止回结构及单向滑道制造技术

本实用新型专利技术提供了一种止回结构及单向滑道，止回结构包括摆动机构及限位机构，摆动机构转动连接于支撑机构并具有位于其最高点的顶部，顶部在摆动机构转动时在限位位置与通过位置之间圆周运动，顶部能够在处于通过位置时与支撑面齐平，顶部还能够在处于限位位置时高于支撑面，限位位置位于支撑面的作业方向上，并位于圆盘的滚动路径上，通过位置时位于限位位置的作业方向上；限位机构连接于支撑机构，摆动机构在顶部处于限位位置时能够抵触于限位机构，限位机构用于限制顶部背向作业方向转动。当圆盘反向滚动时，摆动机构抵触于限位机构而无法继续回转，导致圆盘无法继续反向滚动，这样止回结构便实现了圆盘的单向滚动。这样止回结构便实现了圆盘的单向滚动。这样止回结构便实现了圆盘的单向滚动。

【技术实现步骤摘要】
止回结构及单向滑道


[0001]本技术属于印刷电路板处理设备
，尤其涉及一种止回结构及单向滑道。

技术介绍

[0002]为使得印刷电路板在处理时克服水池效应及处理不均匀的情况，现已有印刷电路板处理设备通过垂直设置的圆盘固定印刷电路板，以便在印刷电路板被浸润后能够通过滚动来实现匀液处理。
[0003]为实现滚动圆盘的自转，通常在圆盘滚动路径上设置定位结构，以使得圆盘在滚动到预设位置时被阻挡，但是由于圆盘滚动的冲力作用，圆盘会被定位结构反弹，导致圆盘无法实现自转。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种止回结构及单向滑道，旨在解决现有技术中圆盘在滚动至限位结构后易产生反弹的技术问题。
[0005]本技术是这样实现的，一种止回结构，用于使得圆盘在支撑机构上朝向作业方向单向滚动，所述支撑机构具有供所述圆盘滚动的支撑面，包括：
[0006]摆动机构，转动连接于所述支撑机构并具有位于其最高点的顶部，所述顶部在所述摆动机构转动时在限位位置与通过位置之间圆周运动，所述顶部能够在处于所述通过位置时与所述支撑面本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种止回结构，用于使得圆盘在支撑机构上朝向作业方向单向滚动，所述支撑机构具有供所述圆盘滚动的支撑面，其特征在于，包括：摆动机构，转动连接于所述支撑机构并具有位于其最高点的顶部，所述顶部在所述摆动机构转动时在限位位置与通过位置之间圆周运动，所述顶部能够在处于所述通过位置时与所述支撑面齐平，所述顶部还能够在处于所述限位位置时高于所述支撑面，所述限位位置位于所述支撑面的作业方向上，并位于所述圆盘的滚动路径上，所述通过位置时位于所述限位位置的作业方向上；限位机构，连接于所述支撑机构，所述摆动机构在所述顶部处于所述限位位置时能够抵触于所述限位机构，所述限位机构用于限制所述顶部背向所述作业方向转动。2.如权利要求1所述的止回结构，其特征在于，在所述摆动机构处于自然状态时，所述顶部的位置高于所述通过位置。3.如权利要求1所述的止回结构，其特征在于，所述摆动机构包括转动连接于所述支撑机构的转动件以及连接于所述转动件的负重件，所述转动件具有所述顶部。4.如权利要求3所述的止回结构，其特征在于，所述负重件钩挂于所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈德和，
申请(专利权)人：东莞宇宙电路板设备有限公司，
类型：新型
国别省市：