一种粗磨液及其制备方法技术

本发明专利技术提供了一种粗磨液及其制备方法，包括以下质量百分数的组分：碳化硼粉末30％‑40％、悬浮防沉剂0.3％‑0.8％、分散稳定剂1％‑5％、pH调节剂1％‑10％、润湿剂1％‑5％、螯合剂1％‑4％，溶剂为去离子水；所述悬浮防沉剂包括硅酸镁锂和/或硅酸镁钠；粒径小于150μm的碳化硼粉末含量占碳化硼粉末总量的50％，粒径大于150μm的碳化硼粉末含量占碳化硼粉末总量的50％，其中，粒径小于40μm的碳化硼粉末含量占碳化硼粉末总量的3％。本发明专利技术中所述粗磨液，对氧化锆陶瓷的切削速率达到1c/min，表面粗糙度为15.35nm左右，所述粗磨液具有使用寿命长、制备方法简单和成本低廉的优势。

【技术实现步骤摘要】
一种粗磨液及其制备方法
本专利技术涉及粗磨液
，具体涉及一种粗磨液及其制备方法。
技术介绍
氧化锆陶瓷，分子式为ZrO2，硬度极高(莫氏硬度8.3～8.6)，并且耐高温、耐磨损、抗腐蚀、且无信号屏蔽，广泛应用于手机等3C电子领域。目前，氧化锆陶瓷加工成本较高，尤其是在粗磨段。目前行业内对氧化锆陶瓷粗磨大多使用磨床配合冷却液或者研磨垫配合棕刚玉磨料和冷却液，但磨床加工的产品振纹多，造成产品表面粗糙度Ra值高；研磨垫配合棕刚玉磨料使用，对研磨垫的损耗高，缩短研磨垫使用寿命，造成加工成本高。综上所述，急需一种粗磨液及其制备方法以解决现有抛光技术抛光氧化锆陶瓷产品存在的表面粗糙度Ra值高、加工成本高的问题。
技术实现思路
本专利技术第一目的在于提供一种粗磨液，具体技术方案如下：一种粗磨液，包括以下质量百分数的组分：碳化硼粉末30％-40％、悬浮防沉剂0.3％-0.8％、分散稳定剂1％-5％、pH调节剂1％-10％、润湿剂1％-5％、螯合剂1％-4％，溶剂为去离子水；所述悬浮防沉剂包括硅酸镁锂和/或硅酸镁钠。...

【技术保护点】
1.一种粗磨液，其特征在于，包括以下质量百分数的组分：碳化硼粉末30％-40％、悬浮防沉剂0.3％-0.8％、分散稳定剂1％-5％、pH调节剂1％-10％、润湿剂1％-5％、螯合剂1％-4％，溶剂为去离子水；所述悬浮防沉剂包括硅酸镁锂和/或硅酸镁钠。/n

【技术特征摘要】
1.一种粗磨液，其特征在于，包括以下质量百分数的组分：碳化硼粉末30％-40％、悬浮防沉剂0.3％-0.8％、分散稳定剂1％-5％、pH调节剂1％-10％、润湿剂1％-5％、螯合剂1％-4％，溶剂为去离子水；所述悬浮防沉剂包括硅酸镁锂和/或硅酸镁钠。


2.根据权利要求1所述的粗磨液，其特征在于，所述碳化硼粉末粒径小于150μm的碳化硼粉末含量占碳化硼粉末总量的50％，粒径大于150μm的碳化硼粉末含量占碳化硼粉末总量的50％，其中，所述碳化硼粉末粒径小于40μm的碳化硼粉末含量占碳化硼粉末总量的3％。


3.根据权利要求1所述的粗磨液，其特征在于，所述分散稳定剂包括气相二氧化硅、聚丙烯酸钠、六偏磷酸钠、乙二胺四乙酸四钠、聚乙二醇400、聚乙二醇200的一种或多种。


4.根据权利要求1所述的粗磨液，其特征在于，所述pH调节剂包括二乙醇胺、三乙醇胺、氢氧化钾、氢氧化钠和四甲基氢氧化铵的一种或多种。


5.根据权利要求1所述的粗磨液，其特征在于，所述润湿剂包括丙二醇、丙三醇、二甲基亚砜的一种或多种。


6.根据权利要求1所述的粗磨液，其特征在于，所述螯合剂包括乙二胺、乙二胺四乙酸和葡萄糖酸钠的一种或多种。

【专利技术属性】
技术研发人员：徐静，
申请(专利权)人：长沙蓝思新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：湖南;43