熔解曲线异常值处理方法、装置以及电子设备制造方法及图纸

本申请提供了一种熔解曲线异常值处理方法、装置以及电子设备，涉及数据检测技术领域，包括：获取PCR熔解过程中已扩增的荧光强度数据，利用连续小波变换的方式对荧光强度数据进行探测，确定异常值位置，在异常值位置所处的预设邻域范围内，根据可变化窗口值对荧光强度数据进行线性拟合，得到拟合曲线，对拟合曲线进行多项式拟合求导，确定熔解曲线，以缓解无法获得较高精度的熔解曲线的技术问题。法获得较高精度的熔解曲线的技术问题。法获得较高精度的熔解曲线的技术问题。

【技术实现步骤摘要】
熔解曲线异常值处理方法、装置以及电子设备


[0001]本申请涉及数据检测
，尤其是涉及一种熔解曲线异常值处理方法、装置以及电子设备。

技术介绍

[0002]目前，诊断传染病标准的核酸定量方法多采用荧光实时定量PCR，能够量化样品模板的初始值，常被用在基因分析表达、转基因食物检测和癌症检测中。
[0003]但是，目前实际的数据调试中，荧光强度偶尔会出现异常值的情况，现有的方法都无法处理荧光强度变化值即熔解曲线的异常值，难以确定平滑后的熔解曲线，目前的方法无法获得较高精度的熔解曲线。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于提供一种熔解曲线异常值处理方法，以缓解无法获得较高精度的熔解曲线的技术问题。
[0005]第一方面，本申请实施例提供了一种熔解曲线异常值处理方法，包括：
[0006]获取PCR熔解过程中已扩增的荧光强度数据；
[0007]利用连续小波变换的方式对所述荧光强度数据进行探测，确定异常值位置；
[0008]在所述异常值位置所处的预设邻域范围内，根据可变化窗口值对所述荧光强度数据进行线性拟合，得到拟合曲线；
[0009]对所述拟合曲线进行多项式拟合求导，确定熔解曲线。
[0010]结合第一方面，本专利技术实施例提供了第一方面的第一种可能的实施方式，其中，所述利用连续小波变换的方式对所述荧光强度数据进行探测，确定异常值位置的步骤，包括：
[0011]利用连续小波变换的方式对所述荧光强度数据进行探测，得到每个尺度下对应的多个模；
[0012]分别确定不同所述尺度下对应的模极大值位置；
[0013]判断所述模极大值位置是否在预设层数内；
[0014]若所述模极大值位置在所述预设层数内，则将所述模极大值位置确定为荧光强度异常值位置。
[0015]结合第一方面，本专利技术实施例提供了第一方面的第二种可能的实施方式，其中，所述判断所述模极大值位置是否在预设层数内的步骤，包括：
[0016]对所述荧光强度数据进行多次探测，得到与多次探测对应的三层模极大值位置；
[0017]判断所述模极大值位置是否在预设顺序层数以及连续层数内。
[0018]结合第一方面，本专利技术实施例提供了第一方面的第三种可能的实施方式，其中，所述在所述异常值位置所处的预设邻域范围内，根据可变化窗口值对所述荧光强度数据进行线性拟合，得到拟合曲线的步骤，包括：
[0019]在所述异常值位置所处的预设邻域范围内，根据至少两个预设窗口值对所述荧光
强度数据进行线性拟合，分别得到与至少两个所述预设窗口值对应的初步拟合曲线；
[0020]计算至少两个所述预设窗口值对应的平滑度值，通过对比多个所述平滑度值得到最小平滑度值；
[0021]确定与所述最小平滑度值对应的目标预设窗口值；
[0022]将所述目标预设窗口值对应的目标初步拟合曲线确定为最终的拟合曲线。
[0023]结合第一方面，本专利技术实施例提供了第一方面的第四种可能的实施方式，其中，所述可变化窗口值为奇数。
[0024]结合第一方面，本专利技术实施例提供了第一方面的第五种可能的实施方式，其中，所述确定异常值位置的步骤，包括：
[0025]当出现多个所述异常值位置时，判断相邻的所述异常值位置之间的距离是否小于或等于预设距离；
[0026]若相邻的所述异常值位置之间的距离小于或等于所述预设距离，随机确定一个所述异常值位置。
[0027]结合第一方面，本专利技术实施例提供了第一方面的第六种可能的实施方式，其中，所述对所述拟合曲线进行多项式拟合求导，确定熔解曲线的步骤，包括：
[0028]对所述拟合曲线进行不同阶次的多项式拟合，得到多个决定系数；
[0029]将最大的所述决定系数对应的多项式拟合结果确定为多项式拟合曲线；
[0030]确定所述多项式拟合曲线的负导数，并确定所述负导数对应的熔解曲线。
[0031]第二方面，本专利技术实施例提供了一种熔解曲线异常值处理装置，包括：
[0032]获取模块，用于获取PCR熔解过程中已扩增的荧光强度数据；
[0033]探测模块，用于利用连续小波变换的方式对所述荧光强度数据进行探测，确定异常值位置；
