【技术实现步骤摘要】
一种真空气相沉积炉
本技术涉及氧化亚硅生产设备
,更具体地说,涉及一种真空气相沉积炉。
技术介绍
由于光学镀膜材料氧化亚硅制备工艺的特殊性,需要在真空和高温的条件下使原材料反应生成气态产物,然后迅速冷凝收集,常见的真空高温炉无法满足该工艺需求,市场上亦无现成的成熟设备流通。由于光学镀膜材料市场较小,目前行业里知名生产厂家技术依旧停留在几十年前的水平,设备也是几十年前的设计然后专门定制的,操作不便,产量低,收料率低。现有技术中在制备氧化亚硅的过程中,高温加热之后的气体的流动线路一般为直线,容易使部分气体流失,降低收料率;或者是设置大型的窑炉,反应速度慢,延长反应时间之后使杂质增加;或者是采用螺旋进料方式,虽然可以保证连续上料,但是粉状原料相互之间具有间隙,严重影响反应速率。综上所述,如何提供一种可以提高收料率的真空气相沉积炉,是目前本领域技术人员亟待解决的问题。
技术实现思路
有鉴于此,本技术的目的是提供一种真空气相沉积炉,通过将收集器设置为钟罩式结构,使气体由反应室内出来之后能够沿曲线流 ...
【技术保护点】
1.一种真空气相沉积炉,其特征在于,包括:/n反应室(1),用于为待反应物质提供反应环境,且设置有用于使所述待反应物质反应之后的气体排出的出气孔(111);/n钟罩型收集器(2),罩设于所述反应室(1)的外周部、用于使所述气体冷凝并收集所述气体冷凝之后的产物,且设置有与所述出气孔(111)错位设置、以控制气体流动方向的扩散孔(21);/n炉盖(3),罩设于所述钟罩型收集器(2)的外周部,使所述炉盖(3)内形成密闭空间;/n抽真空口(31),设置于所述炉盖(3),用于抽真空操作时使所述炉盖(3)内空间的气体流出。/n
【技术特征摘要】 【专利技术属性】
1.一种真空气相沉积炉,其特征在于,包括:
反应室(1),用于为待反应物质提供反应环境,且设置有用于使所述待反应物质反应之后的气体排出的出气孔(111);
钟罩型收集器(2),罩设于所述反应室(1)的外周部、用于使所述气体冷凝并收集所述气体冷凝之后的产物,且设置有与所述出气孔(111)错位设置、以控制气体流动方向的扩散孔(21);
炉盖(3),罩设于所述钟罩型收集器(2)的外周部,使所述炉盖(3)内形成密闭空间;
抽真空口(31),设置于所述炉盖(3),用于抽真空操作时使所述炉盖(3)内空间的气体流出。
2.根据权利要求1所述的真空气相沉积炉,其特征在于,所述炉盖(3)的侧壁底部设置有至少一个抽真空口(31)。
3.根据权利要求2所述的真空气相沉积炉,其特征在于,还包括设置于所述钟罩型收集器(2)下部的支撑部件(4),所述支撑部件(4)设置有用于与所述抽真空口(31)对应的所述扩散孔(21)。
技术研发人员:何畅雷,季晶晶,郎庆安,黄海,刘兆平,
申请(专利权)人:宁波富理电池材料科技有限公司,
类型:新型
国别省市:浙江;33
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