一种光掩膜图形位置的检测装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种光掩膜图形位置的检测装置，包括第一主体和第二主体，所述第二主体的底部固定连接有底座，所述底座的顶部固定连接有第一固定块，所述第一固定块的内部开设有通槽，所述通槽的另一端活动套接有丝杆，所述丝杆的外表面活动连接有滑块，所述丝杆的另一端活动连接有转动杆；通过设计的第一把手、转动杆、丝杆、滑块、第一活动杆和活动板，便于该装置在使用时，可以通过第一把手带动转动杆转动，然后转动杆通过丝杆、滑块、第一活动杆带动活动板运动，从而便于装置移动，且可以自由收纳滚轮，解决了装置移动不便和滚轮不便收纳的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种光掩膜图形位置的检测装置
本技术属于光掩膜
，具体涉及一种光掩膜图形位置的检测装置。
技术介绍
在半导体制造的整个流程中，其中一部分就是从版图到晶圆制造中间的一个过程，即光掩膜或称光罩制造，光掩模在使用前需要经过一定的工序，其中，包括用检测装置来检测光掩膜图形位置，然而市面上出现的检测装置仍存在各种各样的不足，不能够满足生产的需求。现有的检测装置在使用过程中，由于装置体积大，移动不便且在移动过程中需要耗费较大的人力和物力，从而降低了工作效率，继而降低了装置实用性的问题，为此我们提出一种光掩膜图形位置的检测装置。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种光掩膜图形位置的检测装置，以解决上述
技术介绍
中提出现有的检测装置在使用过程中，由于装置体积大，移动不便且在移动过程中需要耗费较大的人力和物力，从而降低了工作效率，继而降低了装置实用性的问题。为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种光掩膜图形位置的检测装置，包括第一主体和第二主体，所述第二主体的底部固定连接有底座，所述底座的顶部固定连接有第一固定块，所述第本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光掩膜图形位置的检测装置，包括第一主体（1）和第二主体（2），其特征在于：所述第二主体（2）的底部固定连接有底座（6），所述底座（6）的顶部固定连接有第一固定块（12），所述第一固定块（12）的内部开设有通槽（13），所述通槽（13）的另一端活动套接有丝杆（17），所述丝杆（17）的外表面活动连接有滑块（14），所述丝杆（17）的另一端活动连接有转动杆（19），所述转动杆（19）的另一端活动连接有第一把手（18），所述滑块（14）的前表面活动连接有第二销轴（15），所述第二销轴（15）的后表面活动连接有第一活动杆（16），所述第一活动杆（16）的底部活动连接有第一销轴（8），所述第一销...

【技术特征摘要】
1.一种光掩膜图形位置的检测装置，包括第一主体（1）和第二主体（2），其特征在于：所述第二主体（2）的底部固定连接有底座（6），所述底座（6）的顶部固定连接有第一固定块（12），所述第一固定块（12）的内部开设有通槽（13），所述通槽（13）的另一端活动套接有丝杆（17），所述丝杆（17）的外表面活动连接有滑块（14），所述丝杆（17）的另一端活动连接有转动杆（19），所述转动杆（19）的另一端活动连接有第一把手（18），所述滑块（14）的前表面活动连接有第二销轴（15），所述第二销轴（15）的后表面活动连接有第一活动杆（16），所述第一活动杆（16）的底部活动连接有第一销轴（8），所述第一销轴（8）的后表面活动连接有第一连接块（7），所述第一连接块（7）的底部固定连接有活动板（9），所述活动板（9）的底部活动连接有螺栓（10），所述螺栓（10）的外表面活动连接有第一弹簧（11），所述活动板（9）的底部固定连接有连接杆（20），所述连接杆（20）的底部活动连接有滚轮（21）。


2.根据权利要求1所述的一种光掩膜图形位置的检测装置，其特征在于：所述第二主体（2）的前表面活动连接有放置箱（4），所述放置箱（4）的另一端活动套接有连接板（3），所述连接板（3）的另一端活动连接有第三连接块（30），所述放置箱（4）的一端内部固定连接有第二固定块（22），所述第二固定块（22）的另一端活动连接有第二弹簧（23），所述连接板（3）的内部开设有放置槽（2...

【专利技术属性】
技术研发人员：校微娜，
申请(专利权)人：上海禾本电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：上海;31