【技术实现步骤摘要】
真空灭弧室的外壳及真空灭弧室
本专利技术涉及真空灭弧室的外壳及真空灭弧室。
技术介绍
随着电力工业的不断发展及社会对环保要求的提高,真空灭弧室正在向高电压的输配电方向发展,应用真空灭弧室的开关设备也在向着高电压、小型化方向发展。真空灭弧室的体积对开关设备的整体体积来说是重要因素,因此,真空灭弧室的高电压、小型化是开关设备小型化的基础。然而,随着电压等级的提高,对真空灭弧室产品内部绝缘性能的要求也越来越高。现有的真空灭弧室如公开号为CN208548315U的中国专利文献中公开的一种真空灭弧室,包括中空的外壳,外壳的轴向两端设有静触头组件和动触头组件,外壳内于轴向中部设有屏蔽筒。其中静触头组件包括静导电杆和静触头,动触头组件包括动导电杆、波纹管以及动触头,动导电杆导向设置在导向套中;外壳为相互拼接的两段式结构,两段外壳之间通过中封环固定连接;屏蔽筒形成主屏蔽罩,用于包围在动触头和静触头的结合处的外侧,其外周面上设有环形限位凸起(即上述专利文献中的限位裙边),用于固定到中封环上,用于起到均衡电场的作用。但是,动静触 ...
【技术保护点】
1.真空灭弧室的外壳(10),用于围成真空腔室;其特征在于,/n所述外壳(10)包括:/n外壳主体(11),所述外壳主体(11)为筒状结构,由陶瓷材质制成;/n陶瓷屏蔽筒(12),设置在外壳主体(11)的内部,其轴向中部为主体连接部分(13),主体连接部分(13)与外壳主体(11)连为一体;/n陶瓷屏蔽筒(12)还包括端部部分(14),端部部分(14)位于主体连接部分(13)的轴向两侧,所述端部部分(14)的外周面与外壳主体(11)的内壁面之间具有间隔(20);/n所述陶瓷屏蔽筒(12)位于外壳主体(11)的轴向中部,用于在使用时包围在动触头(45)和静触头(34)的结合处的外侧。/n
【技术特征摘要】
1.真空灭弧室的外壳(10),用于围成真空腔室;其特征在于,
所述外壳(10)包括:
外壳主体(11),所述外壳主体(11)为筒状结构,由陶瓷材质制成;
陶瓷屏蔽筒(12),设置在外壳主体(11)的内部,其轴向中部为主体连接部分(13),主体连接部分(13)与外壳主体(11)连为一体;
陶瓷屏蔽筒(12)还包括端部部分(14),端部部分(14)位于主体连接部分(13)的轴向两侧,所述端部部分(14)的外周面与外壳主体(11)的内壁面之间具有间隔(20);
所述陶瓷屏蔽筒(12)位于外壳主体(11)的轴向中部,用于在使用时包围在动触头(45)和静触头(34)的结合处的外侧。
2.根据权利要求1所述的真空灭弧室的外壳(10),其特征在于,所述陶瓷屏蔽筒(12)与外壳主体(11)的连接部分在间隔(20)的内端形成半圆弧形底部(21)。
3.根据权利要求1或2所述的真空灭弧室的外壳(10),其特征在于,在外壳(10)的轴向上,所述陶瓷屏蔽筒(12)与外壳主体(11)之间相连部分的尺寸大于陶瓷屏蔽筒(12)整体尺寸的1/3。
4.根据权利要求1或2所述的真空灭弧室的外壳(10),其特征在于,所述陶瓷屏蔽筒(12)的内壁面在陶瓷屏蔽筒(12)轴向上为平直壁面。
5.根据权利要求1或2所述的真空灭弧室的外壳(10),其特征在于,所述陶瓷屏蔽筒(12)的内壁面与端面之间设有倒角,并且/或者,所述陶瓷屏蔽筒(12)的外周面与端面之间设有倒角。<...
【专利技术属性】
技术研发人员:李小钊,赵芳帅,刘世柏,薛从军,李锟,刘心悦,亓春伟,齐大翠,王宇浩,刘畅,姚新伟,李仁峰,刘晶晶,郑乐乐,海竣超,李相兵,苏文豪,郭润涛,白丽娜,孙宇,陈高攀,霍然,汪宁,王茜,
申请(专利权)人:天津平高智能电气有限公司,平高集团有限公司,国家电网有限公司,
类型:发明
国别省市:天津;12
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