平板发射体及X射线管制造技术

技术编号:28042744 阅读:29 留言:0更新日期:2021-04-09 23:26
本申请涉及一种X射线管的平板发射体。X射线管的平板发射体,包括相对的第一表面和第二表面,平板发射体的材料包括钨铼合金材料,钨铼合金材料中的铼金属含量沿第一方向增大,从第一表面指向第二表面的方向为所述第一方向。平板发射体使用钨铼合金材料。钨铼合金材料具有高熔点、高硬度、高塑性、高的再结晶温度(2500℃以上)的特性,钨铼合金材料使钨的延脆转变温度下降到室温或室温以下。钨铼合金材料的再结晶温度很高,在受到热冲击时,不易发生热变形或裂纹,进而提高了平板发射体的使用寿命。

【技术实现步骤摘要】
平板发射体及X射线管
本申请涉及医疗
,特别是涉及一种平板发射体及X射线管。
技术介绍
X射线管中的平板发射体一般为难熔金属钨。当平板发射体的两端施加电压时,平板发射体因本身具有阻抗性,导致发热。当平板发射体的温度达到多少时,金属钨的发射电子。钨的延脆转变温度为150℃-450℃,钨材料经高温使用发生再结晶以后就变得很脆,在受热冲击或震动的情况下极易发射变形或断裂。因此,平板发射体的抗热振性较差,影响平板发射体的使用寿命。而且纯钨的电阻率低,发射体的电阻值较低,需要通入较大电流才能使发射体温度升高到电子发射温度,会使发射体连接杆的热变形较大,降低发射体工作稳定性。
技术实现思路
基于此,有必要针对怎样才能提高平板发射体的使用寿命的问题,提供一种X射线管的平板发射体及X射线管。一种X射线管的平板发射体,包括相对的第一表面和第二表面,所述平板发射体包括钨铼合金材料,所述钨铼合金材料中的铼金属含量沿第一方向增大,从所述第一表面指向所述第二表面的方向为所述第一方向。在一个实施例中,所述平板发射体中的铼金属含量沿本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种X射线管的平板发射体,其特征在于,包括相对的第一表面和第二表面,所述平板发射体包括钨铼合金材料,所述钨铼合金材料中的铼金属含量沿第一方向增大,其中,从所述第一表面指向所述第二表面的方向为所述第一方向。/n

【技术特征摘要】
1.一种X射线管的平板发射体,其特征在于,包括相对的第一表面和第二表面,所述平板发射体包括钨铼合金材料,所述钨铼合金材料中的铼金属含量沿第一方向增大,其中,从所述第一表面指向所述第二表面的方向为所述第一方向。


2.如权利要求1所述的X射线管的平板发射体,其特征在于,所述平板发射体中的铼金属含量沿所述第一方向阶梯分布。


3.如权利要求2所述的X射线管的平板发射体,其特征在于,包括:
发射层,所述发射层具有所述第一表面;
电阻层,设置于所述发射层背离所述第一表面的表面,所述电阻层具有所述第二表面,所述发射层中铼金属含量小于所述电阻层中铼金属含量。


4.如权利要求3所述的X射线管的平板发射体,其特征在于,还包括:
第一过渡层,设置于所述发射层与所述电阻层之间,所述第一过渡层中铼金属含量大于所述发射层中铼金属含量,且所述第一过渡层中铼金属含量小于所述电阻层中铼金属含量。


5.如权利要求4所述的X射线管的平板发射体,其特征在于,所述第一过渡层中铼金属含量与所述发射层中铼金属含量差值在10%至30%之间。

【专利技术属性】
技术研发人员:马新星张曦
申请(专利权)人:武汉联影医疗科技有限公司
类型:发明
国别省市:湖北;42

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