一种检测设备及检测系统技术方案

本实用新型专利技术涉及一种检测设备及检测系统，其中，检测设备包括检测部和设于检测部内的检测腔室，检测腔室内包括用于对待测对象进行光学检测的光学元件；检测部内填充有第一气体，检测腔室内填充有第二气体，第一气体的清洁度等于或低于第二气体的清洁度。通过以上设置，能够避免污染物对光学元件造成污染，保证检测精度并避免损坏光学元件。精度并避免损坏光学元件。精度并避免损坏光学元件。

【技术实现步骤摘要】
一种检测设备及检测系统


[0001]本技术涉及光学检测
，具体涉及一种检测设备及检测系统。

技术介绍

[0002]随着半导体技术的发展，半导体光学检测技术运营而生，光学检测技术具有检测速度快、检测精度高且可实现非接触检测等优点。
[0003]光学检测设备包括检测部，该检测部设有用于对待测对象进行光学检测的光学元件，检测部内始终有气体流动，以保证检测部内的清洁度，避免污染物对光学元件造成污染，影响检测精度或损坏光学元件。
[0004]因此，在对待测对象进行检测的过程中，如何避免污染物对光学元件造成污染，保证检测精度并避免损坏光学元件，是本领域技术人员所亟需解决的技术问题。

