一种蒸镀掩膜板和OLED器件制造技术

技术编号:28082393 阅读:31 留言:0更新日期:2021-04-14 15:31
本实用新型专利技术涉及蒸镀掩膜板技术领域,特别涉及一种蒸镀掩膜板和OLED器件,包括第一掩膜基板、第二掩膜基板和通电线圈,第一掩膜基板与第二掩膜基板相互贴合,通电线圈套设在第一掩膜基板外壁,使得在通电线圈通上电流时,第一掩膜基板和通电线圈构成一个磁铁,这样可以通过改变电流的方向来改变磁铁的阴阳极,也可以通过调节电流的大小来控制磁铁的磁性大小,进而来调节蒸镀掩膜板的极性和洛伦磁力的大小,实现蒸镀掩膜板的洛伦磁力和本身重力的平衡,以此消除蒸镀掩膜板被磁化带来的影响,从而提高蒸镀器件的良率,提高产品品质。提高产品品质。提高产品品质。

【技术实现步骤摘要】
一种蒸镀掩膜板和OLED器件


[0001]本技术涉及蒸镀掩膜板
,特别涉及一种蒸镀掩膜板和OLED 器件。

技术介绍

[0002]有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode,简称为OLED)显示器具备低功耗、宽视角、响应速度快、超轻期薄和抗震性好等特点,作为自主发光的器件越来越底被运用到高性能的显示区域;
[0003]目前采用蒸镀方式制备OLED器件,在蒸镀成膜过程中,通过腔体内部的永磁体磁板将蒸镀掩膜板吸附玻璃基板上,玻璃基板与蒸镀掩膜板并非完全贴合,中间存有一定间隙,以保护薄膜不被蒸镀掩膜板刮伤,在长期的蒸镀过程中,蒸镀掩膜板会被永磁体磁化,使蒸镀掩膜板变成和永磁体一样的磁性,由于同性磁体互相排斥,导致蒸镀掩膜板不能完全吸附,使蒸镀掩膜板在重力的作用下和玻璃基板的间隙变大,在蒸镀时,蒸镀材料在间隙处发生衍射,导致阴影区域变大,造成器件混色、缺色和亮度不均等不良。

技术实现思路

[0004]本技术所要解决的技术问题是:提供一种能够解决蒸镀掩膜板被磁化问题的蒸镀掩膜板和OLED器件。...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀掩膜板,其特征在于,包括第一掩膜基板、第二掩膜基板和通电线圈,所述第一掩膜基板与第二掩膜基板相互贴合,所述第一掩膜基板上开设有两个以上呈阵列分布的第一通槽,所述第二掩膜基板上开设有两个以上呈阵列分布的第二通槽,所述第二通槽的数量与第一通槽的数量相同,所述第一通槽与第二通槽一一对应设置且相通,所述通电线圈套设在第一掩膜基板外壁。2.根据权利要求1所述的蒸镀掩膜板,其特征在于,所述第一掩膜基板的形状为长方体,所述第一掩膜基板的四个侧面均向内凹陷,所述通电线圈缠绕在第一掩膜基板的凹陷处。3.根据权利要求2所述的蒸镀掩膜板,其特征在于,所述第一掩膜基板的四个侧面向内凹陷的深度均为5mm-8m...

【专利技术属性】
技术研发人员:温质康
申请(专利权)人:福建华佳彩有限公司
类型:新型
国别省市:

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