一种检测设备及检测系统技术方案

本实用新型专利技术涉及一种检测设备及检测系统，其中，检测设备包括检测部和设于检测部内的检测腔室，检测腔室内包括用于对待测对象进行光学检测的光学元件；检测部内填充有第一气体，检测腔室内填充有第二气体，第一气体的清洁度等于或低于第二气体的清洁度。通过以上设置，能够避免污染物对光学元件造成污染，保证检测精度并避免损坏光学元件。精度并避免损坏光学元件。精度并避免损坏光学元件。

【技术实现步骤摘要】
一种检测设备及检测系统


[0001]本技术涉及光学检测
，具体涉及一种检测设备及检测系统。

技术介绍

[0002]随着半导体技术的发展，半导体光学检测技术运营而生，光学检测技术具有检测速度快、检测精度高且可实现非接触检测等优点。
[0003]光学检测设备包括检测部，该检测部设有用于对待测对象进行光学检测的光学元件，检测部内始终有气体流动，以保证检测部内的清洁度，避免污染物对光学元件造成污染，影响检测精度或损坏光学元件。
[0004]因此，在对待测对象进行检测的过程中，如何避免污染物对光学元件造成污染，保证检测精度并避免损坏光学元件，是本领域技术人员所亟需解决的技术问题。

技术实现思路

[0005]本技术的目的是提供一种检测设备及检测系统，能够避免污染物对光学元件造成污染，保证检测精度并避免损坏光学元件。
[0006]为解决上述技术问题，本技术提供一种检测设备，其包括检测部和设于所述检测部内的检测腔室，所述检测腔室内包括用于对待测对象进行光学检测的光学元件；所述检测部内填充有第一气体，所述检测腔室内填充有本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种检测设备，其特征在于，包括检测部(1)和设于所述检测部(1)内的检测腔室，所述检测腔室内包括用于对待测对象进行光学检测的光学元件；所述检测部(1)内填充有第一气体，所述检测腔室内填充有第二气体，所述第一气体的清洁度等于或低于所述第二气体的清洁度。2.根据权利要求1所述的检测设备，其特征在于，所述检测腔室包括第一腔室(11)和第二腔室(12)，所述光学元件包括设于所述第一腔室(11)内的探测装置和镜头组件以及设于所述第二腔室(12)内的光源装置。3.根据权利要求2所述的检测设备，其特征在于，所述第一腔室(11)内设有光学元件腔室，所述镜头组件设置在所述光学元件腔室内，所述光学元件腔室内填充有所述第二气体。4.根据权利要求1所述的检测设备，其特征在于，还包括位于所述检测部(1)下方的运动部(2)，所述运动部(2)内设有承载装置(21)和运动装置，所述承载装置(21)用于承载待测对象并带动所述待测对象运动，所述运动装置用于带动所述承载装置(21)运动。5.根据权利要求4所述的检测设备，其特征在于，所述检测设备还包括供气部(4)和抽排部(5)，所述检测腔室包括第一腔室(11)，所述光学元件包括设于所述第一腔室(11)内的探测装置和镜头组件；所述供气部(4)用于为所述检测部(1)、所述第一腔室(11)和所述运动部(2)提供气体，并分别与所述检测部(1)、所述第一腔室(11)和所述运动部(2)通气连通；所述抽排部(5)用于排出所述检测部(1)、所述第一腔室(11)和所述运动部(2)的气体，并与所述检测部(1)、所述第一腔室(11)和所述运动部(2)通气连通。6.根据权利要求5所述的检测设备，其特征在于，所述供气部包括第一供气部和第二供气部，所述第一供气部用于为所述检测部(1)提供所述第一气体，所述第一供气部设有第一过滤装置，所述第一过滤装置用于产生所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员：张龙，黄有为，陈鲁，
申请(专利权)人：深圳中科飞测科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：