技术实现思路

[0005]本技术的目的是提供一种检测设备及检测系统，能够避免污染物对光学元件造成污染，保证检测精度并避免损坏光学元件。
[0006]为解决上述技术问题，本技术提供一种检测设备，其包括检测部和设于所述检测部内的检测腔室，所述检测腔室内包括用于对待测对象进行光学检测的光学元件；所述检测部内填充有第一气体，所述检测腔室内填充有第二气体，所述第一气体的清洁度等于或低于所述第二气体的清洁度。
[0007]检测腔室位于检测部内，检测部内填充有第一气体，检测腔室内填充有第二气体，也就是说位于检测腔室内的光学元件能够受到第一气体和第二气体的两层气体保护，可靠性更高。并且，本实施例中的第二气体的清洁度要不低于第一气体的清洁度，如此一来，能够进一步确保位于检测腔室内的光学元件的清洁性，避免污染物对光学元件造成污染，保证检测精度并避免损坏光学元件。
[0008]可选地，所述检测腔室包括第一腔室和第二腔室，所述光学元件包括设于所述第一腔室内的探测装置和镜头组件以及设于所述第二腔室内的光源装置。
[0009]可选地，所述第一腔室内设有光学元件腔室，所述镜头组件设置在所述光学元件腔室内，所述光学元件腔室内填充有所述第二气体。
[0010]可选地，还包括位于所述检测部下方的运动部，所述运动部内设有承载装置和运动装置，所述承载装置用于承载待测对象并带动所述待测对象运动，所述运动装置用于带动所述承载装置运动。
[0011]可选地，所述检测设备还包括供气部和抽排部，所述检测腔室包括第一腔室，所述光学元件包括设于所述第一腔室内的探测装置和镜头组件；所述供气部用于为所述检测部、所述第一腔室和所述运动部提供气体，并分别与所述检测部、所述第一腔室和所述运动部通气连通；所述抽排部用于排出所述检测部、所述第一腔室和所述运动部的气体，并与所述检测部、所述第一腔室和所述运动部通气连通。
[0012]可选地，所述供气部包括第一供气部和第二供气部，所述第一供气部用于为所述检测部提供所述第一气体，所述第一供气部设有第一过滤装置，所述第一过滤装置用于产生所述第一气体；所述第二供气部用于向所述第一腔室和运动部提供所述第二气体，所述第二供气部设有第二过滤装置，所述第二过滤装置用于产生第二气体；所述第一过滤装置的过滤等级等于或低于所述第二过滤装置的过滤等级。
[0013]可选地，所述检测腔室还包括第二腔室，所述光学元件包括设于所述第二腔室内的光源装置，所述检测设备还包括与所述第二腔室连通的供气装置，所述供气装置用于为所述第二腔室提供第三气体，所述第三气体的清洁度高于或等于所述第二气体的清洁度；
[0014]或者，所述第二腔室与所述第二供气部通气连通，所述第二供气部用于向所述第二腔室提供所述第二气体；
[0015]还包括抽排装置，所述抽排装置用于将所述第二腔室内的气体排出。
[0016]可选地，所述运动部还包括设于所述运动部侧壁的进样窗口，所述待测对象通过所述进样窗口进入所述运动部并置于所述承载装置上。
[0017]可选地，所述第一腔室和所述运动部均设有进气口和出气口，所述进气口与所述供气部通过通气管道连通；所述第一腔室和所述运动部内的气体通过所述出气口排出。
[0018]可选地，还包括柜体，所述供气部、所述检测部和所述运动部由上至下依次设于所述柜体内。
[0019]另外，本申请还一种检测系统，其包括传递装置以及如上所述的检测设备，所述传递装置能够将待测对象传递至所述检测设备的承载装置。
[0020]具有如上所述的检测设备的检测系统，其技术效果与上述检测设备的技术效果类似，为节约篇幅，在此不再赘述。
附图说明
[0021]图1是本技术实施例所提供的检测设备的结构示意图；
[0022]图2是运动部和隔板的结构示意图；
[0023]图3是运动部的结构示意图；
[0024]图4是图3中A的放大图。
[0025]附图1
‑
4中，附图标记说明如下：
[0026]1‑
检测部，11
‑
第一腔室，12
‑
第二腔室；
[0027]2‑
运动部，21
‑
承载装置，22
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吹扫装置，23
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风板，24
‑
吹风孔，25
‑
进气口，26
‑
出气口；
[0028]3‑
隔板，31
‑
检测窗口；
[0029]4‑
供气部；
[0030]5‑
抽排部。
具体实施方式
[0031]为了使本领域的技术人员更好地理解本技术的技术方案，下面结合附图和具体实施例对本技术作进一步的详细说明。
[0032]请参考图1
‑
4，图1是本技术实施例所提供的检测设备的结构示意图；图2是运
动部和隔板的结构示意图；图3是运动部的结构示意图；图4是图3中A的放大图。
[0033]本技术实施例提供了一种检测设备及检测系统，其中，该检测设备包括检测部1和位于该检测部1内的检测腔室，检测腔室内包括用于对待测对象(如晶圆等)进行光学检测的光学元件，检测部1内填充有第一气体，检测腔室内填充有第二气体，第一气体的清洁度等于或低于第二气体的清洁度。
[0034]详细的讲，检测腔室位于检测部1内，检测部1内填充有第一气体，检测腔室内填充有第二气体，也就是说位于检测腔室内的光学元件能够受到第一气体和第二气体的两层气体保护，可靠性更高。并且，本实施例中的第二气体的清洁度要不低于第一气体的清洁度，如此一来，能够进一步确保位于检测腔室内的光学元件的清洁性，避免污染物对光学元件造成污染，保证检测精度并避免损坏光学元件。
[0035]在上述实施例中，检测腔室包括第一腔室11和第二腔室12，光学元件包括设于第一腔室11内的镜头组件和探测装置以及设于第二腔室12内的光源装置。由于光源出射的光能量较高，若存在灰尘等杂质，光照射在杂质上被散射后照射到其他元件上会造成损坏，因此，第二腔室12内的气体清洁度要求较高，以保证光源装置的使用寿命。因此，在检测腔室内，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种检测设备，其特征在于，包括检测部(1)和设于所述检测部(1)内的检测腔室，所述检测腔室内包括用于对待测对象进行光学检测的光学元件；所述检测部(1)内填充有第一气体，所述检测腔室内填充有第二气体，所述第一气体的清洁度等于或低于所述第二气体的清洁度。2.根据权利要求1所述的检测设备，其特征在于，所述检测腔室包括第一腔室(11)和第二腔室(12)，所述光学元件包括设于所述第一腔室(11)内的探测装置和镜头组件以及设于所述第二腔室(12)内的光源装置。3.根据权利要求2所述的检测设备，其特征在于，所述第一腔室(11)内设有光学元件腔室，所述镜头组件设置在所述光学元件腔室内，所述光学元件腔室内填充有所述第二气体。4.根据权利要求1所述的检测设备，其特征在于，还包括位于所述检测部(1)下方的运动部(2)，所述运动部(2)内设有承载装置(21)和运动装置，所述承载装置(21)用于承载待测对象并带动所述待测对象运动，所述运动装置用于带动所述承载装置(21)运动。5.根据权利要求4所述的检测设备，其特征在于，所述检测设备还包括供气部(4)和抽排部(5)，所述检测腔室包括第一腔室(11)，所述光学元件包括设于所述第一腔室(11)内的探测装置和镜头组件；所述供气部(4)用于为所述检测部(1)、所述第一腔室(11)和所述运动部(2)提供气体，并分别与所述检测部(1)、所述第一腔室(11)和所述运动部(2)通气连通；所述抽排部(5)用于排出所述检测部(1)、所述第一腔室(11)和所述运动部(2)的气体，并与所述检测部(1)、所述第一腔室(11)和所述运动部(2)通气连通。6.根据权利要求5所述的检测设备，其特征在于，所述供气部包括第一供气部和第二供气部，所述第一供气部用于为所述检测部(1)提供所述第一气体，所述第一供气部设有第一过滤装置，所述第一过滤装置用于产生所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员：张龙，黄有为，陈鲁，
申请(专利权)人：深圳中科飞测科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：