一种大视场、低像差电子光学成像系统及成像方法技术方案

本发明专利技术提供一种大视场、低像差电子光学成像系统及成像方法，解决现有多束、大视场电子光学系统的像差性能无法满足要求的问题。该成像系统包括依次设置的电子源、加速电极阵列、单透镜和物镜；电子源用于发出多束电子，多束电子的电位从中心向外依次减小；加速电极阵列位于电子源下方，包括多个加速电极，用于对电子源出射的电子进行等能量加速；单透镜、物镜处于加速电极下方，将加速后的电子聚焦并以固定缩放比成像至靶面处。本发明专利技术系统中，出射的电子经加速电极加速后，外围电子因具有较大动能，从而能有效减少其在电子光学系统中的飞行时间，从而保证处于不同位置的电子受到空间电荷效应影响一致，保证大视场电子光学系统的低像差性能。像差性能。像差性能。

【技术实现步骤摘要】
一种大视场、低像差电子光学成像系统及成像方法


[0001]本专利技术涉及电子光学领域，具体涉及一种大视场、低像差电子光学成像系统及成像方法。

技术介绍

[0002]电子光学系统是电子光学成像、芯片制造、电子束检测等领域的关键组成，但是，一直以来，电子光学系统因电子束数目少、视场小、像差大等技术瓶颈而限制了其在电子成像、芯片制造、电子束检测等领域的广泛应用，多年来，科学研究人员一直致力于电子光学系统视场和像差的改善。针对单束、小视场电子光学系统，其像差已能达到较好水平，但对于多束、大视场电子光学系统，其成像性能及精度远远达不到其理论衍射极限。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的是解决现有多束、大视场电子光学系统的像差性能无法满足要求的问题，提供一种大视场、低像差电子光学成像系统及成像方法。
[0004]为实现以上专利技术目的，本专利技术的技术方案是：
[0005]一种大视场、低像差电子光学成像系统，包括依次设置的电子源、加速电极阵列、单透镜和物镜；所述电子源用于发出多束电子，多束电子的电位从中心向外依次减小本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种大视场、低像差电子光学成像系统，其特征在于：包括依次设置的电子源(1)、加速电极阵列(2)、单透镜(3)和物镜(4)；所述电子源(1)用于发出多束电子，多束电子的电位从中心向外依次减小，最外侧电子的电位最小，中心电子的电位最大；所述加速电极阵列(2)位于电子源(1)下方，包括多个加速电极，用于对电子源(1)出射的电子进行等能量加速；所述单透镜(3)、物镜(4)处于加速电极下方，将加速后的电子聚焦并以固定缩放比成像至靶面处。2.根据权利要求1所述的大视场、低像差电子光学成像系统，其特征在于：所述电子源(1)的每一束电子对应一个独立的加速电极，使得电子的飞行方向与光轴方向平行。3.根据权利要求1或2所述的大视场、低像差电子光学成像系统，其特征在于：所述电子源(1)为环状电子源，多束电子的电位沿半径方向从内至外渐变，使得最外侧电子的电位最小，中心电子的电位最大。4.根据权利要求1或2所述的大视场、低像差电子光学成像系统，其特征在于：所述电子源(1)为方形电子源或圆孔型电子源，多束电子的电位由内至外渐变，使得最外侧电子的电位最小，中心电子的电位最大。5.一种大视场、低像差电子光学成像系统，其特征在于：包括依次设置的电子源(1)、加速电极阵列(2)、单透镜(3)和物镜(4)；所述电子源(1)用于发出电位相同的多束电子；所述加速电极阵列(2)位于电子源(1)下方，包括多个加速电极，多个加速电极使电子源(1...

【专利技术属性】
技术研发人员：强鹏飞，盛立志，杨向辉，闫永清，刘哲，李林森，周晓红，赵宝升，
申请(专利权)人：中国科学院西安光学精密机械研究所，
类型：发明
国别省市：