[0034]拟合模块，用于在所述异常值位置所处的预设邻域范围内，根据可变化窗口值对所述荧光强度数据进行线性拟合，得到拟合曲线；
[0035]确定模块，用于对所述拟合曲线进行多项式拟合求导，确定熔解曲线。
[0036]第三方面，本专利技术实施例还提供一种电子设备，包括存储器、处理器，所述存储器中存储有可在所述处理器上运行的计算机程序，所述处理器执行所述计算机程序时实现上述第一方面所述的方法的步骤。
[0037]第四方面，本专利技术实施例还提供一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质存储有计算机可运行指令，所述计算机可运行指令在被处理器调用和运行时，所述计算机可运行指令促使所述处理器运行上述第一方面所述的方法。
[0038]本申请实施例带来了以下有益效果：
[0039]本申请实施例提供的一种熔解曲线异常值处理方法、装置以及电子设备，包括：首先获取PCR熔解过程中已扩增的荧光强度数据，然后再利用连续小波变换的方式对荧光强度数据进行探测，确定异常值位置，之后在异常值位置所处的预设邻域范围内，最后再根据可变化窗口值对荧光强度数据进行线性拟合，得到拟合曲线，从而对拟合曲线进行多项式拟合求导，确定熔解曲线，本方案中，通过利用连续小波变换的方式对荧光强度数据进行探测，能够确定异常值位置，再者，根据可变化窗口值对荧光强度数据进行线性拟合，最后实现了对拟合曲线进行多项式拟合求导，确定熔解曲线，缓解了目前无法获得较高精度的熔
解曲线的技术问题。
附图说明
[0040]为了更清楚地说明本申请具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本申请的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0041]图1为本申请实施例提供的一种熔解曲线异常值处理方法的流程示意图；
[0042]图2为本申请实施例提供的一种熔解曲线异常值处理方法的另一流程示意图；
[0043]图3为本申请实施例提供的一种熔解曲线异常值处理方法中原始荧光强度数据，前25级尺度cwt系数叠加示意图以及各尺度系数对应的cwt系数模极大值位置的示意图；
[0044]图4为本申请实施例提供的一种熔解曲线异常值处理方法中对异常值邻域进行局部线性拟合的效果图；
[0045]图5为本申请实施例提供的熔解曲线异常值处理方法中最终处理前后的熔解曲线示意图；
[0046]图6为本申请实施例提供的一种熔解曲线异常值处理装置的结构示意图；
[0047]图7为示出了本申请实施例所提供的一种电子本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种熔解曲线异常值处理方法，其特征在于，包括：获取PCR熔解过程中已扩增的荧光强度数据；利用连续小波变换的方式对所述荧光强度数据进行探测，确定异常值位置；在所述异常值位置所处的预设邻域范围内，根据可变化窗口值对所述荧光强度数据进行线性拟合，得到拟合曲线；对所述拟合曲线进行多项式拟合求导，确定熔解曲线。2.根据权利要求1所述的熔解曲线异常值处理方法，其特征在于，所述利用连续小波变换的方式对所述荧光强度数据进行探测，确定异常值位置的步骤，包括：利用连续小波变换的方式对所述荧光强度数据进行探测，得到每个尺度下对应的多个模；分别确定不同所述尺度下对应的模极大值位置；判断所述模极大值位置是否在预设层数内；若所述模极大值位置在所述预设层数内，则将所述模极大值位置确定为荧光强度异常值位置。3.根据权利要求2所述的熔解曲线异常值处理方法，其特征在于，所述判断所述模极大值位置是否在预设层数内的步骤，包括：对所述荧光强度数据进行多次探测，得到与多次探测对应的三层模极大值位置；判断所述模极大值位置是否在预设顺序层数以及连续层数内。4.根据权利要求1所述的熔解曲线异常值处理方法，其特征在于，所述在所述异常值位置所处的预设邻域范围内，根据可变化窗口值对所述荧光强度数据进行线性拟合，得到拟合曲线的步骤，包括：在所述异常值位置所处的预设邻域范围内，根据至少两个预设窗口值对所述荧光强度数据进行线性拟合，分别得到与至少两个所述预设窗口值对应的初步拟合曲线；计算至少两个所述预设窗口值对应的平滑度值，通过对比多个所述平滑度值得到最小平滑度值；确定与所述最小平滑度值对应的目标预设窗口值；将所述目标预设窗口值对应的目标初步拟合曲线确定为最终的拟合...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨智，李冬，贺贤汉，
申请(专利权)人：杭州博日科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：