【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】使用数字断层合成过程进行近实时定位的辐射治疗系统相关申请的交叉引用本申请要求于2018年7月28日提交的美国临时申请号62/711,483和于2019年6月25日提交的美国非临时申请号16/452,498的权益。
技术介绍
除非本文中另外指出,否则本节中描述的方法不是本申请中的权利要求的现有技术,并且不能由于包括在本节中而被承认是现有技术。辐射治疗是一种针对诸如癌性肿瘤的具体靶标组织(计划靶标体积)的局部处理。在理想情况下,对计划靶标体积执行辐射治疗,该辐射治疗使周围的正常组织免于接收高于指定公差的剂量,从而将损害健康组织的风险最小化。在辐射治疗的输送之前,通常采用成像系统来提供靶标组织和周围区域的三维图像。从这样的成像,可以估计靶标组织的尺寸和质量,并且生成适当的处理计划并且确定计划靶标体积。为了在辐射治疗期间将设定剂量正确地供应给计划靶标体积(即,靶标组织),患者应当相对于提供辐射治疗的线性加速器正确定位。通常,在处理之前和处理期间检查剂量和几何数据,以确保正确的患者放置,并且确保所给予的放疗处理与先前计划的处理相匹配。该过程称为图像指导辐射治疗(IGRT),并且涉及在辐射处理被输送给计划靶标体积的同时使用成像系统查看靶标组织。IGRT并入了来自处理计划的成像坐标,以确保患者正确对准以在辐射治疗设备中进行处理。
技术实现思路
根据本公开的至少一些实施例,一种辐射治疗系统被配置为使得能够在单次患者屏气期间对靶标体积进行成像和处理。具体地,在实施例中,辐射系统包括旋转机架,在旋转机架上安装处理输 ...
【技术保护点】
1.一种辐射处理系统,包括:/n机架,所述机架被可旋转地耦合到驱动机座,并且被配置为围绕所述辐射处理系统的孔旋转;/n处理输送X射线源,安装在所述机架上,并且被配置为将处理X射线引导到靶标体积,所述靶标体积设置在所述孔中;/n成像X射线源,安装在所述机架上;/nX射线成像仪,安装在所述机架上;以及/n处理器,被配置为:/n使得所述机架在第一方向上连续地执行通过处理弧的旋转,所述处理弧包括第一处理输送位置和第二处理输送位置;/n在使得所述机架在第一方向上从所述第一处理输送位置向所述第二处理输送位置旋转通过所述处理弧的同时,使得所述成像X射线源将X射线引导穿过所述靶标体积并且引导向所述X射线成像仪;/n响应于所述X射线被引导向所述X射线成像仪,从所述X射线成像仪接收X射线投影图像集,其中所述X射线投影图像集是经由数字断层合成过程而生成的;/n基于所述X射线投影图像集,确定所述靶标体积的当前位置;以及/n响应于确定所述靶标体积的所述当前位置距计划处理位置小于阈值距离,在使得所述机架继续向所述第二处理输送位置旋转的同时:/n启动所述处理输送X射线源的处理束向所述靶标体积的输送;以及/n继续使得 ...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180728 US 62/711,483;20190625 US 16/452,4981.一种辐射处理系统,包括:
机架,所述机架被可旋转地耦合到驱动机座,并且被配置为围绕所述辐射处理系统的孔旋转;
处理输送X射线源,安装在所述机架上,并且被配置为将处理X射线引导到靶标体积,所述靶标体积设置在所述孔中;
成像X射线源,安装在所述机架上;
X射线成像仪,安装在所述机架上;以及
处理器,被配置为:
使得所述机架在第一方向上连续地执行通过处理弧的旋转,所述处理弧包括第一处理输送位置和第二处理输送位置;
在使得所述机架在第一方向上从所述第一处理输送位置向所述第二处理输送位置旋转通过所述处理弧的同时,使得所述成像X射线源将X射线引导穿过所述靶标体积并且引导向所述X射线成像仪;
响应于所述X射线被引导向所述X射线成像仪,从所述X射线成像仪接收X射线投影图像集,其中所述X射线投影图像集是经由数字断层合成过程而生成的;
基于所述X射线投影图像集,确定所述靶标体积的当前位置;以及
响应于确定所述靶标体积的所述当前位置距计划处理位置小于阈值距离,在使得所述机架继续向所述第二处理输送位置旋转的同时:
启动所述处理输送X射线源的处理束向所述靶标体积的输送;以及
继续使得所述机架在所述第一方向上从所述第二处理输送位置向第三处理输送位置旋转。
2.根据权利要求1所述的辐射处理系统,其中所述处理器进一步被配置为:在作为执行所述旋转的一部分使得所述机架在所述第一方向上从第一成像位置向第二成像位置旋转的同时:
使得所述成像X射线源引导X射线穿过所述靶标体积;
从所述X射线成像仪接收X射线投影图像的初始集,其中所述X射线投影图像的初始集是经由锥形束计算机断层摄影过程而生成的;以及
基于所述X射线投影图像的初始集,确定所述靶标体积的初始位置。
3.根据权利要求2所述的辐射处理系统,其中在所述第一方向上从所述第一成像位置向所述第二成像输送位置旋转所述机架包括:将所述机架旋转小于或等于90度。
4.根据权利要求2所述的辐射处理系统,其中当在所述第一方向上旋转时,所述机架在通过所述第一处理输送位置之前通过所述第二成像位置。
5.根据权利要求2所述的辐射处理系统,其中所述处理器进一步被配置为:
基于所述靶标体积的所述初始位置,确定所述靶标体积的所述初始位置距所述计划处理位置小于所述阈值距离;以及
作为响应,在将所述机架旋转到所述第一处理输送位置后,在使得所述机架在所述第一方向上从所述第一处理输送位置向所述第二处理输送位置旋转的同时,利用所述处理输送X射线源启动所述处理束向所述靶标体积的输送。
6.根据权利要求5所述的辐射处理系统,其中基于所述X射线投影图像集确定所述靶标体积的所述当前位置包括:
基于所述X射线投影图像的初始集,针对包括所述靶标体积的数字体积生成图像数据;
基于经由所述数字断层合成过程生成的所述X射线投影图像集,更新针对所述数字体积的所述图像数据;以及
在更新针对所述数字体积的所述图像数据之后,基于针对所述数字体积的所述图像数据,确定所述靶标体积的所述当前位置。
7.根据权利要求2所述的辐射处理系统,其中所述处理器被配置为:以第一旋转速度在所述第一方向上从所述第一处理输送位置向所述第二处理输送位置旋转所述机架,并且以第二旋转速度在所述第一方向上从所述第一成像位置向所述第二成像位置旋转所述机架,所述第二旋转速度比所述第一旋转速度慢。
8.根据权利要求1所述的辐射处理系统,进一步包括:
安装在所述机架上的附加成像X射线源;以及
安装在所述机架上的附加X射线成像仪。
9.根据权利要求1所述的辐射处理系统,其中所述成像X射线源和所述X射线成像仪能够以半扇形配置被定位在所述机架上。
10.根据权利要求1所述的辐射处理系统,其中所述成像X射线源和所述X射线成像仪能够以全扇形配置被定位在所述机架上。
11.根据权利要求10所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:J·范赫特伦,L·朱,D·莫夫,
申请(专利权)人:瓦里安医疗系统公司,
类型:发明
国别省市:美国;US
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