于多层镀膜的镀膜工艺，其特征在于：在步骤S2和S4中，磁控溅射的方法为直流磁控溅射、中频磁控溅射和脉冲直流磁控溅射，材料为镍、钛和铬。4.根据权利要求1所述的一种适用于多层镀膜的镀膜工艺，其特征在于：在步骤S3中，蒸发法...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈自新，郑立冬，朱海锋，李伟，张艺馨，
申请(专利权)人：无锡光润真空科技有限公司，
类型：发明
国别省市：