移转设备及移转方法技术

本发明专利技术提供一种将设置到移转基板的芯片移转到被移转基板的移转设备以及移转方法。所述移转设备包括：第一载台，支撑所述被移转基板；第二载台，支撑所述移转基板，使得所述移转基板面对所述被移转基板并与所述被移转基板间隔开；激光辐照单元，其至少一部分在所述移转基板及所述被移转基板彼此面对的方向上与所述第二载台间隔开，以使激光束辐照到所述移转基板；以及移动单元，支撑所述激光辐照单元，并在使所述激光束辐照的状态下移动所述激光辐照单元。

【技术实现步骤摘要】
移转设备及移转方法
本专利技术涉及一种移转设备及移转方法，且更具体来说，涉及一种能够通过使芯片掉落在准确位置处来改善移转工艺的精度的移转设备及移转方法。
技术介绍
一般来说，微型发光二极管(lightemittingdiode，LED)代表其中一个侧边的尺寸等于或小于100μm的LED。由于微型LED具有小的尺寸，因此微型LED具有比普通LED更小的热产生量及功率消耗量以及比普通LED大的能量效率。为了将微型LED应用于显示装置，已使用了将其中形成有微型LED的芯片移转到用于显示面板的基板的每一像素的技术。移转是通过用激光束辐照在晶片上形成的芯片以使芯片掉落而将芯片移转到晶片下方的玻璃的工艺。然而，晶片与玻璃之间的对齐是复杂的过程。因此，当执行移转工艺时，晶片与玻璃之间的对齐可能会扭曲。因此，芯片可能被移转到错误的位置，从而引起缺陷。[专利文献](专利文献1)KR10-2019-0079147A
技术实现思路
本专利技术提供一种能够通过使芯片掉落在准确位置处来改善移转工艺的精度的移转设备及移转方法。本专利技术还提供一种能够通过单独驱动用于支撑待移转基板的载台及用于支撑移转基板的载台来缩短工艺时间的移转设备及移转方法。根据示例性实施例，一种将设置到移转基板的芯片移转到待移转基板(在下文中，称为被移转基板)的移转设备包括：第一载台，被配置成支撑所述被移转基板；第二载台，被配置成支撑所述移转基板，使得所述移转基板面对所述被移转基板并与所述被移转基板间隔开；激光辐照单元，其至少一部分在所述移转基板及所述被移转基板彼此面对的方向上与所述第二载台间隔开，以使激光束辐照到所述移转基板；以及移动单元，被配置成支撑所述激光辐照单元，并在使所述激光束辐照的状态下移动所述激光辐照单元。在示例性实施例中，所述移动单元可包括：路径构件，在与所述移转基板及所述被移转基板彼此面对的所述方向交叉的方向上延伸；以及移动构件，连接到所述激光辐照单元并被安装成能够沿着所述路径构件的延伸方向线性移动。在示例性实施例中，所述移转设备可还包括：第一驱动单元，被配置成支撑所述第一载台，从而在多个方向上移动所述第一载台；以及第二驱动单元，被配置成支撑所述第二载台，从而独立于所述第一载台在多个方向上移动所述第二载台。在示例性实施例中，所述激光辐照单元可包括：激光产生器，被配置成产生激光束；角度调整器，设置在所述激光产生器与所述第二载台之间，以调整所述激光束的辐照方向；形状调整器，设置在所述激光产生器与所述角度调整器之间，以调整辐照到所述移转基板的所述激光束的形状；以及壳体，被配置成支撑所述激光产生器、所述角度调整器及所述形状调整器，且能够通过所述移动单元移动。在示例性实施例中，所述形状调整器可包括：掩模构件，具有多个图案孔；以及选择构件，被配置成支撑所述掩模构件并在多个方向上移动所述掩模构件，以在所述多个图案孔中选择使所述激光束从中穿过的图案孔。在示例性实施例中，所述掩模构件可还设置有对齐孔，且所述移转设备可还包括：拍摄单元，被配置成拍摄穿过所述对齐孔的所述激光束的形状及位置，所述形状及所述位置被辐照到所述移转基板及所述被移转基板中的至少一者；以及对齐单元，与所述拍摄单元连接，以根据穿过所述对齐孔的所述激光束的被辐照的所述形状及所述位置来调整所述移转基板及所述被移转基板中的每一者的对齐状态。