显示基板、制造其的方法和包括其的显示装置制造方法及图纸

本申请涉及显示基板、制造其的方法和包括其的显示装置。该显示基板包括：基板；在基板上的第一栅电极；在第一栅电极上的第一栅绝缘层；在第一栅绝缘层上的有源层；在有源层上的第二栅绝缘层；在第二栅绝缘层上的第二栅电极；在第二栅电极上的层间绝缘层；第一电极，该第一电极在层间绝缘层上，以经由通过层间绝缘层、第二栅绝缘层、有源层以及第一栅绝缘层的一部分的第一接触孔接触有源层的顶表面、侧壁和底表面；以及第二电极，该第二电极在层间绝缘层上，以经由通过层间绝缘层、第二栅绝缘层和第一栅绝缘层的第二接触孔接触第一栅电极。和第一栅绝缘层的第二接触孔接触第一栅电极。和第一栅绝缘层的第二接触孔接触第一栅电极。

【技术实现步骤摘要】
显示基板、制造其的方法和包括其的显示装置


[0001]一个或多个实施方式涉及显示基板。更特别地，一个或多个实施方式涉及显示基板、制造显示基板的方法和包括显示基板的显示装置。

技术介绍

[0002]显示装置为配置为显示图像以用于向用户提供视觉信息的装置。显示装置可包括配置为产生光的发光元件以用于显示图像。显示装置还可包括显示基板，该显示基板包括配置为提供电流和电压等以用于驱动发光元件的晶体管。
[0003]在制造显示基板的工艺中，可进行用于在绝缘层中形成导电图案或形成接触孔的光学工艺。因为光学掩膜用于这种光学工艺，并且制造时间和制造成本与形成光学掩膜相关，所以用于显示基板的制造时间和制造成本可随着另外进行光学工艺(例如，除了其他光学工艺之外进行的光学工艺)而增加。

