【技术实现步骤摘要】
一种连续不间断的光刻机放料装置
[0001]本技术属于机械基础件及制造
,具体地,涉及一种连续不间断的光刻机放料装置。
技术介绍
[0002]光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
[0003]根据操作的简便性,光刻机一般分为三种,手动、半自动、全自动。
[0004]1、手动光刻机多通过手调旋钮改变其X、Y轴及θ角度完成对准,精度不高。
[0005]2、半自动光刻机可借助电荷耦合元件进行对准。
[0006]3、全自动光刻机多用程序控制基板的上、下载及曝光时长等,可满足工厂批量生产的需求。
[0007]在现在的生产制造企业中,面对大批量生产,多采用全自动光刻机。光刻机最核心的部件之一是紫外光源,硅片的光刻也是主要通过紫外光实现。由于紫外光容易对人体造成损害,光刻机外通常设有保护柜,光刻的过程通常在保护柜内进行。但是,现有的光刻机通常在每次检测前都 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种连续不间断的光刻机放料装置,其特征在于:包括光刻机(1)、输送机台(2)、上输送装置(3)和下输送装置(4),所述输送机台(2)的一端设置在光刻机(1)的内部,并且输送机台(2)的另一端延伸出光刻机(1)外部,所述上输送装置(3)和下输送装置(4)均沿输送机台(2)的长度方向设置在输送机台(2)上,并且上输送装置(3)和下输送装置(4)的一端位于光刻机(1)内,所述上输送装置(3)位于下输送装置(4)的正上方,所述上输送装置(3)和下输送装置(4)上均设有若干光刻机放料盒(5);其中,所述光刻机放料盒(5)包括放料板一(51)、放料板二(52)、挡板一(53)、挡板二(54)和底部支撑板(55),所述放料板一(51)、放料板二(52)、挡板一(53)和挡板二(54)的截面为矩形,并且放料板一(51)、放料板二(52)、挡板一(53)和挡板二(54)均固定设置在底部支撑板(55)上,所述放料板一(51)、放料板二(52)、挡板一(53)、挡板二(54)和底部支撑板(55)构成上端开口的矩形盒状结构,所述放料板一(51)和放料板二(52)对称设置,并且放料板一(51)和放料板二(52)的相对面上设有一组放料槽(56),所述一组放料槽(56)沿竖直方向平行设置。2.根据权利要求1所述的连续不间断的光刻机放料装置,其特征在于:所述放料槽(56)的截面为等腰梯形。3.根据权利要求1所述的连续不间断的光刻机放料装置,其特征在于:所述挡板一(53)和挡板二(54)沿竖直方向的高度小于放料板一(51)和放料板二(52)沿竖直方向的高度。4.根据权利要求1所述的连续不间断的光刻机放料装置,其特征在于:所述上输送装置(3)和下输送装置(4)均包括输送驱动组件(31)、传动单元一(32)、传动单元二(33)和输送小车(34),所述输送驱动组件(31)设置在输送机台(2)上,并且输送驱动组件(31)位于输送机台(2)的一端,所述传动单元一(32)和传动单元二(33)分别设置在输送机台(2)两侧的内壁上,所述输送小车(34)分别和传动单元一(32)和传动单元二(33)连接,所述输送小车(34)和输送机台(2)滚动连接。5.根据权利要求4所述的连续不间断的光刻机放料装置...
【专利技术属性】
技术研发人员:周莹,
申请(专利权)人:镇江晶鼎光电科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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