一种亚光改性聚酯及其薄膜的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种亚光改性聚酯及其薄膜的制备方法，采用PTA法原位聚合制备亚光聚酯，酯化反应结束后添加季戊四醇和己二酸乙二醇酯，经预缩聚反应、终缩聚反应制得亚光改性聚酯；经熔融挤出过程制备亚光聚酯厚片，将厚片双向拉伸后制得亚光改性聚酯薄膜。与常规相同配方亚光聚酯薄膜生产过程相比，亚光改性聚酯熔融铸片过程中挤出压力变小。与常规相比，本发明专利技术亚光聚酯厚片的极限拉伸倍率最高提高10％，制备的高亚聚酯薄膜的厚度降低了25％以上，可制备15μm以下的高亚聚酯薄膜。可制备15μm以下的高亚聚酯薄膜。

【技术实现步骤摘要】
一种亚光改性聚酯及其薄膜的制备方法


[0001]本专利技术涉及高分子化工领域，尤其涉及一种亚光改性聚酯的制备方法及其薄膜的制备方法。

技术介绍

[0002]亚光聚酯薄膜可用于热转印、镀铝、印刷、离型等功能薄膜，其外观有朦胧感，一般用于对外观要求较高的领域。亚光薄膜的生产主要有三种方式：一是采用丙烯酸等亚光树脂涂覆在聚酯表面，采用这种方法容易操作，但涂层与聚酯表层的结核性较差，容易造成涂覆均匀性差的问题；二是采用喷砂处理，将聚酯表面进行打磨从而达到亚光效果，但此工艺复杂，仅能用于低档产品；三是在通过原位聚合或共混的方式制备亚光聚酯母粒，采用该聚酯母粒制备亚光薄膜，使用原位法制备的亚光聚酯母粒中添加剂分散均匀，共混法分散性略差。
[0003]无论是原位法或共混法制备的亚光母粒，为达到中高亚光效果，均需要通过适当的配比在薄膜中加入大量的添加剂，而添加剂的存在会使聚酯基体与添加剂间的界面增加，薄膜中弱点增减，在后道拉伸过程中极易产生破膜现象，从而造成亚光薄膜拉伸倍率下降，降低了生产线速度，因此目前亚光薄膜难以稳定生产20μm以下厚度的中高亚光聚本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种亚光改性聚酯的制备方法，其特征在于：采用PTA法原位聚合制备亚光聚酯，酯化反应结束后添加改性组分，经预缩聚反应、终缩聚反应制得，所述改性组分为季戊四醇和己二酸乙二醇酯。2.根据权利要求1所述的一种亚光改性聚酯的制备方法，其特征在于：所述亚光改性聚酯中二氧化硅的含量3.0～5.0％。3.根据权利要求1所述的一种亚光改性聚酯的制备方法，其特征在于：所述季戊四醇在亚光改性聚酯中的含量为0.005～0.100％。4.根据权利要求1所述的一种亚光改性聚酯的制备方法，其特征在于：所述己二酸乙二醇酯在亚光改性聚酯中的含量为1.0～10.0％。5.根据权利要求1所述的一种亚光改性聚...

【专利技术属性】
技术研发人员：王树霞，司虎，戴钧明，王坤，王玉合，
申请(专利权)人：中国石化仪征化纤有限责任公司，
类型：发明
国别省市：