技术实现思路

[0004]实施方式的一个或多个方面涉及其中第一电极和有源层之间的接触电阻减小的显示基板以及包括显示基板的显示装置。
[0005]实施方式的一个或多个方面涉及用于形成第一接触孔和第二接触孔而无需另外的光刻工艺的制造显示基板的方法。
[0006]根据实施方式的显示基板可包括：基板；在基板上的第一栅电极；在基板上以覆盖第一栅电极的第一栅绝缘层；在第一栅绝缘层上的有源层；在第一栅绝缘层上以覆盖有源层的第二栅绝缘层；在第二栅绝缘层上的第二栅电极；在第二栅绝缘层上以覆盖第二栅电极的层间绝缘层；第一电极，该第一电极在层间绝缘层上，以经由通过层间绝缘层、第二栅绝缘层、有源层以及第一栅绝缘层的一部分的第一接触孔接触有源层的顶表面、侧壁和底表面；以及第二电极，该第二电极在层间绝缘层上，以经由通过层间绝缘层、第二栅绝缘层和第一栅绝缘层的第二接触孔接触第一栅电极。
[0007]在一个实施方式中，第二电极可经由第二接触孔接触第一栅电极的顶表面。
[0008]在一个实施方式中，第一接触孔可包括：第一部分，该第一部分形成为通过第二栅绝缘层以暴露有源层的顶表面；第二部分，该第二部分形成为通过有源层以暴露有源层的侧壁；以及第三部分，该第三部分形成为通过第一栅绝缘层的该部分以暴露有源层的底表面。
[0009]在一个实施方式中，第一部分的宽度可大于第二部分的宽度。
[0010]在一个实施方式中，第三部分的宽度可大于第二部分的宽度。
[0011]在一个实施方式中，第一栅绝缘层可包括在基板上以覆盖第一栅电极的第一子绝缘层和在第一子绝缘层上的第二子绝缘层。
[0012]在一个实施方式中，第一栅绝缘层的该部分可包括第二子绝缘层。
[0013]在一个实施方式中，第一子绝缘层可包括氮化硅。
[0014]在一个实施方式中，第二子绝缘层可包括氧化硅。
[0015]在一个实施方式中，有源层可包括多晶硅。
[0016]在一个实施方式中，第二栅绝缘层可包括氧化硅。
[0017]在一个实施方式中，第一栅电极可与第二栅电极重叠，其中有源层插入它们之间。
[0018]在一个实施方式中，层间绝缘层可包括在第二栅绝缘层上以覆盖第二栅电极的第一层间绝缘层和在第一层间绝缘层上的第二层间绝缘层。
[0019]在一个实施方式中，第一层间绝缘层可包括氮化硅。
[0020]在一个实施方式中，显示基板可进一步包括在第一层间绝缘层和第二层间绝缘层之间并与第二栅电极重叠的电容器电极。
[0021]根据实施方式的制造显示基板的方法可包括：在基板上形成第一栅电极；在基板上形成第一栅绝缘层以覆盖第一栅电极；在第一栅绝缘层上形成有源层；在第一栅绝缘层上形成第二栅绝缘层以覆盖有源层；在第二栅绝缘层上形成第二栅电极；在第二栅绝缘层上形成层间绝缘层以覆盖第二栅电极；形成通过层间绝缘层、第二栅绝缘层、有源层以及第一栅绝缘层的一部分的第一接触孔，以暴露有源层的顶表面、侧壁和底表面；形成通过层间绝缘层、第二栅绝缘层和第一栅绝缘层的第二接触孔，以暴露第一栅电极；以及在层间绝缘层上，形成第一电极以填充第一接触孔并且形成第二电极以填充第二接触孔。第一接触孔和第二接触孔可基本上同时(例如，同步)形成。
[0022]在一个实施方式中，第一接触孔和第二接触孔可通过干法蚀刻方案使用一种蚀刻气体(例如，仅一种蚀刻气体)形成。
[0023]在一个实施方式中，第一接触孔和第二接触孔可通过蚀刻气体形成，该蚀刻气体通过将包括CHF3、C4F8、C2HF5、CH2F2和CF4中的至少一种的第一气体与包括SF6和NF3中的至少一种的第二气体混合而获得。
[0024]在一个实施方式中，第一接触孔和第二接触孔可通过使用至少两种不同的蚀刻材料形成。
[0025]在一个实施方式中，第一接触孔的形成可包括：通过蚀刻第二栅绝缘层，形成暴露有源层的顶表面的第一接触孔的第一部分；通过蚀刻有源层，形成暴露有源层的侧壁的第一接触孔的第二部分；以及通过蚀刻第一栅绝缘层的该部分，形成暴露有源层的底表面的第一接触孔的第三部分。用于形成第一部分的第一蚀刻材料可不同于用于形成第二部分的第二蚀刻材料。
[0026]在一个实施方式中，第一蚀刻材料可包括蚀刻气体或包括缓冲氧化物蚀刻剂(BOE)的蚀刻剂，该蚀刻气体通过将包括CHF3、C4F8、C2HF5、CH2F2和CF4中的至少一种的第一气体与包括SF6和NF3中的至少一种的第二气体混合而获得。
