光学测定装置、波长校正方法以及标准试样制造方法及图纸

技术编号:28218200 阅读:19 留言:0更新日期:2021-04-28 09:35
本发明专利技术通过一种光学测定装置、波长校正方法以及标准试样。光学测定装置包括以下单元:理论干涉谱获取单元,其获取基于标准试样的已知的厚度、折射率以及消光系数进行数学计算得出的、关于该标准试样的反射率干涉谱或透过率干涉谱来作为理论干涉谱;实测干涉谱获取单元,其获取利用受光器经由衍射光栅接收对标准试样照射测定光而产生的反射光或透过光所生成的反射率干涉谱或透过率干涉谱来作为实测干涉谱;关联信息获取单元,其获取用于决定理论干涉谱与实测干涉谱的关于波长的关联的关联信息;以及波长校正单元,其参照关联信息将用于规定多个受光元件的波长值的波长校正式决定为使对实测干涉谱应用波长校正式所得到的结果与理论干涉谱一致。的结果与理论干涉谱一致。的结果与理论干涉谱一致。

【技术实现步骤摘要】
光学测定装置、波长校正方法以及标准试样


[0001]本专利技术涉及一种能够进行波长校正的光学测定装置、光学测定装置的波长校正方法以及在该波长校正方法中使用的标准试样。

技术介绍

[0002]一般情况下,分光测定装置需要进行波长校正。在这样的波长校正中,大多使用水银灯等基准光源,该基准光源产生包含作为国际计量委员会(CIPM)的建议值的已知的亮线波长(以下,也称为“基准亮线”。)的光。关于这样的波长校正,已知如下的现有技术。
[0003]日本特开平04

106430号公报公开以下方法:将从亮线放射源得到的特定波长的多个亮线引导到分光测定装置,预先根据分光测定装置的线色散求出与针对各个亮线能得到最大的受电输出的受光器阵列的元件的理论位置相当的地址。
[0004]日本特开2011

117777号公报公开以下方法:获取入射光中包含的亮线的波长、亮线在分光测定装置的传感器中的第一检测位置以及亮线在传感器中的第二检测位置,由此进行分光测定装置的校正。
[0005]日本特开2014

098653号公报公开以下方法:从校正用光源照射具有规定的亮线谱的光来进行校正,该规定的亮线谱包含多条亮线来作为多个峰值。
[0006]另外,也存在将一般使用的光源和滤光器组合来进行波长校正的情况。例如,日本特开2013

253820号公报公开一种用于进行分光器的波长校正的校正装置,该分光器具备波长色散元件和改变波长色散元件的位置的驱动装置。
[0007]如上述现有技术文献所示的使用基准光源所包含的基准亮线来进行波长校正的方法有时难以应用于测定波长范围窄的分光测定装置。即,如果校正对象的分光测定装置所具有的测定波长范围内包含的基准亮线的数量少,则无法维持充分的校正精度。另外,也存在难以准备校正对象的分光测定装置所具有的测定波长范围内包含的基准亮线。

