蒸镀掩模组和电子器件制造技术

本实用新型专利技术涉及蒸镀掩模组和电子器件。蒸镀掩模组具备：第1蒸镀掩模，其具有沿不同的两个方向排列的两个以上的第1贯通孔；第2蒸镀掩模，其具有沿不同的两个方向排列的两个以上的第2贯通孔；和第3蒸镀掩模，其具有两个以上的第3贯通孔。在将第1蒸镀掩模、第2蒸镀掩模和第3蒸镀掩模重合时，第1贯通孔与第2贯通孔或第3贯通孔部分重叠。贯通孔部分重叠。贯通孔部分重叠。

【技术实现步骤摘要】
蒸镀掩模组和电子器件


[0001]本申请的实施方式涉及蒸镀掩模组和电子器件。

技术介绍

[0002]智能手机、平板电脑等便携式设备中使用的显示装置优选为高精细，例如优选像素密度为400ppi以上。另外，对于便携式设备，应对超高分辨率的需要也正在提高。在超高分辨率的情况下，显示装置的像素密度例如优选为800ppi以上。
[0003]显示装置之中，有机EL显示装置由于响应性好、耗电低、对比度高而受到关注。作为形成有机EL显示装置的像素的方法，已知有下述方法：使用形成有贯通孔的蒸镀掩模，形成像素或电极。例如，首先，准备以与像素对应的图案形成有阳极的基板。接着，借由蒸镀掩模的贯通孔使有机材料附着于阳极上，在阳极上形成有机层。接着，借由蒸镀掩模的贯通孔使导电性材料附着于有机层上，在有机层上形成阴极。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本特开2000-82582号公报

技术实现思路

[0007]技术所要解决的课题
[0008]有机EL显示装置等电子器件的阴极不仅形成本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀掩模组，其特征在于，其具备：第1蒸镀掩模，其具有沿不同的两个方向排列的两个以上的第1贯通孔；第2蒸镀掩模，其具有沿不同的两个方向排列的两个以上的第2贯通孔；和第3蒸镀掩模，其具有两个以上的第3贯通孔，在将所述第1蒸镀掩模、所述第2蒸镀掩模和所述第3蒸镀掩模重合时，所述第1贯通孔与所述第2贯通孔或所述第3贯通孔部分重叠。2.如权利要求1所述的蒸镀掩模组，其特征在于，两个以上的所述第1贯通孔包含：两个以上的掩模第1基本区域，它们沿不同的两个方向排列；和两个以上的掩模第1扩张区域，它们从所述掩模第1基本区域延伸出以便在将所述第1蒸镀掩模、所述第2蒸镀掩模和所述第3蒸镀掩模重合时与所述第2贯通孔或所述第3贯通孔部分重叠。3.如权利要求2所述的蒸镀掩模组，其特征在于，两个以上的所述第2贯通孔包含沿不同的两个方向排列的两个以上的掩模第2基本区域、和从所述掩模第2基本区域延伸出的两个以上的掩模第2扩张区域，或者，两个以上的所述第3贯通孔包含沿不同的两个方向排列的两个以上的掩模第3基本区域、和从所述掩模第3基本区域延伸出的两个以上的掩模第3扩张区域，在将所述第1蒸镀掩模、所述第2蒸镀掩模和所述第3蒸镀掩模重合时，两个以上的所述掩模第1扩张区域的至少一部分与所述掩模第2扩张区域或所述掩模第3扩张区域整体或部分重叠。4.如权利要求3所述的蒸镀掩模组，其特征在于，所述掩模第2扩张区域或所述掩模第3扩张区域中的与所述掩模第1扩张区域重叠的区域与所述掩模第1基本区域部分重叠。5.如权利要求2～4中任一项所述的蒸镀掩模组，其特征在于，在与所述掩模第1扩张区域的延伸方向正交的方向上，所述掩模第1扩张区域的尺寸为所述掩模第1基本区域的尺寸的0.9倍以下。6.如权利要求2～4中任一项所述的蒸镀掩模组，其特征在于，所述掩模第1基本区域的排列方向与所述掩模第1扩张区域从所述掩模第1基本区域延伸出的方向一致。7.如权利要求2～4中任一项所述的蒸镀掩模组，其特征在于，所述掩模第1基本区域的排列方向与所述掩模第1扩张区域从所述掩模第1基本区域延伸出的方向不同。8.如权利要求1所述的蒸镀掩模组，其特征在于，两个以上的所述第1贯通孔包含沿不同的两个方向排列的两个以上的掩模第1基本区域、和两个以上的掩模第1辅助区域，在将所述第1蒸镀掩模、所述第2蒸镀掩模和所述第3蒸镀掩模重合时，所述掩模第1辅助区域按照与相邻的两个所述第2贯通孔、相邻的两个所述第3贯通孔、或者相邻的所述第2贯通孔和所述第3贯通孔部分重叠的方式延伸。9.如权利要求8所述的蒸镀掩模组，其特征在于，在与所述掩模第1辅助区域的延伸方向正交的方向上，所述掩模第1辅助区域的尺寸为所述掩模第1基本区域的尺寸的0.9倍以下。10.如权利要求9所述的蒸镀掩模组，其特征在于，所述掩模第1辅助区域与所述掩模第1基本区域连接。11.如权利要求9所述的蒸镀掩模组，其特征在于，所述掩模第1辅助区域不与所述掩模第1基本区域连接。
12.如权利要求1～4中任一项所述的蒸镀掩模组，其特征在于，在将所述第1蒸镀掩模、所述第2蒸镀掩模和所述第3蒸镀掩模重合时，两个以上的所述第1贯通孔中的至少一部分所述第1贯通孔借由所述第2贯通孔和所述第3贯通孔与其他所述第1贯通孔连接。13.如权利要求1～4中任一项所述的蒸镀掩模组，其特征在于，在将所述第1蒸镀掩模、所述第2蒸镀掩模和所述第3蒸镀掩模重合时，两个以上的所述第1贯通孔中的至少一部分所述第1贯通孔借由所述第2贯通孔或所述第3贯通孔与其他所述第1贯通孔连接。14.一种蒸镀掩模组，其特征在于，其具备：第1蒸镀掩模，其具有沿第1方向排列的两个以上的第1贯通孔；和第2蒸镀掩模，其具有两个以上的第2贯通孔，所述第1贯通孔包含：两个以上的掩模第1基本区域，它们沿与所述第1方向交叉的第2方向排列；和掩模第1扩张区域，它们按照连接所述第2方向上相邻的两个所...

【专利技术属性】
技术研发人员：樋口拓也，落合洋光，冈宏树，
申请(专利权)人：大日本印刷株式会社，
类型：新型
国别省市：