真空灭弧室的主屏蔽罩及真空灭弧室制造技术

本发明专利技术涉及真空灭弧室的主屏蔽罩及真空灭弧室。真空灭弧室，包括：外壳，外壳设有两段，两段外壳沿真空灭弧室轴向对接；主屏蔽罩，用于包围在动触头和静触头的结合处的外侧；金属中封环，焊接固定在两段外壳之间，供主屏蔽罩焊接固定；所述主屏蔽罩为陶瓷材质；主屏蔽罩的外周面上设有金属化层；所述金属化层环绕主屏蔽罩的外周面设置，形成中封环连接部位，用于与真空灭弧室的两段外壳之间的金属中封环焊接固定以实现主屏蔽罩的固定。上述方案能够解决现有技术中的真空灭弧室绝缘性能受金属蒸气影响大而不利于小型化的问题。

【技术实现步骤摘要】
真空灭弧室的主屏蔽罩及真空灭弧室
本专利技术涉及真空灭弧室的主屏蔽罩及真空灭弧室。
技术介绍
随着电力工业的不断发展及社会对环保要求的提高，真空灭弧室正在向高电压的输配电方向发展，应用真空灭弧室的开关设备也在向着高电压、小型化方向发展。真空灭弧室的体积对开关设备的整体体积来说是重要因素，因此，真空灭弧室的高电压、小型化是开关设备小型化的基础。然而，随着电压等级的提高，对真空灭弧室产品内部绝缘性能的要求也越来越高。现有的真空灭弧室如公开号为CN208548315U的中国专利文献中公开的一种真空灭弧室，包括中空的外壳，外壳的轴向两端设有静触头组件和动触头组件，外壳内于轴向中部设有屏蔽筒。其中静触头组件包括静导电杆和静触头，动触头组件包括动导电杆、波纹管以及动触头，动导电杆导向设置在导向套中；外壳为相互拼接的两段式结构，两段外壳之间通过中封环固定连接；屏蔽筒形成主屏蔽罩，用于包围在动触头和静触头的结合处的外侧，其外周面上设有环形限位凸起（即上述专利文献中的限位裙边），用于固定到中封环上，用于起到均衡电场的作用。但是，动静触头分合闸时会本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.真空灭弧室的主屏蔽罩（50），用于包围在动触头（45）和静触头（34）的结合处的外侧；/n其特征在于，所述主屏蔽罩（50）为陶瓷材质；/n主屏蔽罩（50）的外周面上设有金属化层；/n所述金属化层环绕主屏蔽罩（50）的外周面设置，形成中封环连接部位，用于与真空灭弧室的两段外壳（10）之间的金属中封环（20）焊接固定以实现主屏蔽罩（50）的固定。/n

【技术特征摘要】
1.真空灭弧室的主屏蔽罩（50），用于包围在动触头（45）和静触头（34）的结合处的外侧；
其特征在于，所述主屏蔽罩（50）为陶瓷材质；
主屏蔽罩（50）的外周面上设有金属化层；
所述金属化层环绕主屏蔽罩（50）的外周面设置，形成中封环连接部位，用于与真空灭弧室的两段外壳（10）之间的金属中封环（20）焊接固定以实现主屏蔽罩（50）的固定。


2.根据权利要求1所述的主屏蔽罩（50），其特征在于，所述主屏蔽罩（50）的外周面上设有环形凸起（52），环形凸起（52）的表面设有所述金属化层。


3.根据权利要求1或2所述的主屏蔽罩（50），其特征在于，所述主屏蔽罩（50）的内壁面在主屏蔽罩（50）轴向上为平直壁面。


4.根据权利要求1或2所述的主屏蔽罩（50），其特征在于，所述主屏蔽罩（50）的内壁面与端面之间设有倒角（51），并且/或者，所述主屏蔽罩（50）的外周面与端面之间设有倒角（51）。


5.真空灭弧室，包括：
外壳（10），外壳（10）设有两段，两段外壳（10）沿真空灭弧室轴向对接；
主屏蔽罩（50），用于包围在动触头（45）和静触头（34）的结合处的外侧；
金属中封环（20），焊接固定在两段外壳（10）之间，供主屏蔽罩（50）焊接固定；
其特征在于，所述主屏蔽罩（50）为陶瓷材质；
主屏蔽罩...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘世柏，李小钊，赵芳帅，薛从军，李锟，刘心悦，亓春伟，齐大翠，王宇浩，刘畅，姚新伟，李仁峰，刘晶晶，郑乐乐，海竣超，李相兵，苏文豪，郭润涛，白丽娜，孙宇，陈高攀，霍然，姚锋娟，齐婵，焦淑敏，
申请(专利权)人：天津平高智能电气有限公司，平高集团有限公司，国家电网有限公司，
类型：发明
国别省市：天津;12