用于对准透光双折射工件的系统和方法技术方案

一种工件对准系统，具有光发射装置，通过第一偏光装置将光束引导至工件的第一侧。被定位在该工件第二侧的光接收装置通过该工件与该光接收装置之间的第二偏光装置接收该光束。工件支撑架支撑该工件。旋转设备绕着支撑轴选择性支撑与旋转该工件支撑架。控制器基于被该光接收装置接收的光束量而决定该工件的位置。该控制器至少部分基于该工件支撑架的旋转位置以及该光接收装置接收的光束的至少一部分，决定该工件被支撑与旋转时该工件的位置。决定该工件被支撑与旋转时该工件的位置。决定该工件被支撑与旋转时该工件的位置。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于对准透光双折射工件的系统和方法
[0001]相关申请的参考
[0002]本申请主张在2018年8月28日提申的美国申请序号第16/114,745号的权利，该申请标题为《用于对准透光双折射工件的系统和方法》，本文以引用的方式将其完整并入。


[0003]本专利技术大体上关于工件加工系统和用于加工工件的方法，且更明确的说，关于用于处理和对准具有各种透光特性的工件的系统和方法。

技术介绍

[0004]在半导体加工中，可能在单一工件或半导体晶圆上实施众多操作。于众多加工操作中，需要工件的特定方向(orientation)和/或知道工件相对于工件夹具的位置，以便正确加工或处理该工件。举例来说，诸如在运输承载工具或储存卡匣与该加工系统之间交换工件，以及穿过一个或多个装载闭锁室将该些工件从大气环境运输至该加工系统的加工室的真空环境的操作，可能需要工件的特定方向和/或知道工件的空间位置，以达正确工件处理或加工。
[0005]工件的方向(例如，凹口对准)可通过光存在传感器在真空环境或大气环境内实施，由此，光束会从光发射器射出并且引导向该本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种工件对准系统，包括：光发射装置，被配置成沿着路径将一个或多个波长的光束引导至和工件相关联的工件平面的第一侧，且其中，所述路径和所述工件的周围区相关联；第一偏光装置，被设置在所述光发射装置与所述工件平面之间；光接收装置，被定位成沿着所述第一路径，并且被配置成接收所述工件平面的第二侧上的所述光束，其中，所述第二侧和所述第一侧反向；第二偏光装置，被设置在所述工件平面与所述光接收装置之间；工件支撑架，被配置成沿着所述工件平面选择性支撑所述工件；旋转设备，被操作地耦接至所述工件支撑架，并且被配置成绕着支撑轴选择性旋转所述工件支撑架；以及控制器，被配置成以当所述工件和所述路径交叉时，基于穿过所述工件而被所述光接收装置接收的光束量来决定所述工件的位置，其中，所述控制器进一步被配置成决定，当所述工件通过所述工件支撑架被支撑与旋转时，相对于所述支撑轴的所述工件的位置，其中，所述工件的所述位置的所述决定至少部分基于所述工件支撑架的旋转位置，以及和所述工件支撑架的所述旋转位置相关联的被所述光接收装置接收的所述光束的至少一部分。2.根据权利要求1所述的工件对准系统，其中，所述第一偏光装置包括第一圆形偏光滤镜，且其中，所述第二偏光装置包括第二圆形偏光滤镜。3.根据权利要求2所述的工件对准系统，其中，所述第一圆形偏光滤镜包括第一线性偏光滤镜和第一四分之一波片，其中，所述第一线性偏光滤镜被定位在所述第一四分之一波片的+45度处，且其中，所述第一线性偏光滤镜被定位成比所述第一四分之一波片更接近所述光发射装置。4.根据权利要求3所述的工件对准系统，其中，所述第二圆形偏光滤镜包括第二线性偏光滤镜和第二四分之一波片，其中，所述第二线性偏光滤镜被定位在所述第二四分之一波片的+45度处，且其中，所述第二线性偏光滤镜被定位成比所述第二四分之一波片更接近所述光接收装置。5.根据权利要求3所述的工件对准系统，其中，所述第二圆形偏光镜包括补偿器。6.根据权利要求5所述的工件对准系统，其中，所述补偿器包括第二线性偏光滤镜和第二四分之一波片，其中，所述第二线性偏光滤镜被定位在所述第二四分之一波片的+45度处，且其中，所述第二线性偏光滤镜被定位成比所述第二四分之一波片更接近所述光接收装置，且其中，所述第二线性偏光滤镜被配置成基于所述补偿器的输入在正交电场分量之间提供可变相位变化。7.根据权利要求2所述的工件对准系统，其中，所述第二圆形偏光镜包括补偿器，且其中，所述控制器进一步被配置成基于所述补偿器的输入在正交电场分量之间提供可变相位变化。8.根据权利要求7所述的工件对准系统，其中，所述工件包括双折射工件，且其中，所述控制器进一步被配置成选择性控制所述补偿器的电压输入，从而控制所述第二线性偏光滤镜的所述相位变化。9.根据权利要求3所述的工件对准系统，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：尼尔，
申请(专利权)人：艾克塞利斯科技公司，
类型：发明
国别省市：