用于装饰元件的膜的制造方法技术

本公开涉及一种用于装饰元件的膜的制造方法，该方法包括以下步骤：在膜的一个表面上沉积两个以上的岛；以及通过使用岛作为掩模对膜进行干蚀刻来形成图案部。膜进行干蚀刻来形成图案部。膜进行干蚀刻来形成图案部。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于装饰元件的膜的制造方法


[0001]本申请要求2018年8月31日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10
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2018
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0103951号和2018年8月31日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10
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2018
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0103960号的优先权和权益，其全部内容通过引用并入本文。
[0002]本公开涉及一种用于装饰元件的膜的制造方法。

技术介绍

[0003]为了提高产品的价值，在外观设计(颜色、形状等)中需要反映各种客户意见，并增强产品的原始功能。对于诸如化妆品铭牌或移动电话外壳的各种产品，通过附接能够获得各种颜色和纹理的装饰膜来装饰外观。装饰膜的设计要素(颜色、色感、纹理等)由图案层、颜色层、反射层、彩色膜以及印刷层的颜色控制。除了这种方法之外，还可以通过将颜色层图案化来控制装饰膜的设计特性。
[0004]在一般的图案化工艺中，使用掩模来分配在曝光工艺期间曝光的光致抗蚀剂/膜的区域，并且通过随后的蚀刻工艺，光致抗蚀剂/膜被图案化。图案的尺寸、形状等最终由掩本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于装饰元件的膜的制造方法，所述方法包括：在膜的一个表面上沉积两个以上的岛；以及通过使用所述岛作为掩模对所述膜进行干蚀刻来形成图案部。2.根据权利要求1所述的用于装饰元件的膜的制造方法，其中，所述岛的宽度为10nm至1000nm，所述岛的高度为5nm至1000nm。3.根据权利要求1所述的用于装饰元件的膜的制造方法，其中，所述岛的水平截面为800,000nm2以下。4.根据权利要求1所述的用于装饰元件的膜的制造方法，其中，所述岛的垂直截面为800,000nm2以下。5.根据权利要求1所述的用于装饰元件的膜的制造方法，其中，所述岛包含铟(In)。6.根据权利要求1所述的用于装饰元件的膜的制造方法，其中，在所述膜上沉积两个以上的岛是在10℃至100℃的温度条件下进行的。7.根据权利要求1所述的用于装饰元件的膜的制造方法，其中，在所述膜上沉积两个以上的岛使用蒸发方法或溅射方法。8.根据权利要求7所述的用于装饰元件的膜的制造方法，其中，在所述溅射方法中，所述膜与溅射靶之间的最短距离(d1)为200mm以下，并且在所述溅射靶的每单位面积上施加0.1W/cm2至10W/cm2的电力条件下施加电力10秒至1000秒。9.根据权利要求7所述的用于装饰元件的膜的制造方法，其中，在所述溅射方法中，所述膜与溅射靶之间的最短距离(d2)大于200mm，并且在所述溅射靶的每单位面积上施加1W/cm2至10W/cm2的电力条件下施加电力10秒至1200秒。10.根据权利要求7所述的用于装饰元件的膜的制造方法，其中，所述溅射方法使用氩气(Ar)、氦气(H...

【专利技术属性】
技术研发人员：曹弼盛，章盛晧，金起焕，金容赞，许南瑟雅，孙政佑，
申请(专利权)人：株式会社LG化学，
类型：发明
国别省市：