技术实现思路

[0008]本专利技术的一个目的在于提供一种即使在测定波长范围窄、无法在测定波长范围内包含足够数量的基准亮线的情况下也能够进行波长校正的新方法。
[0009]本专利技术的一个方面的光学测定装置包括:光源,其产生测定光;衍射光栅,其被入射对试样照射测定光而产生的反射光或透过光;受光器,其包括用于接收通过衍射光栅进行波长分离后的光的多个受光元件,多个受光元件排列配置;理论干涉谱获取单元,其获取基于标准试样的已知的厚度、折射率以及消光系数进行数学计算得出的、关于该标准试样的反射率干涉谱或透过率干涉谱来作为理论干涉谱;实测干涉谱获取单元,其获取利用受光器经由衍射光栅接收对标准试样照射测定光而产生的反射光或透过光所生成的反射率干涉谱或透过率干涉谱来作为实测干涉谱;关联信息获取单元,其获取用于决定理论干涉谱与实测干涉谱的关于波长的关联的关联信息;以及波长校正单元,其参照关联信息将用于规定多个受光元件的波长值的波长校正式决定为使对实测干涉谱应用波长校正式所得
到的结果与理论干涉谱一致。
[0010]也可以是,波长校正单元基于给出理论干涉谱中包含的极值的位置与给出实测干涉谱中包含的极值的位置的关联,来评价理论干涉谱与实测干涉谱的一致度。
[0011]也可以是,在关于标准试样进行数学计算得出的反射率干涉谱是理论干涉谱、从标准试样获取到的反射率干涉谱是实测干涉谱的情况下,波长校正单元基于给出理论干涉谱中包含的极小值的位置与给出实测干涉谱中包含的极小值的位置的关联,来评价理论干涉谱与实测干涉谱的一致度。
[0012]也可以是,关联信息获取单元基于在通过利用受光器经由衍射光栅接收亮线光源产生的包含已知的亮线波长的光而获取到的测定结果中出现的、关于亮线波长的特征,来生成关联信息。
[0013]也可以是,波长校正单元使用用于确定受光器中包括的各受光元件的元件编号,来决定给出实测干涉谱中包含的极值的元件编号。
[0014]也可以是,波长校正单元根据给出理论干涉谱中包含的各极值的波长和给出实测干涉谱中包含的各极值的元件编号,来决定波长校正式。
[0015]也可以是,波长校正式包含与包括衍射光栅及受光器的光学系统相应的关系式。
[0016]也可以是,波长校正单元进行以下处理:对实测干涉谱应用已先决定出的波长校正式;基于已先决定出的波长校正式来更新理论干涉谱;基于将对实测干涉谱应用已先决定出的波长校正式所得到的结果与更新后的理论干涉谱进行比较后的结果来更新波长校正式;以及重复进行处理直到满足规定条件为止。
[0017]本专利技术的另一个方面的波长校正方法包括以下步骤:获取基于标准试样的已知的厚度、折射率以及消光系数进行数学计算得出的、与该标准试样有关的反射率干涉谱或透过率干涉谱来作为理论干涉谱;获取利用受光器经由衍射光栅接收对标准试样照射光源产生的测定光而产生的反射光或透过光所生成的反射率干涉谱或透过率干涉谱来作为实测干涉谱。受光器包括用于接收通过衍射光栅进行波长分离后的光的多个受光元件,多个受光元件排列配置。波长校正方法还包括以下步骤:获取用于决定理论干涉谱与实测干涉谱的关于波长的关联的关联信息;以及参照关联信息将用于规定多个受光元件的波长值的波长校正式决定为使对实测干涉谱应用波长校正式所得到的结果与理论干涉谱一致。
[0018]本专利技术的另一方面提供一种在上述波长校正方法中被使用的标准试样,该标准试样的厚度、折射率以及消光系数是已知的。
[0019]根据本专利技术的某个方面,即使在测定波长范围窄、无法在测定波长范围内包含足够数量的基准亮线的情况下,也能够进行波长校正。
[0020]根据与所附附图相关联地理解的以下关于本专利技术的详细说明,本专利技术的上述目的、特征、方面以及其它目的、特征、方面及优点会变得明确。
附图说明
[0021]图1是示出本实施方式的光学测定系统的结构例的示意图。
[0022]图2是示出构成本实施方式的光学测定系统的光学测定装置的功能结构例的示意图。
[0023]图3是示出本实施方式的光学测定装置中包括的分光测定部的光学系统的一例的
示意图。
[0024]图4是用于说明本实施方式的波长校正方法的概要的图。
[0025]图5是用于说明本实施方式的波长校正方法中的理论干涉谱与实测干涉谱的关联的图。
[0026]图6是示出本实施方式的波长校正方法的概要过程的流程图。
[0027]图7是用于说明本实施方式的波长校正方法中的虚拟元件编号的计算方法的图。
[0028]图8是用于说明本实施方式的波长校正方法中的将亮线光源用作关联信息的情况的图。
[0029]图9是用于说明本实施方式的波长校正方法中的利用来自亮线光源的关联信息得到的理论谷值波长与实测谷值元件编号的关联的图。
[0030]图10是示出本实施方式的波长校正方法中的理论谷值波长与实测谷值元件编号的对应关系的一例的图。
[0031]图11是示出本实施方式的波长校正方法中的基于理论谷值本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光学测定装置,具备:光源,其产生测定光;衍射光栅,其被入射对试样照射所述测定光而产生的反射光或透过光;受光器,其包括用于接收通过所述衍射光栅进行波长分离后的光的多个受光元件,所述多个受光元件排列配置;理论干涉谱获取单元,其获取基于标准试样的已知的厚度、折射率以及消光系数进行数学计算得出的、关于该标准试样的反射率干涉谱或透过率干涉谱来作为理论干涉谱;实测干涉谱获取单元,其获取利用所述受光器经由所述衍射光栅接收对所述标准试样照射所述测定光而产生的反射光或透过光所生成的反射率干涉谱或透过率干涉谱来作为实测干涉谱;关联信息获取单元,其获取用于决定所述理论干涉谱与所述实测干涉谱的关于波长的关联的关联信息;以及波长校正单元,其参照所述关联信息将用于规定所述多个受光元件的波长值的波长校正式决定为使对所述实测干涉谱应用所述波长校正式所得到的结果与所述理论干涉谱一致。2.根据权利要求1所述的光学测定装置,其中,所述波长校正单元基于给出所述理论干涉谱中包含的极值的位置与给所述实测干涉谱中包含的极值的位置的关联,来评价所述理论干涉谱与所述实测干涉谱的一致度。3.根据权利要求2所述的光学测定装置,其中,在关于所述标准试样进行数学计算得出的反射率干涉谱是所述理论干涉谱、从所述标准试样获取到的反射率干涉谱是所述实测干涉谱的情况下,所述波长校正单元基于给出所述理论干涉谱中包含的极小值的位置与给出所述实测干涉谱中包含的极小值的位置的关联,来评价所述理论干涉谱与所述实测干涉谱的一致度。4.根据权利要求2所述的光学测定装置,其中,所述关联信息获取单元基于在通过利用所述受光器经由所述衍射光栅接收亮线光源产生的包含已知的亮线波长的光而获取到的测定结果中出现的、关于所述亮线波长的特征,来生成所述关联信息。5.根据权利要求2所述的光学测定装置...

【专利技术属性】
技术研发人员:新家俊辉井上展幸大川内真冈本宗大川口史朗水口勉
申请(专利权)人:大塚电子株式会社
类型:发明
国别省市:

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