一种共聚焦三维测量系统的标定装置及标定方法制造方法及图纸

技术编号:28368423 阅读:30 留言:0更新日期:2021-05-07 23:54
本发明专利技术公开了一种共聚焦三维测量系统的标定装置及标定方法,所述标定装置包括:至少一层透明或半透明的介质层,每一所述介质层至少具有两个层析面;以及用于承载所述介质层的支撑框架。本发明专利技术与传统的精密步进机来获取精确深度信息的传统方式相比,本发明专利技术的标定装置容易加工定制,成本低,精度稳定,运输储存方便。其次,本发明专利技术的标定装置结构小巧便携,可以作为共聚焦三维测量系统的深度标定校准模块器件。

【技术实现步骤摘要】
一种共聚焦三维测量系统的标定装置及标定方法
本专利技术涉及三维测量
,更具体的是涉及一种共聚焦三维测量系统的标定装置及标定方法。
技术介绍
随着微光、机、电技术的飞速发展,高精度、高效率探测物体精细结构已成为全球科研领域里的一大研究热点,如何更精确地获取物体三维点云数据是三维测量领域的热点,正是由于共聚焦测量技术具有轴向层析特性和非常高的深度分辨率,其三维成像能力具有非常高的精度,能够在医学,工业等领域得到广泛的应用。目前对于共焦测量的三维重建方法一般是通过引入共轭光源图像与探测实现了轴向层析能力和高分辨率,移动透镜组或者利用变焦镜头来进行轴向扫描来获得一系列聚焦面在空间不同位置的图像,再计算获取所述标定装置中多个层析面对应聚焦面位置,然后建立层析面对应聚焦面位置与层析面对应实际深度的映射关系,这样我们可以从一系列系统采集的聚焦图像中计算获取物体表面三维轮廓信息。在标定聚焦面位置与实际深度映射模型过程中,我们需要借助精密标定装置来获取不同层析面所对应的精确的深度坐标数据,以辅助建立聚焦面位置与实际深度映射模型。传统方法通常采用精密本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种共聚焦三维测量系统的标定装置,其特征在于,所述标定装置包括:/n至少一层透明或半透明的介质层,每一所述介质层至少具有两个层析面;/n以及用于承载所述介质层的支撑框架。/n

【技术特征摘要】
1.一种共聚焦三维测量系统的标定装置,其特征在于,所述标定装置包括:
至少一层透明或半透明的介质层,每一所述介质层至少具有两个层析面;
以及用于承载所述介质层的支撑框架。


2.按照权利要求1所述的标定装置,其特征在于,所述介质层至少为两层,其中,相邻的介质层之间贴合设置。


3.按照权利要求2所述的标定装置,其特征在于,每一所述介质层的厚度相同或不同。


4.按照权利要求2所述的标定装置,其特征在于,至少一个所述介质层具有多个按预设数值形成的凸起部以在该介质层上形成厚度不同的层析面,与之相邻并贴合在一起的另一介质层具有与所述凸起部对应的结构以形成不同厚度的层析面。


5.按照权利要求4所述的标定装置,其特征在于,所述多个凸起部的高度相同或不同。


6.按照权利要求2所述的标定装置,其特征在于,所述至少一个所述介质层的一个层析面为斜面以使该介质层的厚度逐步变化,与之相邻并贴合在一起的另一介质层具有与所述斜面对应的表面以使该介质层的厚度逐步变化。


7.一种共聚焦三维测量系统的标定方法,其...

【专利技术属性】
技术研发人员:卢晓婷曾祥军
申请(专利权)人:深圳市菲森科技有限公司
类型:发明
国别省市:广东;44

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