【技术实现步骤摘要】
一种硅片湿化学处理工艺
本专利技术涉及一种硅片湿化学处理工艺。
技术介绍
随着太阳能光伏行业的发展，晶体硅电池发展的趋势是低成本、高效率、大产量，晶体硅电池的制备需要经过各种工艺设备加工而成，在对硅片表面进行湿化学处理，使用各种化学溶液或纯水对硅片表面进行处理后，需要对硅片表面和载具进行烘干。硅片放置在载具上，当对载具和硅片进行烘干时，载具的底部会聚集大颗粒水滴，需要长时间和高温蒸发掉载具上的聚集水滴，现有的硅片清洗设备中设置的烘干装置不能对载具的底部溶液进行有效去除/需要很长时间才可以去除，当工艺完成后，操作人员或自动化设备从设备上取下载具时，会存在翻转，载具位置有残留溶液的部位，水珠会溅落，存留的溶液易接触到硅片，影响加工效果，对一下道工艺的加工质量造成影响、同时残留的化学品对人类和环境都具有危害性。为解决上述问题，能够提供一种硅片湿化学处理工艺是很有必要的。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种硅片湿化学处理工艺。为了解决上述技术问题，本专利技术提供了一种硅片湿化学处理工艺，通过...
【技术保护点】
1.一种硅片湿化学处理工艺，通过载具承载硅片以用于处理硅片，其特征在于，硅片湿化学处理设备包括硅片烘干槽，所述硅片烘干槽包括槽本体和设置在所述槽本体内的吸湿装置，所述吸湿装置适于汲取载具的架杆、侧板上以及硅片底部的液体，/n在对载具进行湿化学处理之后，采用如下除湿方法：/nS1,将带有硅片的载具承载到槽本体内并通过吸湿装置吸取载具的架杆、侧板上以及硅片底部的液体。/n
【技术特征摘要】
1.一种硅片湿化学处理工艺，通过载具承载硅片以用于处理硅片，其特征在于，硅片湿化学处理设备包括硅片烘干槽，所述硅片烘干槽包括槽本体和设置在所述槽本体内的吸湿装置，所述吸湿装置适于汲取载具的架杆、侧板上以及硅片底部的液体，
在对载具进行湿化学处理之后，采用如下除湿方法：
S1,将带有硅片的载具承载到槽本体内并通过吸湿装置吸取载具的架杆、侧板上以及硅片底部的液体。
2.如权利要求1所述的硅片湿化学处理工艺，其特征在于，
所述吸湿装置包括放置在所述槽本体内的吸水海绵；
作为步骤S1的替换步骤S1b，带有硅片的载具被放置至与吸水海绵接触以汲取载具的架杆、侧板上以及硅片底部的液体。
3.如权利要求2所述的硅片湿化学处理工艺，其特征在于，
所述槽本体的侧壁和/或底部具有风道装置；
在步骤S1b中，所述风道装置被打开。
4.如权利要求2或3所述的硅片湿化学处理工艺，其特征在于，
所述槽本体的侧壁具有喷淋管，所述喷淋管的喷淋口朝向所述吸水海绵；
在步骤S1b之前具有步骤S1a，打开喷淋管喷水以使吸水海绵处于保湿状态。
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【专利技术属性】
技术研发人员：左国军，余兴梅，汤和平，丁力，万红朝，
申请(专利权)人：常州捷佳创精密机械有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32
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