在示例性实施例中，所述第二载台可被移入及移出所述激光辐照单元与所述第一载台之间的空间，且所述对齐单元可调整所述被移转基板的所述对齐状态，然后调整所述移转基板的所述对齐状态。在示例性实施例中，所述被移转基板的面积可大于所述移转基板的面积，且穿过所述对齐孔的所述激光束的一部分可辐照到所述移转基板，且所述激光束的另一部分透过所述第二载台可辐照到所述被移转基板。根据另一示例性实施例，一种移转方法包括：通过第一载台支撑被移转基板；通过第二载台支撑设置有芯片的移转基板，并将所述移转基板布置成面对所述被移转基板；在移动被配置成辐照出激光束的激光辐照单元的同时，使所述激光束辐照到所述移转基板；以及通过使用所述激光束使设置到所述移转基板的所述芯片掉落而将所述芯片移转到所述被移转基板。在示例性实施例中，所述芯片可设置成多个，且多个芯片可以阵列类型布置。所述在移动所述激光辐照单元的同时使所述激光束辐照可包括：产生激光束；以及沿着一个方向线性移动所述激光辐照单元。在示例性实施例中，线性移动所述激光辐照单元可包括使所述激光束适当地辐照到所述移转基板，直至在所述一个方向上移动的所述激光束到达在所述一个方向上彼此间隔开的所述芯片中的每一者的时间。在示例性实施例中，通过所述第一载台支撑所述被移转基板可包括：使对齐激光辐照到所述被移转基板；以及根据所述对齐激光的辐照形状及辐照位置中的至少一者，通过移动所述第一载台来调整所述被移转基板的对齐状态。通过所述第二载台支撑附着有所述芯片的所述移转基板可包括：使所述对齐激光辐照到附着有所述芯片的所述移转基板；以及根据所述对齐激光的所述辐照形状及所述辐照位置中的至少一者，通过移动所述第二载台来调整所述移转基板的对齐状态。在示例性实施例中，根据所述对齐激光的所述辐照形状及所述辐照位置来调整所述对齐状态可包括调整所述移转基板或所述被移转基板的水平对齐状态。在示例性实施例中，在所述移转基板及所述被移转基板中可形成有标记，且根据所述对齐激光的所述辐照形状及所述辐照位置来调整所述对齐状态可包括调整所述移转基板或所述被移转基板的平面对齐状态，使得所述标记设置在与所述对齐激光的所述辐照位置对应的位置处。在示例性实施例中，所述通过所述第二载台支撑设置有所述芯片的所述移转基板可包括将所述第二载台移动成设置在所述激光辐照单元与所述第一载台之间，且调整所述被移转基板的所述对齐状态可在将所述第二载台移动成设置在所述激光辐照单元与所述第一载台之间之前执行。在示例性实施例中，使所述对齐激光辐照可包括：产生多个对齐激光；以及使所述多个对齐激光的一部分辐照到所述移转基板，并透过所述第二载台使另一部分辐照到所述被移转基板。附图说明结合附图阅读以下说明，可更详细地理解示例性实施例，附图中：图1是示出根据示例性实施例的移转设备的立体图。图2是示出根据示例性实施例的第一载台及第一驱动单元的结构的立体图。图3是示出根据示例性实施例的第二载台及第二驱动单元的结构的立体图。图4是示出根据示例性实施例的激光辐照单元的结构的剖视图。图5是示出根据示例性实施例的形状调整器的结构的立体图。图6是示出根据示例性实施例调整移转基板的对齐的结构的视图。图7是示出根据示例性实施例的激光辐照单元及移动单元的结构的视图。图8是表示根据示例性实施例的移转方法的流程图。[符号的说明]100：移转设备110：第一载台120：第二载台130：激光辐照单元131：激光产生器<本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种移转设备，所述移转设备将设置到移转基板的芯片移转到被移转基板，所述移转设备包括：/n第一载台，被配置成支撑所述被移转基板；/n第二载台，被配置成支撑所述移转基板，使得所述移转基板面对所述被移转基板并与所述被移转基板间隔开；/n激光辐照单元，其至少一部分在所述移转基板及所述被移转基板彼此面对的方向上与所述第二载台间隔开，以使激光束辐照到所述移转基板；以及/n移动单元，被配置成支撑所述激光辐照单元，并在使所述激光束辐照的状态下移动所述激光辐照单元。/n