[0027]在一个实施方式中，第二蚀刻材料可包括蚀刻气体，该蚀刻气体通过将包括CHF3、C4F8、C2HF5、CH2F2和CF4中的至少一种的第一气体与包括SF6和NF3中的至少一种的第二气体混合而获得。
[0028]在一个实施方式中，用于形成第三部分的第三蚀刻材料可不同于第二蚀刻材料。
[0029]在一个实施方式中，第三蚀刻材料可与第一蚀刻材料相同。
[0030]根据实施方式的显示装置可包括：基板；在基板上的第一栅电极；在基板上以覆盖第一栅电极的第一栅绝缘层；在第一栅绝缘层上的有源层；在第一栅绝缘层上以覆盖有源
层的第二栅绝缘层；在第二栅绝缘层上的第二栅电极；在第二栅绝缘层上以覆盖第二栅电极的层间绝缘层；第一电极，该第一电极在层间绝缘层上，以经由通过层间绝缘层、第二栅绝缘层、有源层以及第一栅绝缘层的一部分的第一接触孔接触有源层的顶表面、侧壁和底表面；第二电极，该第二电极在层间绝缘层上，以经由通过层间绝缘层、第二栅绝缘层和第一栅绝缘层的第二接触孔接触第一栅电极；在层间绝缘层上以覆盖第一电极和第二电极的平坦化层；在平坦化层上的像素电极；与像素电极重叠的对电极；以及在像素电极和对电极之间的发光层。
[0031]在根据实施方式的显示基板和显示装置中，第一电极可通过穿过有源层的第一接触孔接触由第一接触孔暴露的有源层的顶表面、侧壁和底表面，以便第一电极和有源层之间的接触电阻可减小。
[0032]在根据实施方式的制造显示基板的方法中，通过穿过有源层而暴露有源层的顶表面、侧壁和底表面的第一接触孔以及暴露第一栅电极的第二接触孔可基本上同时(例如，基本上同步)形成，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示基板，包括：基板；在所述基板上的第一栅电极；在所述基板上以覆盖所述第一栅电极的第一栅绝缘层；在所述第一栅绝缘层上的有源层；在所述第一栅绝缘层上以覆盖所述有源层的第二栅绝缘层；在所述第二栅绝缘层上的第二栅电极；在所述第二栅绝缘层上以覆盖所述第二栅电极的层间绝缘层；第一电极，所述第一电极在所述层间绝缘层上，以经由通过所述层间绝缘层、所述第二栅绝缘层、所述有源层以及所述第一栅绝缘层的一部分的第一接触孔接触所述有源层的顶表面、侧壁和底表面；以及第二电极，所述第二电极在所述层间绝缘层上，以经由通过所述层间绝缘层、所述第二栅绝缘层和所述第一栅绝缘层的第二接触孔接触所述第一栅电极。2.如权利要求1所述的显示基板，其中所述第二电极经由所述第二接触孔接触所述第一栅电极的顶表面。3.如权利要求1所述的显示基板，其中所述第一接触孔包括：第一部分，所述第一部分形成为通过所述第二栅绝缘层，以暴露所述有源层的所述顶表面；第二部分，所述第二部分形成为通过所述有源层，以暴露所述有源层的所述侧壁；以及第三部分，所述第三部分形成为通过所述第一栅绝缘层的所述部分，以暴露所述有源层的所述底表面。4.如权利要求3所述的显示基板，其中所述第一部分的宽度大于所述第二部分的宽度，并且其中所述第三部分的宽度大于所述第二部分的所述宽度。5.如权利要求1所述的显示基板，其中所述第一栅绝缘层包括：在所述基板上以覆盖所述第一栅电极的第一子绝缘层；以及在所述第一子绝缘层上的第二子绝缘层，并且其中所述第一栅绝缘层的所述部分包括所述第二子绝缘层。6.一种制造显示基板的方法，所述方法包括：在基板上形成第一栅电极；在所述基板上，形成第一栅绝缘层以覆盖所述第一栅电极；在所述第一栅绝缘层上形成有源层；在所述第一栅绝缘层上形成第二栅绝缘层以覆盖所述有源层；在所述第二栅绝缘层上形成第二栅电极；在所述第二栅绝缘层上形成层间绝缘层以覆盖所述第二栅电极；形成通过所述层间绝缘层、所述第二栅绝缘层、所述有源层以及所述第一栅绝缘层的一部分的第一接触孔，以暴露所述有源层的顶表面、侧壁和底表面；形...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵晟原，丁有光，崔大元，金善一，裵水斌，吕伦钟，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：