表面处理剂制造技术

本发明专利技术提供一种表面处理剂，其含有：(α)下述式(α1)或式(α2)所示的化合物；和(β)具有OCF

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】表面处理剂
本专利技术涉及含有含全氟聚醚基的化合物的表面处理剂。
技术介绍
已知某些种类的含氟硅烷化合物在用于基材的表面处理时能够提供优异的拨水性、拨油性、防污性等。由含有含氟硅烷化合物的表面处理剂得到的层(以下也称为“表面处理层”)作为所谓的功能性薄膜施加在例如玻璃、塑料、纤维、建筑材料等各种各样的基材上。作为这样的含氟硅烷化合物，例如，已知下述专利文献1和2中记载的、在异氰脲酸核上具备全氟聚醚基、和具有能够水解的基团的Si原子的含全氟聚醚基的硅烷化合物(专利文献1和2)。现有技术文献专利文献专利文献1：国际公开第2018/056410号专利文献2：国际公开第2018/056413号
技术实现思路
专利技术要解决的技术问题专利文献1和2中记载的含全氟聚醚基的硅烷化合物虽然能够提供具有优异功能的表面处理层，但仍需求能够提供以更高的水平和良好的均衡性具有摩擦耐久性、表面滑动性、耐UV性和耐候性的表面处理层的表面处理剂。用于解决技术问题的技术手段本专利技术包括以下方式。[1]一种表面处理剂，其含有：(α)下述式(α1)或式(α2)所示的化合物；和(β)具有OCF2单元的含全氟聚醚基的硅烷化合物，(式中：R1为包含聚醚链的一价的有机基团，R1′为包含聚醚链的二价的有机基团，上述聚醚链为式：－(OC6F12)m11－(OC5F10)m12－(OC4F8)m13－(OC3X106)m14－(OC2F4)m15－(OCF2)m16－所示的链(式中，m11、m12、m13、m14、m15和m16独立地为0或1以上的整数，X10独立地为H、F或Cl，各重复单元的存在顺序是任意的)，X1独立地为含硅烷反应性交联基，X2独立地表示一价的基团。[2]如上述[1]所述的表面处理剂，其中，R1为R3－(OR2)a－L－所示的基团(式中，(OR2)a为聚醚链，R3为烷基或氟代烷基，L为单键或二价的连结基)，R1′为－L′－(OR2)a－L－所示的基团(式中，(OR2)a为聚醚链，L独立地为单键或二价的连结基，L′独立地为单键或二价的连结基)。[3]如上述[2]所述的表面处理剂，其中，(OR2)a为－(OC4F8)m13－(OC3F6)m14－(OC2F4)m15－(OCF2)m16－所示的基团(式中，m13和m14分别为0～30的整数，m15和m16分别为1～200的整数，m13～m16的合计为5以上，各重复单元的存在顺序是任意的)。[4]上述[2]或[3]所述的表面处理剂，其中，L为－(CX121X122)o－(L1)p－(CX123X124)q－所示的基团(式中，X121～X124独立地为H、F、OH或－OSi(OR125)3(其中，3个R125独立地为碳原子数1～4的烷基)，L1为－C(＝O)NH－、－NHC(＝O)－、－O－、－C(＝O)O－、－OC(＝O)－、－OC(＝O)O－或－NHC(＝O)NH－(各键的左侧与CX121X122键合)，o为0～10的整数，p为0或1，q为1～10的整数)，L′为－(CX126X127)r－(CX121X122)o－(L1)p－(CX123X124)q－所示的基团(式中，X121～X124、L1、o、p和q的含义与上述L中的规定相同，X126和X127独立地为H、F或Cl，r为1～6的整数)。[5]如上述[1]～[4]中任一项所述的表面处理剂，其中，X1为式：－L2－{Si(Ra)s(Rb)t(Rc)u(Rd)v}n所示的基团(式中，L2为单键或二价的连结基，Ra、Rb和Rc相同或不同地为氢、卤素、碳原子数1～10的烷氧基、碳原子数1～10的氨基、碳原子数1～10的乙酰氧基、碳原子数3～10的烯丙基或碳原子数3～10的缩水甘油基，Rd相同或不同地为－O－、－NH－、－C≡C－或硅烷键，s、t和u相同或不同地为0或1，v为0～3的整数，n为1～20的整数，在n为1时，s+t+u为3，v为0，在n为2～20时，s+t+u相同或不同地为0～2，v相同或不同地为0～2，在v为1以上的整数时，至少2个Si经由Rd键合成直链、梯子型、环状或多环状)。[6]如上述[1]～[5]中任一项所述的表面处理剂，其中，X1为－L2－SiR53、－L2－Si(OR6)3、－L2－Si(NR62)3或－L2－Si(OCOR6)3所示的基团(各式中，L2为－C2H4－、－C3H6－、－C4H8－O－CH2－、－CO－O－CH2－CH(OH)－CH2－、－CH2－、－C4H8－，R5为卤原子，R6独立地为碳原子数1～4的烷基)。[7]如上述[1]～[4]中任一项所述的表面处理剂，其中，X1为式：－L2－{Si(Ra)s(Rb)t(Rc)u(Rd′)v}n所示的含硅烷反应性交联基(式中，L2为单键或二价的连结基，Ra、Rb和Rc相同或不同地为氢、卤素、碳原子数1～10的烷氧基、碳原子数1～10的氨基、碳原子数1～10的乙酰氧基、碳原子数3～10的烯丙基或碳原子数3～10的缩水甘油基，Rd′相同或不同地为－Z－SiRd1′p′Rd2′q′Rd3′r′所示的基团(式中，Z相同或不同地为单键或二价的连结基，Rd1′相同或不同地为Rd″，Rd″的含义与Rd′相同，Rd′中经由Z基连结成直链状的Si最多为5个，Rd2′相同或不同地为羟基或能够水解的基团，Rd3′相同或不同地为氢原子或低级烷基，p′相同或不同地为0～3的整数，q′相同或不同地为0～3的整数，r′相同或不同地为0～3的整数，其中p′、q′与r′之和为3)，s、t和u相同或不同地为0或1，v为0～3的整数，n为1～20的整数)。[8]如上述[1]～[4]中任一项所述的表面处理剂，其中，X1为式：－L6－{C(Ra6)s6(Rb6)t6(Rc6)u6(Rd6)v6}n6所示的含硅烷反应性交联基(式中，L6为单键或二价的连结基，Ra6、Rb6和Rc6相同或不同地为氢、卤素、碳原子数1～10的烷氧基、碳原子数1～10的氨基、碳原子数1～10的乙酰氧基、碳原子数3～10的烯丙基、碳原子数3～10的缩水甘油基、OCOR67(式中，R67为碳原子数1～6的烷基)、OH或－Y6－SiR65j6R663－j6，Rd6相同或不同地为－O－、－NH－、－C≡C－或－Z6－CR61p6R62q6R63r6，Z6相同或不同地为氧原子或2价的有机基团，式中，R61相同或不同地表示Rd6′，Rd6′的含义与Rd6相同，Rd6中经由Z6基连结成直链状的C最多为5个，R62相同或不同地为－Y6－SiR65j6R663－j6，Y6相同或不同地为2价的有机基团，R65相同或不同地为羟基或能够水解的基团，R66相同或不同地为氢原子或低级烷基，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种表面处理剂，其特征在于，含有：/n(α)下述式(α1)或式(α2)所示的化合物；和/n(β)具有OCF

