具有加热功能的履带刻蚀腔制造技术

本实用新型专利技术涉及一种具有加热功能的履带刻蚀腔。具体说，是用来除去履带上二氧化硅薄膜的具有加热功能的履带刻蚀腔。其含有腔体。所述腔体由平板和平板一面四周的腔壁而构成，所述平板上均布有喷气孔。所述腔壁的内侧面上有周向台阶，周向台阶之外依次有内封板和外封板，内封板和外封板上均有进气孔，其特点是：内封板与外封板间有加热片。所述加热片的面积小于内封板，其贴合在与外封板相邻的内封板一面上，其上有与所述进气孔相应的通孔。采用本实用新型专利技术，可提高反应效率，能完全除去履带上的多余二氧化硅薄膜。适用于常压式化学气相沉积机上。机上。机上。

【技术实现步骤摘要】
具有加热功能的履带刻蚀腔


[0001]本技术涉及一种履带刻蚀装置。具体说，是用来除去履带上二氧化硅薄膜的具有加热功能的履带刻蚀腔。适用于常压式化学气相沉积机上。

技术介绍

[0002]常压式化学气相沉积机是半导体晶圆生产过程中的主要设备，它是在大约一个标准大气压环境下，利用氧气和硅烷等气体在被加热到设定温度的晶圆表面通过化学反应，从而生成一层二氧化硅薄膜而制成。但在反应过程中，携带晶圆的履带表面也会生成一层不需要的二氧化硅薄膜。因此，为保证履带的正常工作，就必须除去履带表面的二氧化硅薄膜。目前，除去履带上二氧化硅薄膜的装置是履带刻蚀腔。该履带刻蚀腔含有腔体，所述腔体由平板和平板一面四周的腔壁而构成，所述平板上均布有喷气孔。所述腔壁的内侧面上有周向台阶，周向台阶之外依次有内封板和外封板，内封板和外封板上均有进气孔。工作时，将氮气与氢氟酸混合后的混合气体依次通过外封板、内封板上的进气孔送入腔体内，再从所述平板上的喷气孔均匀喷出，以此来清除履带表面的二氧化硅薄膜。由于这种履带刻蚀腔是在常温下将由氮气与氢氟酸混合后的混合气体送到履带表面进行反应，使得混本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.具有加热功能的履带刻蚀腔，包括腔体；所述腔体由平板和平板一面四周的腔壁而构成，所述平板上均布有喷气孔；所述腔壁的内侧面上有周向台阶，周向台阶之外依次有内封板和外封板，内封板和外封板上均有进气孔，其特征在于：内封板与外封板间有加热片；所述加热片的面积小于内封板，其贴合在与外封板相邻的内封板一面上，其上有与所述进气孔相应的通孔。2.根据权利要求1所述的具有加热功能...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘招林，
申请(专利权)人：无锡柏斯威科技有限公司，
类型：新型
国别省市：