一种偏振反射测量系统及结构参数测量方法技术方案

本发明专利技术属于半导体测试测量领域，并具体公开了一种偏振反射测量系统及结构参数测量方法，其包括从上至下同轴设置的光谱仪探测器、聚焦透镜、第一分光镜、第二分光镜、偏振片、反射式物镜和样品台，第一分光镜一侧设有照明光源、管镜和CCD相机，照明光源的照明光经过第一分光镜、第二分光镜、偏振片、反射式物镜、待测样品，然后原路返回，经管镜汇聚到CCD相机中成像；第二分光镜一侧设置有测量光源和准直透镜，测量光源的测量光经过准直透镜、第二分光镜、偏振片、反射式物镜、待测样品上，然后原路返回至第二分光镜，并由聚焦透镜导入光谱仪探测器中。本发明专利技术加入成像光路并调整偏振片位置，可精确表征测量区域，同时提高测量精度。

【技术实现步骤摘要】
一种偏振反射测量系统及结构参数测量方法
本专利技术属于半导体测试测量领域，更具体地，涉及一种偏振反射测量系统及结构参数测量方法。
技术介绍
目前，对于微机电系统(MEMS)，在设计技术、封装检测技术、装备技术等方面还存在很多不足，如传感器可靠性较低，传感器封装、检测尚未形成系列、标准和统一接口等。这些问题也限制着MEMS领域的制造能力以及服务高新技术产业的能力，限制了仪器仪表工业、航空航天等高精密测量领域的发展。目前很少提及成像反射偏振仪的类似设计，此外很多反射偏振仪因为需要在整个测量光路系统中形成偏振光并且检测偏振光，因此其设计时需要两块偏振片，并且很多都需要用到旋转器件，这样不仅会造成仪器成本的增加，并且会增大仪器系统测量误差，降低仪器的测量精度。目前常见的偏振反射仪设计，其并未将成像功能结合起来，这样意味着并不能针对待测样机的某一测量区域进行检测，只能选取相同点重复侧脸或者测量多个点选取平均值。这样在检测非均匀待测样机是往往会造成很大的误差，也无法完成具体到待测样件某一特定点的测量。此外，目前在测量一些周期性结构时，一般会本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种偏振反射测量系统，其特征在于，包括从上至下依次同轴设置的光谱仪探测器(1)、聚焦透镜(2)、第一分光镜(3)、第二分光镜(4)、偏振片(6)、反射式物镜(7)和样品台(9)，其中：/n所述第一分光镜(3)一侧设置有照明光源(14)、管镜(13)和CCD相机(12)，所述照明光源(14)发出的照明光依次经过第一分光镜(3)、第二分光镜(4)、偏振片(6)、反射式物镜(7)后，聚焦在放置于样品台(9)的待测样品上，然后原路返回至第一分光镜(3)，最后经管镜(13)汇聚到CCD相机(12)中成像；/n所述第二分光镜(4)一侧设置有测量光源(10)和准直透镜(11)，所述测量光源(10)发出的...

【技术特征摘要】
1.一种偏振反射测量系统，其特征在于，包括从上至下依次同轴设置的光谱仪探测器(1)、聚焦透镜(2)、第一分光镜(3)、第二分光镜(4)、偏振片(6)、反射式物镜(7)和样品台(9)，其中：
所述第一分光镜(3)一侧设置有照明光源(14)、管镜(13)和CCD相机(12)，所述照明光源(14)发出的照明光依次经过第一分光镜(3)、第二分光镜(4)、偏振片(6)、反射式物镜(7)后，聚焦在放置于样品台(9)的待测样品上，然后原路返回至第一分光镜(3)，最后经管镜(13)汇聚到CCD相机(12)中成像；
所述第二分光镜(4)一侧设置有测量光源(10)和准直透镜(11)，所述测量光源(10)发出的测量光依次经过准直透镜(11)、第二分光镜(4)、偏振片(6)、反射式物镜(7)后，聚焦在待测样品上，然后原路返回至第二分光镜(4)，并由聚焦透镜(2)导入到光谱仪探测器(1)中。


2.如权利要求1所述的偏振反射测量系统，其特征在于，所述样品台(9)上开设有通孔，且样品台(9)下设置有吸附腔，该吸附腔通过所述通孔对待测样品进行吸附固定。


3.如权利要求1所述的偏振反射测量系统，其特征在于，所述样品台(9)安装在Z轴位移台(8)上，该Z轴位移台(8)用于对待测样品位置进行微调。


4.如权利要求3所述的偏振反射测量系统，其特征在于，还包括外壳和机架(15)，所述光谱仪探测器(1)、聚焦透镜(2)、第一分光镜(3)、第二分光镜(4)、偏振片(6)、反射式物镜(7)均安装在所述外壳中；所述机架(15)一端固定在外壳上，另一端用于放置所述Z轴位移台(8)。


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【专利技术属性】
技术研发人员：张传维，王鑫辉，姚远，刘世元，
申请(专利权)人：华中科技大学，
类型：发明
国别省市：湖北;42