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180928 JP 2018-1858121.一种表面处理剂，其特征在于，含有：
(α)下述式(α1)或式(α2)所示的化合物；和
(β)具有OCF2单元的含全氟聚醚基的硅烷化合物，



式(α1)和(α2)中，
R1为包含聚醚链的一价的有机基团，
R1′为包含聚醚链的二价的有机基团，
所述聚醚链为式：－(OC6F12)m11－(OC5F10)m12－(OC4F8)m13－(OC3X106)m14－(OC2F4)m15－(OCF2)m16－所示的链，式中，m11、m12、m13、m14、m15和m16独立地为0或1以上的整数，X10独立地为H、F或Cl，各重复单元的存在顺序是任意的，
X1独立地为含硅烷反应性交联基，
X2独立地表示一价的基团。


2.如权利要求1所述的表面处理剂，其特征在于：
R1为R3－(OR2)a－L－所示的基团，式中，(OR2)a为聚醚链，R3为烷基或氟代烷基，L为单键或二价的连结基，
R1′为－L′－(OR2)a－L－所示的基团，式中，(OR2)a为聚醚链，L独立地为单键或二价的连结基，L′独立地为单键或二价的连结基。


3.如权利要求2所述的表面处理剂，其特征在于：
(OR2)a为－(OC4F8)m13－(OC3F6)m14－(OC2F4)m15－(OCF2)m16－所示的基团，式中，m13和m14分别为0～30的整数，m15和m16分别为1～200的整数，m13～m16的合计为5以上，各重复单元的存在顺序是任意的。


4.如权利要求2或3所述的表面处理剂，其特征在于：
L为－(CX121X122)o－(L1)p－(CX123X124)q－所示的基团，式中，X121～X124独立地为H、F、OH或－OSi(OR125)3，其中，3个R125独立地为碳原子数1～4的烷基，
L1为－C(＝O)NH－、－NHC(＝O)－、－O－、－C(＝O)O－、－OC(＝O)－、－OC(＝O)O－或－NHC(＝O)NH－，其中，各键的左侧与CX121X122键合，
o为0～10的整数，
p为0或1，
q为1～10的整数；
L′为－(CX126X127)r－(CX121X122)o－(L1)p－(CX123X124)q－所示的基团，式中，X121～X124、L1、o、p和q的含义与上述L中的规定相同，
X126和X127独立地为H、F或Cl，
r为1～6的整数。


