一种防止激光化学气相沉积中沉积气体结晶化的装置和方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种防止激光化学气相沉积中沉积气体结晶化的装置和方法，所述装置包括沉积气体储存容器、反应腔体以及连接两者用于输送沉积气体的管路，沿所述沉积气体的流动方向，所述管路包括至少两个温度流失区域；对应所述温度流失区域，所述装置还设置温度保持装置与第一温度监测装置，所述第一温度监测装置的监测目标温度呈递增趋势。利用所述装置，可以保持所述管路内的沉积气体为持续气化状态，有效地防止了沉积气体在管路内部或反应腔体内的基板上遇冷凝固发生结晶化现象，有效地避免了管路堵塞或基板报废等严重问题，有效地避免了巨大的经济损失。免了巨大的经济损失。免了巨大的经济损失。

【技术实现步骤摘要】
一种防止激光化学气相沉积中沉积气体结晶化的装置和方法


[0001]本专利技术涉及激光化学气相沉积
，具体涉及一种防止激光化学气相沉积中沉积气体结晶化的装置和方法。

技术介绍

[0002]激光化学气相沉积(Laser Chemical Vapor Deposition，LCVD)是一种通过激光束的光子能量激发和促进将化学气体或蒸汽在基板表面反应合成涂层或纳米材料的方法。目前，LCVD主要用作一种修补方法，主要用于修补显示基板上的断线等缺陷。例如CN103744201A公开了一种液晶显示面板的修复方法及修复系统，所述修复方法包括以下步骤：步骤1、提供液晶显示面板，该液晶显示面板上的电路有断路；步骤2、通过激光化学气相沉积法在液晶显示面板上形成石墨烯，以连通该断路，所述修复方法制程简单，修复效果好，且以甲烷等常见气体为碳源气体，利于环境保护；并可以通过控制激光的照射与否控制石墨烯的层数，进而控制石墨烯的导电率，提升修复效果；同时，还可以调整激光的光斑半径，则可控制石墨烯生长线路的分辨率，调整激光光路，使光斑能按设定的路径对断路区域进行加热，沉积本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种防止激光化学气相沉积中沉积气体结晶化的装置，其特征在于，所述装置包括：沉积气体储存容器，用于供应激光化学气相沉积所需的沉积气体；反应腔体，用于进行激光化学气相沉积过程；管路，连通所述沉积气体储存容器与所述反应腔体，用于将所述沉积气体由所述沉积气体储存容器输送至所述反应腔体；在沿着所述沉积气体的流动方向，所述管路包括至少两个温度流失区域；温度保持装置，所述温度保持装置沿所述管路设置，用于保持所述管路内的沉积气体为持续气化状态；所述温度保持装置至少为两个，对应设置在所述温度流失区域；第一温度监测装置，所述第一温度监测装置对应设置在所述温度流失区域，用于监测所述温度流失区域的温度；所述第一温度监测装置至少为两个，沿所述沉积气体的流动方向，所述第一温度监测装置的监测目标温度呈递增趋势；控制装置，连接所述第一温度监测装置与对应设置的所述温度保持装置，接收所述第一温度监测装置监测到的温度，生成控制信号并发送至对应设置的所述温度保持装置，控制所述温度保持装置的输出温度。2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述温度流失区域为所述管路的弯曲处。3.根据权利要求1或2所述的装置，其特征在于，在所述沉积气体储存容器上设置第二温度监测装置，用于监测所述沉积气体储存容器内的沉积气体的温度。4.根据权利要求1
‑
3任一项所述的装置，其特征在于，沿所述沉积气体的流动方向，首个所述第一温度监测装置的监测目标温度大于所述沉积气...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨军，董岱，王天一，
申请(专利权)人：苏州科韵激光科技有限公司，
类型：发明
国别省市：