【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】发光装置、照明装置和把持物对关联申请的交叉引用本申请主张日本国专利申请2018-161704号(2018年8月30日申请)和日本国专利申请2018-222335号(2018年11月28日申请)的优先权,在此为了参照而引入该申请的全部公开。
本专利技术涉及发光装置、照明装置和把持物。
技术介绍
历来,可知照明装置具备:半导体发光元件,其放出具有杀菌、净化效果的紫外线;和荧光体,其吸收半导体发光元件放出的紫外线,放出比紫外线具有更长波长的二次光(例如,参照专利文献1)。既要求难以对使用者造成影响,又要求实现抗菌效果。在先技术文献专利文献专利文献1:日本特开平11-87770号公报
技术实现思路
本专利技术的一个实施方式的发光装置具备发光元件、和波长转换构件。所述发光元件射出在360nm以上且430nm以下的波长区域具有峰值波长的光谱所特定的光。所述波长转换构件将所述发光元件射出的光的至少一部分,转换成在360nm以上且780nm以下的波长区域具有峰值波长的光谱所特定的光 ...
【技术保护点】
1.一种发光装置,其具备:/n发光元件,所述发光元件射出由在360nm以上且430nm以下的波长区域具有峰值波长的光谱所特定的光;/n波长转换构件,所述波长转换构件将所述发光元件射出的光的至少一部分转换成由在360nm以上且780nm以下的波长区域具有峰值波长的光谱所特定的光,/n所述发光装置射出所述发光元件所射出的光之中未被所述波长转换构件转换的光和被所述波长转换构件转换的光合并在一起的照明光,/n在所述照明光中,具有包含在360nm以上且430nm以下的波长区域的波长的光的能量的合计,相对于具有包含在360nm以上且780nm以下的波长区域的波长的光的能量的合计,为3% ...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180830 JP 2018-161704;20181128 JP 2018-2223351.一种发光装置,其具备:
发光元件,所述发光元件射出由在360nm以上且430nm以下的波长区域具有峰值波长的光谱所特定的光;
波长转换构件,所述波长转换构件将所述发光元件射出的光的至少一部分转换成由在360nm以上且780nm以下的波长区域具有峰值波长的光谱所特定的光,
所述发光装置射出所述发光元件所射出的光之中未被所述波长转换构件转换的光和被所述波长转换构件转换的光合并在一起的照明光,
在所述照明光中,具有包含在360nm以上且430nm以下的波长区域的波长的光的能量的合计,相对于具有包含在360nm以上且780nm以下的波长区域的波长的光的能量的合计,为3%以上且18%以下。
2.根据权利要求1所述的发光装置,其中,所述照明光由在400nm以上且410nm以下的波长区域具有峰值波长的光谱特定。
3.根据权利要求1或2所述的发光装置,其中,在所述照明光中,具有包含在430nm以上且500nm以下的波长区域的波长的光的能量的合计,相对于具有包含在360nm以上且780nm以下的波长区域的波长的光的能量的合计,为5%以上且30%以下。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的发光装置,其中,在所述照明光中,在360nm以上且430nm以下的波长区域具有峰值波长的光谱的半峰宽为8nm以上且24nm以下。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的发光装置,其中,在所述照明光中,具有包含在低于360nm的波长区域的波长的光的能量的合计是具有包含在360以上且780nm以下的波长区域的波长的光的能量的合计的2%以下。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的发光装置,其中,在所述照明光中,在430nm以上且500nm以下的波长区域具有峰值波长的光谱的半峰宽是25nm以上且60nm以下。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的发光装置,其中,在所述照明光中,具有包含在360nm以上且430nm以下的波长区域的波长的光的强度,每1小时为0.003J/cm2以上且18J/cm2以下。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的发光装置,其中,在所述照明光中,具有包含在360nm以上且400nm以下的波长区域的波长的光的辐照度低于10W·m-2。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的发光装置,其中,在所述照明光中,具有包含在360nm以上且430nm以下的波长区域的波长的光的辐照度为33W·m-2以下。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的发光装置,其中,在所述照明光中,具有包含在430nm以上且500nm以下的波长区域的波长的光的辐亮度低于100W·sr-1·m-2。
11.一种照明装置,其具备多个发光装置,其中,
所述多个发光装置分别具备发光元件和波长转换构件,
所述发光元件射出由在360nm以上且430nm以下的波长区域具有峰值波长的光谱所特定的光,
所述波长转换构件将所述发光元件射出的光的至少一部分转换成由...
【专利技术属性】
技术研发人员:加藤秀崇,草野民男,池田晃平,木村贵幸,安藤嘉基,二塚健,
申请(专利权)人:京瓷株式会社,
类型:发明
国别省市:日本;JP
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