一种可钢前钢后混用的单银镀膜制造技术

本实用新型专利技术涉及一种可钢前钢后混用的单银镀膜，属于玻璃制品技术领域。一种可钢前钢后混用的单银镀膜，包括浮法玻璃基片以及镀膜；所述镀膜包括依次镀覆在浮法玻璃基片一侧表面的第一氮化硅层、第二金属镍铬层、第三金属银层、第四金属镍铬层和第五氮化硅层。本实用新型专利技术为低辐射镀膜玻璃，结构致密、性能稳定、具有更好的耐磨性与可钢化性同时钢前钢后颜色漂移量小。本实用新型专利技术色差很小，是一款高性能可钢前钢后混用的单银镀膜玻璃。能可钢前钢后混用的单银镀膜玻璃。能可钢前钢后混用的单银镀膜玻璃。

【技术实现步骤摘要】
一种可钢前钢后混用的单银镀膜


[0001]本技术涉及一种可钢前钢后混用的单银镀膜，属于玻璃制品


技术介绍

[0002]镀膜玻璃(也称Low-E玻璃)是指在玻璃表面上沉积包括金属层在内的多层复合膜或以掺杂宽禁带半导体为主的单层膜，由于其导电层对常温物体辐射的红外波有较高的反射作用，这一特性使其传热系数降低，有效地改善了窗户的隔热性能。
[0003]镀膜玻璃在钢化的过程，需要经过250-300秒600-700℃左右的高温，高温使得膜层中的的原子发生迁移、凝聚、氧化，特别是阻挡层的氧化致使膜层电学性能和光学性能发生变化，从而导致钢化前后颜色差异较大。
[0004]当前市场需求特别是建筑门窗市场，同一扇窗要求部分中空玻璃钢化、部分不钢化，以当前市场现有的镀膜玻璃很难达整窗无色差，为解决这一技术问题，我们迫切的需要研发一种新型的单银镀膜玻璃在保持拥有不变的物理化学性能的同时钢前钢后无色差适用于所有的商业建筑或民用建筑。

技术实现思路

[0005]本技术的目的是提供一种可钢前钢后混用的单银镀膜，来解决上述技术问题。
[0006]为了实现上述目的，本技术采用的技术方案是：
[0007]一种可钢前钢后混用的单银镀膜，包括浮法玻璃基片以及镀膜；所述镀膜包括依次镀覆在浮法玻璃基片一侧表面的第一氮化硅层、第二金属镍铬层、第三金属银层、第四金属镍铬层和第五氮化硅层。
[0008]本技术技术方案的改进还在于：浮法玻璃基片上面的第一氮化硅层厚度为50-80nm，第二金属镍铬层厚度为3-11nm，第三金属银层厚度为3-10nm，第四金属镍铬层厚度为3-11nm，第五氮化硅层厚度为50-80nm。
[0009]本技术技术方案的改进还在于：第一氮化硅层厚度为60nm，第二金属镍铬层厚度为8nm，第三金属银层厚度为7nm，第四金属镍铬层厚度为8nm，第五氮化硅层厚度为60nm。
[0010]由于采用了上述技术方案，本技术取得的技术效果有：
[0011]本技术是单银低辐射镀膜玻璃，拥有更低的辐射率达0.06，接近双银的辐射率，而膜层结构又比双银牢固的多，内外介质层均使用氮化硅保证钢化后性能不会改变。
[0012]本技术为低辐射镀膜玻璃，结构致密、性能稳定、具有更好的耐磨性与可钢化性同时钢前钢后颜色漂移量小。本技术的色差很小，是一款高性能可钢前钢后混用的单银镀膜玻璃。
附图说明
[0013]图1是本技术结构是示意图；
[0014]其中，1、浮法玻璃基片，2、第一氮化硅层，3、第二金属镍铬层，4、第三金属银层，5、第四金属镍铬层，6、第五氮化硅层
具体实施方式
[0015]下面结合附图及具体实施例对本技术做进一步详细说明：
[0016]本技术是一种可钢前钢后混用的单银镀膜，应用在建筑物的门窗上。
[0017]如图1所示，可钢前钢后混用的单银镀膜包括浮法玻璃基片1以及镀膜；。所述镀膜包括依次镀覆在浮法玻璃基片1一侧表面的第一氮化硅层2、第二金属镍铬层3、第三金属银层4、第四金属镍铬层5和第五氮化硅层6。
[0018]在具体的实施中，采用大面积玻璃镀膜生产线利用真空磁控溅射镀膜工艺，在负压环境下利用11个阴极靶位在玻璃基片上依次镀上第一氮化硅层、第二金属镍铬层、第三金属银层、第四金属镍铬层、第五氮化硅层。通过控制电源功率准确控制电介质层、功能层、阻挡层的厚度来形成一种新的膜系。同时增加银层厚度使玻璃拥有更低的辐射率(≤0.06)，同时保证玻璃的耐磨性、耐酸碱性。
[0019]其中的，氮化硅层为电解质层，通过交流阴极的硅铝合金靶在氮氩氛围中溅射，硅铝合金之比为Si:Al＝90:10，氮氩之比为50：50。
[0020]金属镍铬层为阻挡层，通过直流平靶在氩气氛围中溅射镍铬合金，其中Ni： Cr＝80:20。
[0021]金属银层为功能层，通过直流平靶在氩气氛围中溅射银形成。
[0022]为了确保各个镀膜层能够更好地发挥作用，控制浮法玻璃基片1上面的第一氮化硅层2厚度为50-80nm，第二金属镍铬层3厚度为3-11nm，第三金属银层4厚度为3-10nm，第四金属镍铬层5厚度为3-11nm，第五氮化硅层6厚度为 50-80nm。进一步优选地，第一氮化硅层2厚度为60nm，第二金属镍铬层3厚度为8nm，第三金属银层4厚度为7nm，第四金属镍铬层5厚度为8nm，第五氮化硅层6厚度为60nm。
[0023]本技术利用真空磁控溅射镀膜工艺，在上下阻挡层均使用NiCr构成一种新的单银膜系，其中包括7个双旋转交流阴极，4个直流平面阴极，共11个靶位依次在浮法玻璃基片镀第一氮化硅层、第二金属镍铬层、第三金属银层、第四金属镍铬层、第五氮化硅层。生产工艺参数如下：
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种可钢前钢后混用的单银镀膜，其特征在于：包括浮法玻璃基片(1)以及镀膜；所述镀膜包括依次镀覆在浮法玻璃基片(1)一侧表面的第一氮化硅层(2)、第二金属镍铬层(3)、第三金属银层(4)、第四金属镍铬层(5)和第五氮化硅层(6)。2.根据权利要求1所述的一种可钢前钢后混用的单银镀膜，其特征在于：浮法玻璃基片(1)上面的第一氮化硅层(2)厚度为50-80nm，第二金属镍铬层(3)厚...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨宏斌，李忠祥，冷庆吉，康延坡，李玉忠，齐丽婧，
申请(专利权)人：河北物华天宝镀膜科技有限公司，
类型：新型
国别省市：