【技术特征摘要】
20191002 KR 10-2019-01222711.一种移转设备，所述移转设备将设置到移转基板的芯片移转到被移转基板，所述移转设备包括：
第一载台，被配置成支撑所述被移转基板；
第二载台，被配置成支撑所述移转基板，使得所述移转基板面对所述被移转基板并与所述被移转基板间隔开；
激光辐照单元，其至少一部分在所述移转基板及所述被移转基板彼此面对的方向上与所述第二载台间隔开，以使激光束辐照到所述移转基板；以及
移动单元，被配置成支撑所述激光辐照单元，并在使所述激光束辐照的状态下移动所述激光辐照单元。


2.根据权利要求1所述的移转设备，其中所述移动单元包括：
路径构件，在与所述移转基板及所述被移转基板彼此面对的所述方向交叉的方向上延伸；以及
移动构件，连接到所述激光辐照单元并被安装成能够沿着所述路径构件的延伸方向线性移动。


3.根据权利要求1所述的移转设备，还包括：
第一驱动单元，被配置成支撑所述第一载台，从而在多个方向上移动所述第一载台；以及
第二驱动单元，被配置成支撑所述第二载台，从而独立于所述第一载台在多个方向上移动所述第二载台。


4.根据权利要求1所述的移转设备，其中所述激光辐照单元包括：
激光产生器，被配置成产生激光束；
角度调整器，设置在所述激光产生器与所述第二载台之间，以调整所述激光束的辐照方向；
形状调整器，设置在所述激光产生器与所述角度调整器之间，以调整辐照到所述移转基板的所述激光束的形状；以及
壳体，被配置成支撑所述激光产生器、所述角度调整器及所述形状调整器，且能够通过所述移动单元移动。


5.根据权利要求4所述的移转设备，其中所述形状调整器包括：
掩模构件，具有多个图案孔；以及
选择构件，被配置成支撑所述掩模构件并在多个方向上移动所述掩模构件，以在所述多个图案孔中选择使所述激光束从中穿过的图案孔。


6.根据权利要求5所述的移转设备，其中所述掩模构件还设置有对齐孔，且
所述移转设备还包括：
拍摄单元，被配置成拍摄穿过所述对齐孔的所述激光束的形状及位置，所述形状及所述位置被辐照到所述移转基板及所述被移转基板中的至少一者；以及
对齐单元，与所述拍摄单元连接，以根据穿过所述对齐孔的所述激光束的被辐照的所述形状及所述位置来调整所述移转基板及所述被移转基板中的每一者的对齐状态。


7.根据权利要求6所述的移转设备，其中所述第二载台被移入及移出所述激光辐照单元与所述第一载台之间的空间，且
所述对齐单元调整所述被移转基板的所述对齐状态，然后调整所述移转基板的所述对齐状态。


8.根据权利要求6所述的移转设备，其中所述被移转基...

【专利技术属性】
技术研发人员：金戊一，白圣焕，金镐岩，金炯俊，
申请(专利权)人：AP系统股份有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR