【技术实现步骤摘要】
VOC光催化处理系统
本技术涉及有机废气处理
，尤其涉及一种VOC光催化处理系统。
技术介绍
工业生产中，特别是印刷行业，生产过程中产生的废气包括大量的挥发性有机物(Volatileorganiccompounds，VOC)，通过承印材料的表面散发，未经过任何处理通过管道向车间外排放，造成对大气环境的严重污染。相关技术中，有机废气处理一般选自活性炭吸附、溶液吸收回收法、冷凝回收法、燃烧氧化法等，但是上述方法的处理过程中，需要消耗大量的原材料，不能满足低能耗的需求，为此，逐渐出现了利用光催化降解技术，其原理为在反应体系中产生活性极强的自由基，再通过自由基与废气中有机污染物之间的加合、取代、电子转移等过程将污染物全部降解为无机物，形成洁净气体后排出，具有较好的降低污染的效果。现有利用光催化降解技术处理废气的VOC光催化处理系统通常包括催化处理装置、沉淀装置及催化剂再生装置，所述催化处理装置中的催化剂对废气处理后掉落进入沉淀装置中进行沉淀，沉淀分层后的催化剂送入所述催化剂再生装置中进行再生，沉淀后的清液和再生后的催化...
【技术保护点】
1.一种VOC光催化处理系统，包括催化处理装置、沉淀装置及催化剂再生装置，所述催化处理装置和所述催化剂再生装置安装于所述沉淀装置的上方并相互间隔，所述沉淀装置被分隔成位于所述催化处理装置下方的第一沉淀区、位于所述催化剂再生装置下方的第二沉淀区、位于所述第一沉淀区和所述第二沉淀区之间的第一澄清区、位于所述第一沉淀区远离所述第一澄清区一侧的第二澄清区和位于所述第二沉淀区远离所述第一澄清区一侧的第三澄清区，所述第二澄清区和所述第三澄清区的高度均低于所述第一澄清区的高度，所述第一沉淀区和所述第三澄清区分别通过管路与所述催化剂再生装置连接，所述第一澄清区通过管路分别与所述催化处理装置...
【技术特征摘要】
1.一种VOC光催化处理系统，包括催化处理装置、沉淀装置及催化剂再生装置，所述催化处理装置和所述催化剂再生装置安装于所述沉淀装置的上方并相互间隔，所述沉淀装置被分隔成位于所述催化处理装置下方的第一沉淀区、位于所述催化剂再生装置下方的第二沉淀区、位于所述第一沉淀区和所述第二沉淀区之间的第一澄清区、位于所述第一沉淀区远离所述第一澄清区一侧的第二澄清区和位于所述第二沉淀区远离所述第一澄清区一侧的第三澄清区，所述第二澄清区和所述第三澄清区的高度均低于所述第一澄清区的高度，所述第一沉淀区和所述第三澄清区分别通过管路与所述催化剂再生装置连接，所述第一澄清区通过管路分别与所述催化处理装置和所述催化剂再生装置连接，所述第二澄清区和所述第二沉淀区通过管路与所述催化处理装置连接，所述催化处理装置底部设有与所述沉淀装置相连通的第一开口且所述第一开口正对所述第一沉淀区设置，所述催化剂再生装置底部设有与所述沉淀装置相连通的第二开口且所述第二开口正对所述第二沉淀区设置，废气自所述催化处理装置进入，由所述催化剂再生装置排出，其特征在于，所述VOC光催化处理系统还包括自所述第一开口朝靠近所述第一沉淀区方向垂直延伸的第一管体和自所述第二开口朝靠近所述第二沉淀区方向垂直延伸的第二管体，所述第一管体末端浸没于所述第一沉淀区的液面内，所述第二管体末端露出于所述第二沉淀区的液面。
2.根据权利要求1所述的VOC光催化处理系统，其特征在于，所述沉淀装置包括顶壁、与所述顶壁相对设置的底壁、连接所述顶壁和所述底壁的侧壁、固定于所述底壁并相互间隔设置的两个隔板以及固定于所述底壁并对称间隔设置于两个所述隔板两侧的第一隔板和第二隔板，所述顶壁、所述底壁及所述侧壁配合形成容纳空间，所述隔板、第一隔板和第二隔板的高度小于所述侧壁的高度，所述第一隔板、两个隔板和第二隔板配合将所述容纳空间从左至右依次分隔形成相互连通的所述第二澄清区、第一沉淀区、第一澄清区、第二沉淀区和第三澄清区，所述催化处理装置和所述催化剂再生装置安装于所述顶壁。
3.根据权利要求2所述的VOC光催化处理系统，其特征在于，所述第一隔板包括垂直固定于所述底壁上的第一本体部和自所述第一本体部远离所述底壁的一端向靠近所述底壁方向倾斜延伸并位于所述第一管体下方的第一延伸部，所述第二隔板包括垂直固定于所述底壁上的第二本体部和自所述第二本体部远离所述底壁...
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