5.如权利要求1～4中任一项所述的表面处理剂，其特征在于：
X1为式：－L2－{Si(Ra)s(Rb)t(Rc)u(Rd)v}n所示的基团，
式中，L2为单键或二价的连结基，
Ra、Rb和Rc相同或不同地为氢、卤素、碳原子数1～10的烷氧基、碳原子数1～10的氨基、碳原子数1～10的乙酰氧基、碳原子数3～10的烯丙基或碳原子数3～10的缩水甘油基，
Rd相同或不同地为－O－、－NH－、－C≡C－或硅烷键，
s、t和u相同或不同地为0或1，
v为0～3的整数，
n为1～20的整数，
在n为1时，s+t+u为3，v为0，
在n为2～20时，s+t+u相同或不同地为0～2，v相同或不同地为0～2，
在v为1以上的整数时，至少2个Si经由Rd键合成直链、梯子型、环状或多环状。


6.如权利要求1～5中任一项所述的表面处理剂，其特征在于：
X1为－L2－SiR53、－L2－Si(OR6)3、－L2－Si(NR62)3或－L2－Si(OCOR6)3所示的基团，
各式中，L2为－C2H4－、－C3H6－、－C4H8－O－CH2－、－CO－O－CH2－CH(OH)－CH2－、－CH2－、－C4H8－，
R5为卤原子，
R6独立地为碳原子数1～4的烷基。


7.如权利要求1～4中任一项所述的表面处理剂，其特征在于：
X1为式：－L2－{Si(Ra)s(Rb)t(Rc)u(Rd′)v}n所示的含硅烷反应性交联基，
式中，L2为单键或二价的连结基，
Ra、Rb和Rc相同或不同地为氢、卤素、碳原子数1～10的烷氧基、碳原子数1～10的氨基、碳原子数1～10的乙酰氧基、碳原子数3～10的烯丙基或碳原子数3～10的缩水甘油基，
Rd′相同或不同地为－Z－SiRd1′p′Rd2′q′Rd3′r′所示的基团，式中，Z相同或不同地为单键或二价的连结基，Rd1′相同或不同地为Rd″，Rd″的含义与Rd′相同，Rd′中经由Z基连结成直链状的Si最多为5个，Rd2′相同或不同地为羟基或能够水解的基团，Rd3′相同或不同地为氢原子或低级烷基，p′相同或不同地为0～3的整数，q′相同或不同地为0～3的整数，r′相同或不同地为0～3的整数，其中p′、q′与r′之和为3，
s、t和u相同或不同地为0或1，
v为0～3的整数，
n为1～20的整数。


8.如权利要求1～4中任一项所述的表面处理剂，其特征在于：
X1为式：－L6－{C(Ra6)s6(Rb6)t6(Rc6)u6(Rd6)v6}n6所示的含硅烷反应性交联基，
式中，L6为单键或二价的连结基，
Ra6、Rb6和Rc6相同或不同地为氢、卤素、碳原子数1～10的烷氧基、碳原子数1～10的氨基、碳原子数1～10的乙酰氧基、碳原子数3～10的烯丙基、碳原子数3～10的缩水甘油基、OCOR67、OH或－Y6－SiR65j6R663－j6，式OCOR67中，R67为碳原子数1～6的烷基，
Rd6相同或不同地为－O－、－NH－、－C≡C－或－Z6－CR61p6R62q6R63r6，
Z6相同或不同地为氧原子或2价的有机基团，
式中，R61相同或不同地表示Rd6′，
Rd6′的含义与Rd6相同，
Rd6中经由Z6基连结成直链状的C最多为5个，
R62相同或不同地为－Y6－SiR65j6R663－j6，
Y6相同或不同地为2价的有机基团，
R65相同或不同地为羟基或能够水解的基团，
R66相同或不同地为氢原子或低级烷基，
j6在每个(－Y6－SiR65j6R663－j6)单元中独立地为1～3的整数，
R63相同或不同地为氢原子或低级烷基，
p6相同或不同地为0～3的整数，
q6相同或不同地为0～3的整数，
r6相同或不同地为0～3的整数，
s6、t6和u6相同或不同地为0或1，v6为0～3的整数，n6为1～20的整数，
其中，式中至少存在2个(－Y6－SiR65j6R663－j6)。


9.如权利要求1～8中任一项所述的表面处理剂，其特征在于：
(β)具有OCF2单元的含全氟聚醚基的硅烷化合物为下述式(...

【专利技术属性】
技术研发人员：能势雅聪，三桥尚志，
申请(专利权)人：大金工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP