一种服装表面处理设备制造技术

本发明专利技术公开了一种服装表面处理设备，本发明专利技术在使用时，将基板下表面敷在服装表面上，各个光罩的下表面与服装表面接触，光罩对服装表面进行压迫，开启光源区域中的各个光源，光源出射的光经过增透膜后照射在耦出区域的各个阵列反射波导上，光通过耦出区域的阵列反射波导耦出后向下照射，并透出光罩，光罩上所覆盖的调光层能够对通过的光的强度进行衰减调整；独立控制的调光层可以自动、快速地调整高温区域的光罩通过的光能量；耦出的光照射向光罩的方向并从光罩透出照射在服装表面上，照射在服装表面的光产生热效应，从而将服装表面上的瑕疵灼烧掉，实现了对服装表面的瑕疵、浮毛的处理。理。理。

【技术实现步骤摘要】
一种服装表面处理设备


[0001]本专利技术涉及服装处理
，具体涉及一种服装表面处理设备。

技术介绍

[0002]在服装生产过程中，很多时候不可避免地会在服装表面上造成一些不平整瑕疵：例如浮毛、浮线等。目前对于这些瑕疵的处理，多采用剃毛器的方式来进行剃毛处理。有时会采用灼烧的方式进行处理，在灼烧方式中，一般采用明火对服装表面快速掠过。在剃毛器的处理方式中，由于剃毛器内存在刀片，在刀片刮过服装表面时，容易损坏服装表面；在明火处理方式中，由于火焰温度难以控制，掠过服装表面速度时间难以控制，也会有可能损坏服装表面。

技术实现思路

[0003]针对现有技术中的缺陷，本专利技术提供一种服装表面处理设备，能够对服装表面进行均匀地灼烧处理，并且本专利技术所输出的光能量可控，可根据服装材质的情况来调整到合适的输出光能量。
[0004]一种服装表面处理设备，包括基板，所述基板上设有多个分区，所述分区上设有突出于基板下表面的光罩，所述光罩表面为球面或椭球面；
[0005]所述基板内设有光学板，所述光学板包括从左往右依次排布的耦出区域、增透膜和光源区域，所述耦出区域、和光源区域均由透明材料制成，所述增透膜设置在所述耦出区域和光源区域相接的界面上；
[0006]所述光源区域设有多个内陷凹槽，各凹槽中均插入固定一个光源，所述光源向左照射透出光源区域和所述增透膜后照射在所述耦出区域中，各个所述光源的主光轴互相平行；
[0007]所述耦出区域中并列平行设置多个阵列反射波导，所述阵列反射波导数量与所述光源数量相等，所述阵列反射波导的长度方向平行于光源的主光轴，各个所述光源的主光轴一一对准各个所述阵列反射波导，各光源出射的光耦入对应的所述阵列反射波导中；
[0008]所述光罩所罩的基板部分开有通光孔，所述通光孔连通至所述光学板的耦出区域的表面，通光孔处还设有散焦透镜；各所述光罩上覆盖有调光层，所述调光层由一个或多个液晶电控调光膜构成，不同光罩的调光层的控制相互独立；
[0009]所述基板下表面还设有多个温度探测器，各个光罩边缘处设置至少一个所述温度探测器，所述温度探测器与其最近的所述调光层连接，温度探测器探测服装表面温度达到预设值时，对应位置处的所述调光层转换为散射状态。
[0010]进一步的，
[0011]所述液晶电控调光膜采用PDLC调光膜。
[0012]进一步的，
[0013]所述调光层由多个液晶电控调光膜重叠构成，所述温度探测器的触发值包括多个
温度预设值，各温度预设值对应触发不同数量的液晶电控调光膜；温度预设值越高，触发的液晶电控调光膜的数量越多。
[0014]进一步的，
[0015]所述光源的出射光束为准直光束。
[0016]进一步的，
[0017]所述光源的出射光谱中包括有紫外光。
[0018]进一步的，
[0019]多个所述分区为互相独立的板块，所述基板包括有骨骼框架，所述分区可拆卸安装在骨骼框架上。
[0020]进一步的，
[0021]所述光罩和所述分区一体成型。
[0022]进一步的，
[0023]所述光罩采用玻璃制成，且熔融一体成型在所述分区上，所述分区采用高分子材料制成。
[0024]本专利技术的有益效果体现在：本专利技术在使用时，将基板下表面覆盖在服装表面上，快速地在服装表面进行来回压迫搓动，各个光罩的下表面与服装表面接触，光罩对服装表面进行压迫，开启光源区域中的各个光源，光源出射的光经过增透膜后照射在耦出区域的各个阵列反射波导上，光耦入阵列反射波导内进行全反射传播，阵列反射波导作用在于将在其内部全反射传播的光不断从侧面耦出，耦出的光照射向光罩的方向并从光罩透出照射在服装表面上，照射在服装表面的光产生热效应，从而将服装表面上的瑕疵灼烧掉，实现了对服装表面的瑕疵、浮毛的处理。
[0025]本专利技术在使用过程中，各个构造的效果在于：
[0026]通过多个分区上的光罩对服装的均匀地进行大范围照射，能够增大对服装的照射面积；
[0027]球面或椭球面的光罩能够使得与服装表面接触的光罩表面不会存在棱角伤害服装表面的情况；
[0028]基板可采用不透明材料制成，不透明的基板使得光只能从光罩透出，防止了基板四处散光导致的光污染，也避免了对不必处理的部位进行照射；
[0029]基板内部设置的空腔中安装光学板，光源出射的光依次透过光源区域、增透膜、耦出区域，采用透明材料制成的光源区域、增透膜、耦出区域能够一定程度防止光能量的浪费。一些没有耦入阵列反射波导的光线也能够透射透明的光源区域、增透膜、耦出区域，并且这些没有耦入阵列反射波导的光透过三个区域后能够一定程度地从光罩向外照射，这样能够一定程度地避免光源的光能量的浪费；
[0030]通过增透膜，光源出射的光能够以更高的透射率透过光源区域进入耦出区域，提升进入耦出区域的光能量，有效降低光源区域和耦出区域界面之间的端面反射；
[0031]光通过耦出区域的阵列反射波导耦出后向下照射，并透出光罩，光罩上所覆盖的调光层能够对通过的光的强度进行衰减调整；具体的，调光层由液晶电控调光膜构成，不同光罩的调光层的控制相互独立，当某个光罩旁侧的温度探测器探测到此处光罩下方的服装表面温度达到预设值时，则该处的调光层触发，调光层转换为散射状态，对此位置的光罩通
过的光进行衰减，从而降低照射在此处服装表面的光的强度，防止灼伤服装表面，温度预设值可根据服装的材料而设定，独立控制的调光层可以自动、快速地调整高温区域的光罩通过的光能量，可以针对性地只调节照射在服装的高温区域上的光能量，不会降低照射在服装其他区域的光能量；
[0032]调光层的转换状态包括透明和部分透明两种状态；一般的，液晶电控调光膜可采用PDLC薄膜，其透明和部分透明两种状态对应的是透射或散射的两种状态。当某层液晶电控调光膜处于透射状态时，光线能够透过该层液晶电控调光膜直接透射，不会发生衰减；当某层液晶电控调光膜处于散射状态时，光线则会在该层液晶电控调光膜上发生散射，光线不会完全透射过该层液晶电控调光膜，会存在一定的光能量衰减；
[0033]阵列反射波导的长度方向平行于光源的主光轴，并且各个所述光源的主光轴互相平行，阵列反射波导与光源的数量也相同，因此每个光源出射的光均能够单独耦入其对应的阵列反射波导内，防止有些阵列反射波导无法接收到光；
[0034]通过阵列反射波导，阵列反射波导内阵列排布的半反半透界面能够将光源出射的单束光变为多束光耦出，节省了光源的数量，只用单个光源便可实现一个方向的大范围照射；这样便可以均匀地将光能量分布在服装表面上，防止某区域的光能量过大而烧坏服装；
[0035]在阵列反射波导将其内部全反射的光耦出的过程中，光源出射的光耦入阵列反射波导后全反射传播，向下耦出的光中能够进入光罩范围的光从光罩处透出，设置在光罩里的散焦透镜能够对通过的光进行散焦，以实现更大的照射范围，从而增大从光罩出射的光的发散角，以本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种服装表面处理设备，其特征在于：包括基板(1)，所述基板(1)上设有多个分区(101)，所述分区(101)上设有突出于基板(1)下表面的光罩(102)，所述光罩(102)表面为球面或椭球面；所述基板(1)内设有光学板(2)，所述光学板(2)包括从左往右依次排布的耦出区域(201)、增透膜(202)和光源区域(203)，所述耦出区域(201)、和光源区域(203)均由透明材料制成，所述增透膜(202)设置在所述耦出区域(201)和光源区域(203)相接的界面上；所述光源区域(203)设有多个内陷凹槽，各凹槽中均插入固定一个光源(204)，所述光源(204)向左照射透出光源区域(203)和所述增透膜(202)后照射在所述耦出区域(201)中，各个所述光源(204)的主光轴互相平行；所述耦出区域(201)中并列平行设置多个阵列反射波导(2011)，所述阵列反射波导(2011)数量与所述光源(204)数量相等，所述阵列反射波导(2011)的长度方向平行于光源(204)的主光轴，各个所述光源(204)的主光轴一一对准各个所述阵列反射波导(2011)，各光源(204)出射的光耦入对应的所述阵列反射波导(2011)中；所述光罩(102)所罩的基板(1)部分开有通光孔，所述通光孔连通至所述光学板(2)的耦出区域(201)的表面，通光孔处还设有散焦透镜(103)；各所述光罩(102)上覆盖有调光层(104)，所述调光层(104)由一个或多个液晶电控调光膜构成，不同光罩(102)的调光层(1...

【专利技术属性】
技术研发人员：李喆，田欢，
申请(专利权)人：北京服装学院，
类型：发明
国别省市：