【技术实现步骤摘要】
用于基于鳍状物的电子设备的固体源扩散结
[0001]本申请为分案申请,其原申请是于2016年12月14日(国际申请日为 2014年7月14日)向中国专利局提交的专利申请,申请号为 201480079891.2,专利技术名称为“用于基于鳍状物的电子设备的固体源扩散结”。
[0002]本公开内容涉及基于鳍状物的电子设备,并且具体而言,涉及使用固体源扩散的结。
技术介绍
[0003]单片集成电路典型地具有大量晶体管,例如制造在平面衬底(例如硅晶圆)之上的金属
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氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)。片上系统(SoC) 架构在模拟和数字集成电路两者中使用这样的晶体管。当高速模拟电路集成在具有数字电路的单个单片结构上时,数字开关可能引入衬底噪声,这限制了模拟电路的精度和线性度。
[0004]结栅型场效应晶体管(JFET)主要用在模拟应用中,这是由于它们提供的与标准MOSFET(金属氧化物半导体FET)器件相比更优秀的低噪声性能。JFET在射频器件(例如,滤波器和平衡器)中是有用的,并且在用于电源的功率电路、功率调节器等中也是有用的。
[0005]使用注入结以建立背栅极、沟道、和顶栅极电极来在平面工艺技术的块中制造JFET晶体管。使用注入的n型和p型阱以形成顶栅极和背栅极、以及源极和漏极接触部来制造JFET。该体平面工艺可以使用形成在衬底上的鳍状物来代替MOSFET器件。FET器件在鳍状物上的形成已经被称为 FinFET架构。
附图说明
[0006]通过示例的方式,而 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种集成电路结构,包括:包括硅的鳍状物,所述鳍状物具有下鳍状物部分和上鳍状物部分;包括P型掺杂剂的电介质层,所述电介质层直接位于所述鳍状物的所述下鳍状物部分的第一侧壁和第二侧壁上,所述电介质层具有与所述鳍状物的所述下鳍状物部分的所述第一侧壁横向相邻的第一上端部分,并且所述电介质层具有与所述鳍状物的所述下鳍状物部分的所述第二侧壁横向相邻的第二上端部分;包括氧的隔离材料,所述隔离材料与直接位于所述鳍状物的所述下鳍状物部分的所述第一侧壁和所述第二侧壁上的所述电介质层横向相邻,所述隔离材料具有第一上表面部分和第二上表面部分,其中,所述隔离材料的所述第一上表面部分位于所述电介质层的所述第一上端部分下方,并且其中,所述隔离材料的所述第二上表面部分位于所述电介质层的所述第二上端部分下方;以及栅极电极,其位于所述鳍状物的所述上鳍状物部分的顶部之上并与所述鳍状物的所述上鳍状物部分的侧壁横向相邻,并且所述栅极电极位于所述电介质层的所述第一上端部分和所述第二上端部分之上,并且所述栅极电极位于所述隔离材料的所述第一上表面部分和所述第二上表面部分之上。2.根据权利要求1所述的集成电路结构,其中,所述P型掺杂剂是硼。3.根据权利要求1所述的集成电路结构,其中,所述隔离材料的所述第一上表面部分与位于所述鳍状物的所述下鳍状物部分的所述第一侧壁上的所述电介质层横向相邻。4.根据权利要求3所述的集成电路结构,其中,所述隔离材料的所述第二上表面部分与位于所述鳍状物的所述下鳍状物部分的所述第二侧壁上的所述电介质层横向相邻。5.根据权利要求1所述的集成电路结构,进一步包括:与直接位于所述鳍状物的所述下鳍状物部分的所述第一侧壁和所述第二侧壁上的所述电介质层直接横向相邻的绝缘层,其中,所述隔离材料与所述绝缘层直接横向相邻。6.根据权利要求5所述的集成电路结构,其中,所述绝缘层具有的第一上端部分与所述电介质层的所述第一上端部分横向相邻,并且其中,所述绝缘层具有的第二上端部分与所述电介质层的所述第二上端部分横向相邻。7.根据权利要求6所述的集成电路结构,其中,所述绝缘层的所述第一上端部分与所述电介质层的所述第一上端部分大体上共平面,并且其中,所述绝缘层的所述第二上端部分与所述电介质层的所述第二上端部分大体上共平面。8.根据权利要求6所述的集成电路结构,其中,所述隔离材料的所述第一上表面部分位于所述绝缘层的所述第一上端部分下方,并且其中,所述隔离材料的所述第二上表面部分位于所述绝缘层的所述第二上端部分下方。9.根据权利要求6所述的集成电路结构,其中,所述栅极电极位于所述绝缘层的所述第一上端部分和所述第二上端部分之上。10.根据权利要求1所述的集成电路结构,其中,所述电介质层的所述第一上端部分与所述电介质层的所述第二上端部分大体上共平面。11.根据权利要求10所述的集成电路结构,其中,所述隔离材料的所述第一上表面部分与所述隔离材料的所述第二上表面部分大体上共平面。12.一种制造集成电路结构的方法,所述方法包括:
形成包括硅的鳍状物,所述鳍状物具有下鳍状物部分和上鳍状物部分;形成包括磷硅酸盐玻璃(PSG)的层,包括所述磷硅酸盐玻璃的所述层直接位于所述鳍状物的所述下鳍状物部分的第一侧壁和第二侧壁上,包括所述磷硅酸盐玻璃的所述层具有与所述鳍状物的所述下鳍状物部分的所述第一侧壁横向相邻的第一上端部分,并且包括所述磷硅酸盐玻璃的所述层具有与所述鳍状物的所述下鳍状物部分的所述第二侧壁横向相邻的第二上端部分;形成包括氧的隔离材料,所述隔离材料与直接位于所述鳍状物的所述下鳍状物部分的所述第一侧壁和所述第二侧壁上的包括所述磷硅酸盐玻璃的所述层横向相邻,所述隔离材料具有第一上表面部分和第二上表面部分,其中,所述隔离材料的所述第一上表面部分位于包括所述磷硅酸盐玻璃的所述层的所述第一上端部分下方,并且其中,所述隔离材料的所述第二上表面部分位于包括所述磷硅酸盐玻璃的所述层的所述第二上端部分下方;以及形成栅极电极,其位于所述鳍状物的所述上鳍状物部分的顶部之上并与所述鳍状物的所述上鳍状物部分的侧壁横向相邻,并且所述栅极电极位于包括所述磷硅酸盐玻璃的所述层的所述第一上端部分和所述第二上端部分之上,并且所述栅极电极位于所述隔离材料的所述第一上表面部分和所述第二上表面部分之上。13.根据权利要求12所述的方法,其中,所述隔离材料的所述第一上表面部分与位于所述鳍状物的所述下鳍状物部分的所述第一侧壁上的包括所述磷硅酸盐玻璃的所述层横向相邻。14.根据权利要求13所述的方法,其中,所述隔离材料的所述第二上表面部分与位于所述鳍状物的所述下鳍状物部分的所述第二侧壁上的包括所述磷硅酸盐玻璃的所述层横向相邻。15.根据权利要求12所述的方法,进一步包括:形成与直接位于所述鳍状物的所述下鳍状物部分的所述第一侧壁和所述第二侧壁上的包括所述磷硅酸盐玻璃的所述层直接横向相邻的绝缘层,其中,所述隔离材料与所述绝缘层直接横向相邻。16.根据权利要求15所述的方法,其中,所述绝缘层包括硼硅酸盐玻璃(BSG)。17.根据权利要求15所述的方法,其中,所述绝缘层具有的第一上端部分与包括所述磷硅酸盐玻璃的所述层的所述第一上端部分横向相邻,并且其中,所述绝缘层具有的第二上端部分与包括所述磷硅酸盐玻璃的所述层的所述第二上端部分横向相邻。18.一种制造集成电路结构的方法,所述方法包括:形成包括硅的鳍状物,所述鳍状物具有下鳍状物部分和上鳍状物部分;形成包括P型掺杂剂的电介质层,所述电介质层直接位于所述鳍状物的所述下鳍状物部分的第一侧壁和第二侧壁上,所述电介质层具有与所述鳍状物的所述下鳍状物部分的所述第一侧壁横向相邻的第一上端部分,并且所述电介质层具有与所述鳍状物的所述下鳍状物部分的所述第二侧壁横向相邻的第二上端部分;形成包括氧的隔离材料,所述隔离材料与直接位于所述鳍状物的所述下鳍状物部分的所述第一侧壁和所述第二侧壁上的所述电介质层横向相邻,所述隔离材料具有第一上表面部分和第二上表面部分,其中,所述隔离材料的所述第一上表面部分位于所述电介质层的所述第一上端部分下方,并且其中,所述隔离材料的所述第二上表面部分位于所述电介质
层的所述第二上端部分下方;以及形成栅极电极,其位于所述鳍状物的所述上鳍状物部分的顶部之上并与所述鳍状物的所述上鳍状物部分的侧壁横向相邻,并且所述栅极电极位于所述电介质层的所述第...
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